JPH03177819A - 液晶素子 - Google Patents
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- JPH03177819A JPH03177819A JP1316364A JP31636489A JPH03177819A JP H03177819 A JPH03177819 A JP H03177819A JP 1316364 A JP1316364 A JP 1316364A JP 31636489 A JP31636489 A JP 31636489A JP H03177819 A JPH03177819 A JP H03177819A
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は強誘電性液晶を用いた液晶素子に関するしので
ある。
ある。
強誘電性液晶を用いた液晶素子(以下、強誘電性液晶素
子という)は、対向配置された一対の透明基板の対向面
にそれぞれ透明電極と液晶分子を層方線方向に一軸配向
するための配向用誘電体層を形威し、この一対の透明基
板間に強誘電性液晶を封入したもので、この強誘電性液
晶素子は、その液晶層厚が約2.5μ−以下において双
安定性をもち、ある強さの電界に対してしきい値特性を
示す。この強誘電性液晶素子は、パルス幅の大きいパル
ス電界もしくは直流電界に対するしきい値が高いほど双
安定性がよく、メモリ性が強いとされている。
子という)は、対向配置された一対の透明基板の対向面
にそれぞれ透明電極と液晶分子を層方線方向に一軸配向
するための配向用誘電体層を形威し、この一対の透明基
板間に強誘電性液晶を封入したもので、この強誘電性液
晶素子は、その液晶層厚が約2.5μ−以下において双
安定性をもち、ある強さの電界に対してしきい値特性を
示す。この強誘電性液晶素子は、パルス幅の大きいパル
ス電界もしくは直流電界に対するしきい値が高いほど双
安定性がよく、メモリ性が強いとされている。
この強誘電性液晶素子の双安定性、つまりメモリ性を決
定する要囚としては、液晶と基板昇曲との相互作用が重
要な役割をもっていると考えられている。
定する要囚としては、液晶と基板昇曲との相互作用が重
要な役割をもっていると考えられている。
しかしながら、従来の強誘電性液晶素子は、均一な配向
を得るために配向規制力の強い配向用誘電体層を一対の
基板にそれぞれ形成して液晶分子を層方線方向に一軸配
向させた場合、この配向用誘電体層の配向規制力が強す
ぎて、印加された電界に対する液晶の動作特性が悪くな
ってしまうという問題がある。
を得るために配向規制力の強い配向用誘電体層を一対の
基板にそれぞれ形成して液晶分子を層方線方向に一軸配
向させた場合、この配向用誘電体層の配向規制力が強す
ぎて、印加された電界に対する液晶の動作特性が悪くな
ってしまうという問題がある。
このため従来は、上記配向用誘電体層として、液晶の動
作特性を低下させない程度の配向規制力をもつ酸化シリ
コン(310)等の斜方蒸着層を用いているが、これで
は均一な配向を得ることができず、また十分高いしきい
値電界を得ることができないため、双安定性をよくして
十分なメモリ性をもたせた液晶素子が得られなかった。
作特性を低下させない程度の配向規制力をもつ酸化シリ
コン(310)等の斜方蒸着層を用いているが、これで
は均一な配向を得ることができず、また十分高いしきい
値電界を得ることができないため、双安定性をよくして
十分なメモリ性をもたせた液晶素子が得られなかった。
また、上記強誘電性液晶素子はその液晶層厚が約2.5
μ厘以下と極めて薄く、従来の強誘電性液晶素子では、
基板面に形成されている透明電極と液晶層との間に介在
しているのは配向用誘電体層だけであるため、液晶層中
に微細な導電性の異物が混入していると、一対の基板の
電極間にショートが発〈Lするという問題もあった。
μ厘以下と極めて薄く、従来の強誘電性液晶素子では、
基板面に形成されている透明電極と液晶層との間に介在
しているのは配向用誘電体層だけであるため、液晶層中
に微細な導電性の異物が混入していると、一対の基板の
電極間にショートが発〈Lするという問題もあった。
本発明は上記のような実情にかんがみてなされたもので
あって、その目的とするところは、強誘電性液晶を用い
た液晶素子として、電界に対する液晶の動作特性を低下
させることなく、しきい値電界を高くして十分なメモリ
性をもたせることができるとともに、液晶層中に導電性
異物が混入している場合でも一対の基板の電極間のショ
ートの発生を確実に防止することができるものを提供す
ることにある。
あって、その目的とするところは、強誘電性液晶を用い
