JPH03181444A - 高純度テレフタル酸の製法 - Google Patents

高純度テレフタル酸の製法

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JPH03181444A
JPH03181444A JP1319829A JP31982989A JPH03181444A JP H03181444 A JPH03181444 A JP H03181444A JP 1319829 A JP1319829 A JP 1319829A JP 31982989 A JP31982989 A JP 31982989A JP H03181444 A JPH03181444 A JP H03181444A
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terephthalic acid
temperature
mixture
oxidization
reactor
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Yoshiaki Izumisawa
泉沢 義昭
Katsunori Fukuda
勝則 福田
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Mitsubishi Kasei Corp
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野〕 本発明は高純度テレフタル酸の製法に関するものであり
、詳しくは、直接、グリコール成分と反応させてポリエ
ステルを製造することのできる高純度テレフタル酸の製
法に関するものである。
[従来の技術] テレフタル酸はポリエステルの原料として有用であり、
通常、パラキシレンを酢酸溶媒中、重金属及び臭素を含
有する触媒の存在下、分子状酸素と反応させる所請、S
D法により製造されている。
しかしながら、通常、SD法により製造されるテレフタ
ル酸中には1000〜3000 ppmの4−カルボキ
シベンズアルデヒド(以下、4CBAと略称する)で代
表される不純物が含有されているため、そのまま、例え
ば、繊維用、フィルム用などのポリエステル原料として
使用することはできない。
そのため、従来、テレフタル酸をメタノールと反応させ
てジメチルテレフタレートとし精製したのち、グリコー
ル成分と反応させるか、又は、テレフタル酸を高温、高
圧下で水溶媒中に溶解し、例えば、パラジウムなどの貴
金属触媒と接触させて精製したのち、ポリエステル原料
とする方法が採られてきた。
しかしながら、これらの方法はいずれも、SD法による
粗テレフタル酸の製造プラントの他に、精製用の別のプ
ラントを必要とする問題があった。
そこで、近年、パラキシレンの酸化を行なうに際し、特
定の触媒、酸化条件、又は酸化方式を採用することによ
り、1つのプラントで直接、高純度テレフタル酸を製造
する技術が確立された。
例えば、1つのプラントで直接、4CBA含有量が50
0 ppm以下の高純度テレフタル酸を工業的に有利に
製造するための方法として、パラキシレンを酸化して得
たテレフタル酸を含有する混合物を、特定の条件下、2
35°C以上の高温で追酸化するプロセスを含む方法が
知られている。この方法はテレフタル酸の製造中に起る
酢酸溶媒の燃焼損失が少ないので、工業的に有利な方法
であり、得られるテレフタル酸は4CBA含有量が低く
、また、透過率も高いので、例えば、繊維用又はフィル
ム用などのポリエステルを製造するための原料として、
実用的に十分なものである。従って、この方法によ・り
得られたテレフタル酸は既に、商業的に広く利用されて
いる。
[発明が解決しようとする問題点] 本発明は上述の高温での追酸化における反応混合物と分
子状酸素との接触処理を一層、効率的に行ない、更に高
品質のテレフタル酸を得ようとするものであり、この目
的は、高温追酸化に供給する前の反応混合物中の溶媒の
一部をパージし、該混合物中のテレエフタル酸濃度を高
めることにより遠戚される。
[問題点を解決するための手段] すなわち、本発明の要旨は、パラキシレンを酢酸溶媒中