た液晶素子として、電界に対する液晶の動作特性を低下
させることなく、しきい値電界を高くして十分なメモリ
性をもたせることができるとともに、液晶層中に導電性
異物が混入している場合でも一対の基板の電極間のショ
ートの発生を確実に防止することができるものを提供す
ることにある。
本発明の液晶素子は、対向配置された一対の透明基板の
対向面にそれぞれ透明電極と液晶分子を層方線方向に−
◆自配向するための配向用誘電体層を形成し、この一対
の透明基板間に強誘電性液晶を封入した液晶素子におい
て、少なくとも一方の基板の前記配向用誘電体層の下に
、表面エネルギーの極性力成分が20dyn/em以上
の下地誘電体層を形成したことを特徴とするものである
。
対向面にそれぞれ透明電極と液晶分子を層方線方向に−
◆自配向するための配向用誘電体層を形成し、この一対
の透明基板間に強誘電性液晶を封入した液晶素子におい
て、少なくとも一方の基板の前記配向用誘電体層の下に
、表面エネルギーの極性力成分が20dyn/em以上
の下地誘電体層を形成したことを特徴とするものである
。
なお、前記配向用誘電体層は、酸化シリコン等の無機物
質の斜方蒸着層とするのが望ましい。
質の斜方蒸着層とするのが望ましい。
すなわち、本発明の液晶素子は、少なくとも一方の基板
の配向用誘電体層の下に、表面エネルギーの極性力成分
が20dyn/cm以上と高い下地誘電体層を形成する
ことにより、この下地誘電体層で前記配向用誘電体層の
配向規制力を補ってやるようにしたものであり、このよ
うにすれば、しきい値電Wを高くして、双安定性つまり
メモリ性を向上させることができる。また、上記下地誘
電体層は配向用誘電体層の下にあるため、液晶が直接接
するのは配向用誘電体層であるから、液晶分子の配向規
制力が強すぎて電界に対する液晶の動作特性が悪くなっ
てしまうことはない。したがって本発明の液晶素子によ
れば、電界に対する液晶の動作特性を低下させることな
く、しきい値電界を高くして十分なメモリ性をもたせる
ことができる。しかも、本発明の液晶素子では、少なく
とも一方の基板の透明電極と液晶層との間に上記下地誘
電体層と配向用誘電体層との二層の誘電体層が介在して
いるから、液晶層中に導電性異物が混入している場合で
も一対の基板の電極間のショートの発生を確実に防止す
ることができる。
の配向用誘電体層の下に、表面エネルギーの極性力成分
が20dyn/cm以上と高い下地誘電体層を形成する
ことにより、この下地誘電体層で前記配向用誘電体層の
配向規制力を補ってやるようにしたものであり、このよ
うにすれば、しきい値電Wを高くして、双安定性つまり
メモリ性を向上させることができる。また、上記下地誘
電体層は配向用誘電体層の下にあるため、液晶が直接接
するのは配向用誘電体層であるから、液晶分子の配向規
制力が強すぎて電界に対する液晶の動作特性が悪くなっ
てしまうことはない。したがって本発明の液晶素子によ
れば、電界に対する液晶の動作特性を低下させることな
く、しきい値電界を高くして十分なメモリ性をもたせる
ことができる。しかも、本発明の液晶素子では、少なく
とも一方の基板の透明電極と液晶層との間に上記下地誘
電体層と配向用誘電体層との二層の誘電体層が介在して
いるから、液晶層中に導電性異物が混入している場合で
も一対の基板の電極間のショートの発生を確実に防止す
ることができる。
以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第1図は本実施例の液晶素子の一部分の断面を示したも
ので、図中1a、lbは互いに対向配置された一対の透
明基板(例えばガラス基板)であり、この両基板1a、
lbの対向面にはそれぞれITO等からなる透明電極2
a、2bが形成されている。そして、上記両基板1a、
lbの電極形成面上にはそれぞれ、表面エネルギーの極
性力成分が20dyn/cm以上の下地誘電体層3a、
3bが基板はぼ全面にわたって形成されており、液晶分
子を層方線方向に一軸配向するための配向用誘電体層4
a、4bは前記下地誘電体層3a、3bの上にその全面
にわたって形成されている。
ので、図中1a、lbは互いに対向配置された一対の透
明基板(例えばガラス基板)であり、この両基板1a、
lbの対向面にはそれぞれITO等からなる透明電極2
a、2bが形成されている。そして、上記両基板1a、
lbの電極形成面上にはそれぞれ、表面エネルギーの極
性力成分が20dyn/cm以上の下地誘電体層3a、
3bが基板はぼ全面にわたって形成されており、液晶分
子を層方線方向に一軸配向するための配向用誘電体層4
a、4bは前記下地誘電体層3a、3bの上にその全面
にわたって形成されている。
前記下地誘電体層3a、3bは、酸化ジルコニウム系、
酸化チタン(T102)系等の金II4酸化物の一部分
もしくは複数成分からなる誘電体や、SiO2(酸化シ
リコン)またはSl 02と金属酸化物との混合物から
なる誘電体で形成されている。この下地誘電体層3a、
3bの層厚は約500Åである。
酸化チタン(T102)系等の金II4酸化物の一部分
もしくは複数成分からなる誘電体や、SiO2(酸化シ
リコン)またはSl 02と金属酸化物との混合物から
なる誘電体で形成されている。この下地誘電体層3a、
3bの層厚は約500Åである。
また、前記配向用誘電体層4a、4bは、無機物質、例
えば酸化シリコン(SIO)の斜方蒸着層とされており
、この配向用誘電体層4a、4bの層厚は500λ〜2
000Å(好ましくは1000入)である。なお、この
配向用誘電体層4a、4bの蒸着角はいずれも基板1a
、lb面の法線に対して約85″であり、両配向用誘電
体層4a、4bの蒸着方向は互いに平行である。
えば酸化シリコン(SIO)の斜方蒸着層とされており
、この配向用誘電体層4a、4bの層厚は500λ〜2
000Å(好ましくは1000入)である。なお、この
配向用誘電体層4a、4bの蒸着角はいずれも基板1a
、lb面の法線に対して約85″であり、両配向用誘電
体層4a、4bの蒸着方向は互いに平行である。
そして、上記一対の基板1a、lbは、その電極形成血
を互いに対向させて図示しない枠状のシール材を介して
重合接着されており、この両基板la、lb間には、例
えばカイラルスメクチック* C相の強誘電性液晶(SM C*)5が封入されており
、この強誘電性液晶5の分子は、上紀両配向用誘電体層
4a、4bの配向規制力によって層方線方向に一軸配向
されている。なお、この液晶層の層厚(両基板1a、l
b面の配向用誘電体層4a、4b間の間隔)は、2.2
μm 〜2.5μmである。
を互いに対向させて図示しない枠状のシール材を介して
重合接着されており、この両基板la、lb間には、例
えばカイラルスメクチック* C相の強誘電性液晶(SM C*)5が封入されており
、この強誘電性液晶5の分子は、上紀両配向用誘電体層
4a、4bの配向規制力によって層方線方向に一軸配向
されている。なお、この液晶層の層厚(両基板1a、l
b面の配向用誘電体層4a、4b間の間隔)は、2.2
μm 〜2.5μmである。
この液晶素子は、その基板1a、lbの配向用誘電体層
4a、4bの下に、表面エネルギーの極性力成分が20
dyn/cm以上と高い下地X電体層3a。
4a、4bの下に、表面エネルギーの極性力成分が20
dyn/cm以上と高い下地X電体層3a。
3bを形成することにより、この下地誘電体層3a、3
bで前記配向用誘電体層4a、4bの配向規制力を補っ
てやるようにしたものであり、この液晶素子のしきい値
電界特性は、配向用誘電体層4a、4bとその下の下地
誘電体層3a、3bの表面エネルギーの極性力成分によ
って決定される。
bで前記配向用誘電体層4a、4bの配向規制力を補っ
てやるようにしたものであり、この液晶素子のしきい値
電界特性は、配向用誘電体層4a、4bとその下の下地
誘電体層3a、3bの表面エネルギーの極性力成分によ
って決定される。
次に、上記液晶素子のしきい値電界特性を、下記の[表
1]に示した誘電体で下地誘電体層3a。
1]に示した誘電体で下地誘電体層3a。
3bを形成し、液晶として下記の[表2]の特性をもつ
強誘電性液晶を封入した、実施例1〜実施例4の各素子
について調べた結果について説明する。
強誘電性液晶を封入した、実施例1〜実施例4の各素子
について調べた結果について説明する。
[
表
]
[
表
]
上記火施例1〜火施例4の各素子・のしきい値電界を、
ff12図に示したテスト用の双極性パルス電界の印加
によって測定した。なお第2図において、E、はりセッ
トパルス?11iW、Eはセットパルス電界であり、T
はリセットパルス電界E。とセットパルス電界Eとの印
加周期である。τはパルス幅である。
ff12図に示したテスト用の双極性パルス電界の印加
によって測定した。なお第2図において、E、はりセッ
トパルス?11iW、Eはセットパルス電界であり、T
はリセットパルス電界E。とセットパルス電界Eとの印
加周期である。τはパルス幅である。
第3図は、上記実施例1〜実施例4の各素子の印加パル
スのパルス幅τ [μsec]に対するしきい値電界E
Lh[V/μII]を、第2図のテスト用双極性パルス
電界の印加によって相定した結果を示しており、ここで
は、リセットパルス電界E0[V/μl]によってリセ
ットされたメモリ状態での光の透過率を50%変化させ