、重金属及び臭素よりなる触媒の存在下、180〜23
0℃の温度において分子状酸素によりパラキシレンの9
5重量%以上をテレフタル酸に酸化し、次いで、第1酸
化反応の温度よりも低い温度にて分子状酸素により低温
追酸化した混合物を、更に、235〜290℃の温度に
て分子状酸素により高温追酸化した後、この混合物を晶
析してテレフタル酸結晶を回収するテレフタル酸の連続
的製法において、 前記低温追酸化における反応器の酸化排ガスを凝縮して
得た凝縮液の一部を系外にパージすることにより、高温
追酸化に供給する混合物中のテレフタル酸の濃度を少な
くとも2重量%以上高めることを特徴とする高純度テレ
フタル酸の製法に存する。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明で対象となるテレフタル酸の製造法としては、パ
ラキシレンを酢酸溶媒中、重金属及び臭素を含有する触
媒の存在下、分子状酸素と反応させる方法が挙げられる
本発明では、先ず、通常、撹拌槽型の第1反応器でパラ
キシレンの95重量%以上、好ましくは98重量%以上
をテレフタル酸に酸化するが、その反応温度は180〜
230°C1好ましくは190〜210°Cであり、圧
力は数kg / cm2〜100 kg / am”、
好ましくは10〜30 kg / am”である。反応
温度があまり低いとパラキシレンを十分に酸化すること
ができず、逆に、あまり高すぎると高純度のテレフタル
酸が得られないぽかりか酢酸溶媒の燃焼損失が増大する
ので好ましくない。また、第1反応器での反応時間はパ
ラキシレンの95重量%以上がテレフタル酸に酸化でき
る時間が必要であり、通常、30〜200分、好ましく
は40〜150分程度である。この酸化反応においては
通常、生成したテレフタル酸は殆んど結晶として析出す
る。
本発明で使用する触媒は通常、コバルト−マンガン−臭
素の三元素を含むものであり、例えば、溶媒に対してコ
バルト金属として120〜600 ppm、好ましくは
150〜400 ppmのコバルト化合物、コバルトに
対してマンガン金属として0.3〜1.5倍のマンガン
化合物及び溶媒に対して臭素として500〜2000p
pm、好ましくは600〜1500 ppmの臭素化合
物が使用される。これらの化合物の具体例としては、酢
酸コバルト、ナフテン酸コバルトなどのコバルト化合物
、酢酸マンガン、ナフテン酸マンガンなどのマンガン化
合物及び臭化水素、臭化ナトリウム、臭化コバルト、臭
化マンガンなどの臭素化合物が挙げられる。なお、臭化
マンガン、臭化コバルトを使用した場合には、二種の触
媒成分を兼ねることもできる。
第1反応器に供給するパラキシレンと溶媒との割合は通
常、パラキシレンに対して2〜6重量倍である。なお、
酢酸溶媒中には例えば、20重量%以下の水を含有して
いてもよい。また、第1反応器から抜出される混合物中
のテレフタル酸濃度(ここでは、反応率が低い場合もあ
るので、未反応パラキシレン及び酸化中間体についても
、テレフタル酸として換算して計算)は、通常、20〜
50重量%であるが、本発明では比較的に高濃度である
30〜45重量%とじた場合に、特に効果的である。
第1反応器の液相中に供給する分子状酸素は通常空気で
よく、パラキシレンに対し分子状酸素として3〜100
モル倍の割合であり、通常、酸化排ガス中の酸素濃度が
1.5〜8容量%となるように供給される。
本発明の酸化反応に用いる反応器は、通常、上部に還流
冷却器を備えた撹拌槽型のものであり、液相部の適当な
位置に原料及び溶媒等の供給口と反応混合物の抜出口と
を有し、更に、酸化ガスの導入口を有する。そして、酸
化処理を終えた酸化排ガスは上部の還流冷却器で冷却し
、前記ガス中に含まれる酢酸溶媒及び副生水などの凝縮
成分を凝縮させ、この凝縮液を反応器に還流する。なお
、この際の凝縮液の一部を反応器に還流することなく、
系外にパージすることにより、反応器内の水分濃度を、
例えば、5〜15重量%と低濃度に調節することも可能
である。
また、本発明では第1反応器における温度、圧力、滞留
時間及び触媒組成などを調節することにより、反応母液