るのに必要な電界をしきい値電界Eth[V/μm]と
して定義している。
スのパルス幅τ [μsec]に対するしきい値電界E
Lh[V/μII]を、第2図のテスト用双極性パルス
電界の印加によって相定した結果を示しており、ここで
は、リセットパルス電界E0[V/μl]によってリセ
ットされたメモリ状態での光の透過率を50%変化させ
るのに必要な電界をしきい値電界Eth[V/μm]と
して定義している。
この第3図のように、上記実施例1〜実施例4の各素子
は、いずれも、パルス電界に対するしきい値が高く、十
分な双安定性をもっている。
は、いずれも、パルス電界に対するしきい値が高く、十
分な双安定性をもっている。
このしきい値電界特性は、次式で表される関係を満たし
ている。
ている。
E th−E th + b /τ
(ここで、Eth、bは定数)
また第4図は、上記実施例の液晶素子のしきい超電界を
、パルス幅τ [μ5cclが十分大きな印加パルス(
τ−oo)について求め、このしきい超電界ELh″’
[V/μm]を下地誘電体層3a、3bの表面エネルギ
ーの極性力成分子p [dyn/cm]に対してプロッ
トした図であり、この図のように、上記しきい超電界E
Lh″′ [V/μ■]は、下地誘電体層3a、3bの
表面エネルギーの極性力成分子P[dyn/c+alを
大きくするほど高くなる。このしきい超電界E th”
[V /μ■]が高いことは液晶5の双極性が高く、
メモリ性が強いことを示しており、上記下地誘電体層3
a、3bの表面エネルギーの極性力成分が20dyn/
Cm以上であれば、十分なメモリ性をもつ。なお、上記
下地誘電体層3a、3bの表面エネルギーの極性力成分
は高いほどよく、25dyn/cm以上、あるいは30
dyn/c+m以上とすれば、より効果的である。
、パルス幅τ [μ5cclが十分大きな印加パルス(
τ−oo)について求め、このしきい超電界ELh″’
[V/μm]を下地誘電体層3a、3bの表面エネルギ
ーの極性力成分子p [dyn/cm]に対してプロッ
トした図であり、この図のように、上記しきい超電界E
Lh″′ [V/μ■]は、下地誘電体層3a、3bの
表面エネルギーの極性力成分子P[dyn/c+alを
大きくするほど高くなる。このしきい超電界E th”
[V /μ■]が高いことは液晶5の双極性が高く、
メモリ性が強いことを示しており、上記下地誘電体層3
a、3bの表面エネルギーの極性力成分が20dyn/
Cm以上であれば、十分なメモリ性をもつ。なお、上記
下地誘電体層3a、3bの表面エネルギーの極性力成分
は高いほどよく、25dyn/cm以上、あるいは30
dyn/c+m以上とすれば、より効果的である。
すなわち、上記実施例の液、III!I素子は、その基
板la、lbの配向用誘電体層4a、・4bの下に、表
面エネルギーの極性力成分が20dyn/clI以上と
高い下地誘電体層3a、3bを形成することにより、こ
の下地誘電体層3a、3bで前記配向用誘電体層4a、
4bの配向規制力を補ってやるようにしたものであり、
このようにすれば、上述したようにしきい超電界を高く
して、双安定性つまりメモリ性を向上させることができ
る。
板la、lbの配向用誘電体層4a、・4bの下に、表
面エネルギーの極性力成分が20dyn/clI以上と
高い下地誘電体層3a、3bを形成することにより、こ
の下地誘電体層3a、3bで前記配向用誘電体層4a、
4bの配向規制力を補ってやるようにしたものであり、
このようにすれば、上述したようにしきい超電界を高く
して、双安定性つまりメモリ性を向上させることができ
る。
また、上記下地誘電体層3a、3bは配向用誘電体層4
a、4bの下にあるため、液晶5が直接接するのは配向
用誘電体層3a、3bであるから、液晶分子の配向規制
力が強すぎて電界に対する液晶5の動作特性が悪くなっ
てしまうことはない。
a、4bの下にあるため、液晶5が直接接するのは配向
用誘電体層3a、3bであるから、液晶分子の配向規制
力が強すぎて電界に対する液晶5の動作特性が悪くなっ
てしまうことはない。
したがってこの液晶素子によれば、電界に対する液晶5
の動作特性を低下させることなく、しきい1il!電昇
を高くして十分なメモリ性をもたせることができる。
の動作特性を低下させることなく、しきい1il!電昇
を高くして十分なメモリ性をもたせることができる。
しかも、上記実施例の液晶素子では、基板1a。
1bの透明電極2a、2bと液晶層との間に上記下地誘
電体層3a、3bと配向用誘電体層4a。
電体層3a、3bと配向用誘電体層4a。
4bとの二層の誘電体層が介在しているから、液晶層中
に導電性異物が混入している場合でも両基板1a、lb
の電極’;la、2b間のショートの発生を確実に防止
することができる。
に導電性異物が混入している場合でも両基板1a、lb
の電極’;la、2b間のショートの発生を確実に防止
することができる。
なお、上記実施例では、一対の基板1a、lbの配向用
誘電体層4a、4bの下にそれぞれ下地誘電体層3a、
3bを形成しているが、上記下地誘電体層は、一対の基
板1a、lbのうち、いずれか一方の基板の配向用誘電
体層の下にだけ形成してもよく、このようにしても、上
記実施例と同様な効果を得ることができる。
誘電体層4a、4bの下にそれぞれ下地誘電体層3a、
3bを形成しているが、上記下地誘電体層は、一対の基
板1a、lbのうち、いずれか一方の基板の配向用誘電
体層の下にだけ形成してもよく、このようにしても、上
記実施例と同様な効果を得ることができる。
また、配向用誘電体層4a、4bは、上記実施例のよう
に酸化シリコン(St O)の斜方蒸着層とするのが望
ましいが、この配向用誘電体層4 a r4bは、酸化
シリコン以外の無機物質の斜方蒸着層としても、また有
機物質の膜をラビング処理して一軸配向性をもたせたも
のとしてもよい。
に酸化シリコン(St O)の斜方蒸着層とするのが望
ましいが、この配向用誘電体層4 a r4bは、酸化
シリコン以外の無機物質の斜方蒸着層としても、また有
機物質の膜をラビング処理して一軸配向性をもたせたも
のとしてもよい。
本発明の液晶素子は、少なくとも一方の基板の前記配向
用誘電体層の下に、表面エネルギーの極性力成分が20
dyn/am以上の下地誘電体層を形成したものである
から、電光に対する液晶の動作特性を低下させることな
く、しきい超電界を高くして十分なメモリ性をもたせる
ことができるとともに、液晶層中に導電性異物が混入し
ている場合でも一対の基板の電極間のショートの発生を
確実に肋11することができる。
用誘電体層の下に、表面エネルギーの極性力成分が20
dyn/am以上の下地誘電体層を形成したものである
から、電光に対する液晶の動作特性を低下させることな
く、しきい超電界を高くして十分なメモリ性をもたせる
ことができるとともに、液晶層中に導電性異物が混入し
ている場合でも一対の基板の電極間のショートの発生を
確実に肋11することができる。
第1図〜第4図は本発明の一実施例を示したもので、第
1図は液晶素子の一部分の断1Iili図、第2図はテ
スト用双極性パルス電界の波形図、第3図は印加パルス
のパルス幅に対するしきい超電界特性図、第4図は下地
誘電体層の表面エネルギーの極性力成分に対するしきい
超電界特性図である。 1a、1b−・一基板、2a、2b−・・電極、3a。 3b・・・下地誘電体層、4a、4b・・・配向用誘電
体層、5・・・強誘電性液晶。
1図は液晶素子の一部分の断1Iili図、第2図はテ
スト用双極性パルス電界の波形図、第3図は印加パルス
のパルス幅に対するしきい超電界特性図、第4図は下地
誘電体層の表面エネルギーの極性力成分に対するしきい
超電界特性図である。 1a、1b−・一基板、2a、2b−・・電極、3a。 3b・・・下地誘電体層、4a、4b・・・配向用誘電
体層、5・・・強誘電性液晶。
Claims (2)
- (1)対向配置された一対の透明基板の対向面にそれぞ
れ透明電極と液晶分子を層方線方向に一軸配向するため
の配向用誘電体層を形成し、この一対の透明基板間に強
誘電性液晶を封入した液晶素子において、少なくとも一
方の基板の前記配向用誘電体層の下に、表面エネルギー
の極性力成分が20dyn/cm以上の下地誘電体層を
形成したことを特徴とする液晶素子。 - (2)前記配向用誘電体層は、酸化シリコン等の無機物
質の斜方蒸着層であることを特徴とする請求項1に記載
の液晶素子。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1316364A JPH03177819A (ja) | 1989-12-07 | 1989-12-07 | 液晶素子 |
US07/621,356 US5153755A (en) | 1989-12-07 | 1990-12-03 | Ferroelectric liquid crystal optical device having dielectric layers with large surface energy and high polar power component |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1316364A JPH03177819A (ja) | 1989-12-07 | 1989-12-07 | 液晶素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03177819A true JPH03177819A (ja) | 1991-08-01 |