中17) 4CBA濃度を1000〜3000 ppm
に保持するのが好ましい。この反応母液中の4CBA濃
度は低いほど高純度のテレフタル酸を得ることができる
が、一方、そのような条件下で酸化反応を行なう場合は
、酢酸溶媒の燃焼は増大する方向にある。しかし、本発
明の方法においては、この反応母液中の4CBA濃度を
ある程度、高く保持しても、後述の追酸化により、高純
度のテレフタル酸を最終的に得ることができるので、第
1反応器での酢酸溶媒の燃焼を著しく抑制することがで
きる。
次に、第1反応器で得られたテレフタル酸を含有するス
ラリーを、通常、パラキシレンを供給することなく、画
工反応器の反応温度よりも0〜506C1好ましくは2
〜30°C低い温度で分子状酸素により低温追酸化を行
う。この低温追酸化では、主に、反応母液中の酸化中間
体が酸化されるが、この際の処理温度があまり低い場合
には、酸化中間体を十分に酸化することができない。こ
の追酸化処理の時間は通常、20〜90分、好ましくは
30〜60分である。また、この追酸化で使用する分子
状酸素は反応混合物中に含まれる被酸化物が少量である
ので、その供給量は第1反応器への供給量の1/10〜
1/ 1000であり、通常、酸化排ガス中の酸素濃度
が1〜6容量%となる量が好ましい。分子状酸素として
は通常、空気又は不活性ガスで希釈した空気が用いられ
る。
低温追酸化を行う反応器も第1反応器と同タイプの撹拌
槽型のものを用いるが、本発明においては、この工程に
おける酸化排ガスを凝縮して得た凝縮液の一部を系外に
パージすることにより、続く高温追酸化に供給する混合
物中のテレフタル酸濃度を高めることを必須の要件とす
る。すなわち、この工程で起る酸化反応は僅かで副生水
も極く少量であり、また、後段の高温追酸化工程の精製
効率を考えると溶媒量が多い方が望ましいと考えられて
いたため、従来、低温追酸化工程での凝縮液のパージは
実施されていなかったが、本発明によれば、この凝縮液
をパージすることにより、高温追酸化工程での混合物中
のテレフタル酸濃度を高くした方が、むしろ、効果的な
高温追酸化ができ、特に、重合した場合の色調が良好な
高品位テレフタル酸が得られることを見い出したのであ
る。
前記凝縮液のパージ量は、凝縮液を全くパージしない場
合に対して、高温追酸化に供給する混合物、すなわち、
低温追酸化反応器がら抜出される混合物中のテレフタル
酸濃度が相対的に2重量%以上、好ましくは5〜10重
量%、高くなるように調節する。そのためには、通常、
低温追酸化工程に供給した全洛媒量の10〜30重量%
に相当する凝縮液を系外にパージすることが必要である
。しかし、その結果、混合物中のテレフタル酸濃度が5
5重量%を超えると、混合物の移送処理などに不都合を
きたすので、通常、濃縮後の混合物中のテレフタル酸濃
度は35〜55重量%、好ましくは40〜50重量%の
範囲とするのが適当である。上述のテレフタル酸濃度の
アップが少ない場合には、続く高温追酸化工程での改善
効果が低く、また、この濃度をあまり高めようとすると
、多量の凝縮液を生成させる必要があり、そのために低
温追酸化工程での熱バランスを保つのが難しくなる。
低温追酸化後のテレフタル酸を含有するスラリーは、次
いで、通常、パラキシレンを供給することなく、235
〜290°C1好ましくは240〜280℃の温度で、
分子状酸素により追酸化を行うが、この高温追酸化処理
では、テレフタル酸粒子中の酸化中間体が母液中に抽出
され、そして酸化される。
この際の処理温度はあまり低いとテレフタル酸粒子中の
酸化中間体が良好に抽出されず、また、あまり高いとエ
ネルギー的に経済的でないばかりか、着色不純物が生成
する恐れがある。反応圧力は反応混合物を液相に保持で
きる圧力が必要であり、通常、工業的には30〜100
 kg / cm2である。また、滞留時間は5〜12
0分、好ましくは10〜60分である。
この高温追酸化の工程では反応混合物中に含まれる被酸
化物が極めて少量であり、しかも、高温であるため、分
子状酸素の供給量をあまり多くすると酢酸溶媒の燃焼が
増大する。したがって、通常、分子状酸素の供給量は反
応混合物中のテレフタル酸に対して、0.003〜0.