Family
ID=18076277
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1316364A Pending JPH03177819A (ja) | 1989-12-07 | 1989-12-07 | 液晶素子 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5153755A (ja) |
JP (1) | JPH03177819A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5400159A (en) * | 1991-08-06 | 1995-03-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device having alignment film with particular surface energy difference before and after rubbing |
US5576864A (en) * | 1984-07-11 | 1996-11-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Chiral smectic liquid crystal device having fluorine-containing polymeric alignment film with predetermined refractive index anisotropy after rubbing |
JP2784700B2 (ja) * | 1990-08-13 | 1998-08-06 | キヤノン株式会社 | 強誘電性液晶素子 |
US5327272A (en) * | 1991-03-27 | 1994-07-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical modulation element |
JP2655946B2 (ja) * | 1991-04-04 | 1997-09-24 | シャープ株式会社 | 液晶表示素子の製造方法 |
US5650797A (en) * | 1991-11-11 | 1997-07-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display |
US5592190A (en) * | 1993-04-28 | 1997-01-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display apparatus and drive method |
JP3471851B2 (ja) * | 1993-05-06 | 2003-12-02 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置 |
EP0683417A1 (en) * | 1994-05-17 | 1995-11-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device and liquid crystal apparatus |
DE69526291D1 (de) * | 1994-08-04 | 2002-05-16 | Canon Kk | Flüssigkristallvorrichtung |
JPH10511192A (ja) * | 1995-10-16 | 1998-10-27 | フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ | 光変調デバイス及び光変調デバイスを具えるディスプレイ |
US12019345B2 (en) | 2020-09-21 | 2024-06-25 | The Hong Kong University Of Science And Technology | High-contrast ferroelectric liquid crystal cell |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4813767A (en) * | 1980-01-08 | 1989-03-21 | Clark Noel A | Surface stabilized ferroelectric liquid crystal devices |