3倍モル、好ましくは0.01〜0.1倍モルであり、
また、酸化排ガス中の酸素濃度が実質的にゼロ、例えば
、0.5容量%以下となるようにするのが好ましい。こ
こで用いる分子状酸素は通常、空気又は不活性ガスで希
釈した空気が挙げられる。
高温追酸化の反応器としては、第1反応器と同タイプの
撹拌槽型のものが使用されるが、低温追酸化後の混合物
を高温追酸化するためには、通常、前記混合物をポンプ
により高圧部に圧入し、所定温度に加熱する必要がある
が、この加熱処理は例えば、モノチューブ型又はマルチ
チューブ型の熱交換器により行なうことができる。なお
、追酸化のための分子状酸素をこの熱交換器内に供給し
、高温追酸化処理を行ってもよい。
高温追酸化後の混合物は、常法に従って晶析しテレフタ
ル酸の結晶を析出させるが、晶析処理は、通常、2〜5
段の多段で実施し、徐々に降圧、降温するのが望ましい
。この際、160〜230°Cに降温された晶析混合物
に対し、分子状酸素の接触処理を行うと、得られるテレ
フタル酸の品質が一層、向上するので好ましい。この処
理における分子状酸素の使用量は、通常、混合物中のテ
レフタル酸に対して、0.003〜0.3倍モルであり
、しかも、排ガス中の酸素濃度が2〜8容量%となるよ
うな量である。また、分子状酸素としては、通常、空気
又は不活性ガスで希釈した空気である。
晶析処理を終えた混合物は通常、遠心分離などの固液分
離によってテレフタル酸の結晶を回収することができる
。テレフタル酸の結晶は必要に応じて、例えば、水又は
酢酸などにて洗浄したのち乾燥処理され製品となる。一
方、反応母液は通常、蒸留塔に送られ生成水、触媒、副
生物を除去し酢酸を回収する。また、本発明では反応母
液中の副生物、特に、酸化反応を妨害する不純物が極め
て少ないので、反応母液の10〜80重量%をそのまま
第1反応器ヘリサイクルすることもできる。
本発明によれば、4CBA含有量が500 ppm以下
の高純度テレフタル酸を1つのプラントにおいて製造す
る際、ポリエステルを製造したときの色調が特に良好な
、高純度のテレフタル酸を製造することができるので、
工業的且つ経済的に極めて有利なものである。
[実施例] 次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定され
るものではない。
なお、実施例中、「部」とあるのは「重量部」を表わす
比較例1 第1図に示すフローシートに従ってテレフタル酸を連続
的に製造した。
還流冷却装置、撹拌装置、原料及び溶媒送入口、空気導
入口及び反応スラリー抜出口を備えた耐圧チタン製の第
1反応器1にパイプ8よりパラキシレン1部、水5%を
含む酢酸4.5部と酢酸コバルト(4水和物)0.00
36部と酢酸コバルト(4水和物)に対して1.07重
量倍の酢酸マンガン(4水和物)、酢酸コバルト(4水
和物)に対して1,51重量倍の臭化水素酸(47%水
溶液)からなる混合物を供給し、滞留時間70分、温度
195°C1圧力15 kg / cm” Gの条件下
、酸化ガスとして空気を用い、酸化反応の排ガス中の0
2濃度が6 vo1%となるように、パイプ9より供給
し、パイプ10より還流液1.5部を抜き出し、反応器
1中母液中の水分濃度を約10%にコントロールしパラ
キシレンの液相酸化反応を行なった。
第1反応器1からの混合物はパイプ13より第1反応器
1と同様の装備を持つ第2反応器2に連続的に供給した
。第2反応器2では第1反応器に比べ106C低い温度
、同じ< 3kg/cm’低い圧力、滞留時間30分の
条件下、酸化反応の排ガス中の02濃度が4vo1%と
なるようにパイプ11から空気を供給し低温追酸化を行
なった。なお、この際、第2反応器2からの酸化排ガス
を凝縮して得た凝縮液の全量は該反応器に還流した。
第2反応器2からの混合物はパイプ14を通り、次いで
、ポンプ3により圧力55 kg / cm2Gに昇圧
したのち、パイプ15の途中で、パイプ17′より空気
0.07部を加え、更に、モノチューブ型加熱器4に供
給し、混合物の温度を270°Cまで昇温し、更に、加
熱器4を出た混合物はパイプ16を通って第1反応器と
同型の撹拌槽5に供給し、パイプ17゛より空気0.0
3部を供給し温度270°C1圧力55 kg / a
m2G、滞留時間30分間の条件下、高温追酸化を行な
った。
次いで、高温追酸化を終えた混合物を3段(晶析器6 
、6’、 6つで順次、常圧まで冷却晶析した後、これ
を遠心分離器7で濾過してテレフタル酸結晶を回収した