US4840463A (en) * | 1987-08-19 | 1989-06-20 | Clark Noel A | Surface stabilized ferroelectric liquid crystal devices |
US4367924A (en) * | 1980-01-08 | 1983-01-11 | Clark Noel A | Chiral smectic C or H liquid crystal electro-optical device |
US4563059A (en) * | 1983-01-10 | 1986-01-07 | Clark Noel A | Surface stabilized ferroelectric liquid crystal devices |
JPS58173718A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-12 | Hitachi Ltd | 液晶光変調素子およびその製造方法 |
JPS61183624A (ja) * | 1985-02-08 | 1986-08-16 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
JPS61186930A (ja) * | 1985-02-14 | 1986-08-20 | Sharp Corp | 液晶表示素子 |
JPS6232424A (ja) * | 1985-08-05 | 1987-02-12 | Canon Inc | 液晶装置 |
DE3630012A1 (de) * | 1985-09-04 | 1987-04-23 | Canon Kk | Ferroelektrische fluessigkristallvorrichtung |
US4796979A (en) * | 1986-04-07 | 1989-01-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Ferroelectric liquid crystal device having dual laminated alignment films |
JPS63158526A (ja) * | 1986-12-23 | 1988-07-01 | Asahi Glass Co Ltd | 液晶表示素子 |
US4939003A (en) * | 1987-01-23 | 1990-07-03 | Toray Industries, Inc. | Liquid crystal element |
JPS63278030A (ja) * | 1987-02-14 | 1988-11-15 | Canon Inc | 強誘電性液晶素子 |
JPS63225224A (ja) * | 1987-03-16 | 1988-09-20 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置 |
JPS63228125A (ja) * | 1987-03-17 | 1988-09-22 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置 |
FR2613846B1 (fr) * | 1987-04-10 | 1990-10-26 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif d'affichage a cristal liquide smectique ferroelectrique bistable |
JP2770944B2 (ja) * | 1987-08-19 | 1998-07-02 | キヤノン株式会社 | 液晶素子 |
JPH01177016A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-13 | Sharp Corp | 強誘電性液晶シャッタ |
-
1989
- 1989-12-07 JP JP1316364A patent/JPH03177819A/ja active Pending
-
1990
- 1990-12-03 US US07/621,356 patent/US5153755A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5153755A (en) | 1992-10-06 |
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