。また、第1晶析器6は200℃111kg / cm
2Gの条件下であり、ここでパイプ18より空気を排ガ
ス中の02濃度が4 vo1%となるように供給した。
このようにして回収したテレフタル酸結晶につき、透過
率、4CBA含有量及びこれを用いてポリエステルを製
造した場合のポリマー色調を測定したところ、第1表に
示す結果を得た。
実施例1 比較例1の方法において、第2反応器2のパイプ12よ
りほぼ全量の還流液を抜出し反応混合物中のテレフタル
酸の濃度を第1表に示す値となるようにし、各反応器1
.2.5.6の反応容積を比較例1の場合と合せ、温度
、圧力、空気供給量を比較例1と同条件として酸化反応
を行なった場合の結果を第1表に示す。(なお、常圧晶
析器6°での母液中の触媒濃度は比較例1に比べ約2割
高く、母液中の水濃度は約9重量%であった。) 比較例2 比較例1の方法において、反応混合物中のテレフタル酸
の濃度が39重量%となるようにし、また、母液中の溶
媒濃度及び水濃度が比較例1と同じとなるように酢酸溶
媒、触媒供給量、還流液抜出し量を調節し、しかも、各
反応器1.2.5.6の反応容積を比較例1の場合と合
せ、温度、圧力、空気供給量を比較例1と同条件として
酸化反応を行なった場合の結果を第1表に示す。
実施例2 比較例2の方法において、実施例1と同様の方法にて、
第2反応器以降の反応混合物中のテレフタル酸の濃度を
第1表に示す値となるようにして酸化反応を行なった場
合の結果を第1表に示す。
比較例3 比較例1の方法において、母液中の触媒濃度を1.2倍
に、水濃度を9重量%となるように酢酸溶媒、触媒供給
量、還流液抜出し量を調節して酸化反応を行なった場合
の結果を第1表に示す。
なお、この方法で得られたテレフタル酸品質としては実
施例1と同レベルであったが、母液中の触媒濃度の増加
のため、第1反応器における酢酸溶媒の燃焼量は実施例
1(及び比較例1)の場合に対して、約3割増となり、
また触媒使用量の増加、さらには母液量が多いためのエ
ネルギー使用量の差があり実施例1が有利であることは
明らがである。
第1表 *1)常圧晶析器のテレフタル酸濃度より高温追酸化反
応器内のテレフタル酸濃度を推定した。
*2)高温追酸化反応器内のテフタル酸スラリーから低
温追酸化反応器での還流液抜出し量を差し引いた推算値
*3)テレフタル酸7.5gを50m1の2N−KOH
に溶解した溶液の、光路長10mmの石英セルによる波
長340 nmでの透過率。
*4)4−カルボキシベンズアルデヒドの含有量。
*5)ポリマー色調(b値)の測定方法。
テレフタル酸1.5モルとエチレングリコール3.75
モルを二酸化ゲルマニウム0.00028モルと正リン
酸0.00029モルの存在下、235°C,2,5k
g/cm”Gの条件で120分間エステル化反応を行な
い、次いで、45分間で降圧と昇温を行ない、280℃
11mmHgの条件で120分間重合を行なった。
このようにして得たポリマーのチップを4゜ 石英セルに充てんし、色差計(東京電色(株)製、TC
−55D型)にてb値を測定した。
(b値は十が黄色味、−が青色味を意味し、ポリマー色
調としては数値が小さい方が良好なものである。)
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の比較例1〜3及び実施例1〜2で使用
した反応装置を示すフローシートである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)パラキシレンを酢酸溶媒中、重金属及び臭素より
    なる触媒の存在下、180〜230℃の温度において分
    子状酸素によりパラキシレンの95重量%以上をテレフ
    タル酸に酸化し、次いで、第1酸化反応の温度よりも低
    い温度にて分子状酸素により低温追酸化した混合物を、
    更に、235〜290℃の温度にて分子状酸素により高
    温追酸化した後、この混合物を晶析してテレフタル酸結
    晶を回収するテレフタル酸の連続的製法において、 前記低温追酸化における反応器の酸化排ガスを凝縮して
    得た凝縮液の一部を系外にパージすることにより、高温
    追酸化に供給する混合物中のテレフタル酸の濃度を少な
    くとも2重量%以上高めることを特徴とする高純度テレ
    フタル酸の製法。
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