JPH03169879A - アゾリルメチルオキシラン及び該化合物を含有する殺菌剤 - Google Patents
アゾリルメチルオキシラン及び該化合物を含有する殺菌剤Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
1産業1二の利用分野]
本発明は、一般式I:
[式中、
訳換JみA.
Hは5又は6員環のへテロ
アリール基、C,〜C8−アルキル基、03〜C8一シ
クロアルキル基、テトラヒドロフラニル基テトラヒドロ
チ才ピラニル基、フェニル基、ビフエニル基、ナフチル
基又はベンジル基を表し、この場合これらの置換基はな
おニトロ基又はアミノ基、又は3個までの以下の基:ハ
ロゲン原子、C1〜C4−アルキル基、部分的に又は完
全にハロゲン化されたC,〜C4−アルキル基01〜C
4−アルコキシ基又はフエノキシ基をffすることがで
き、但しE h’ o−メチルフェニル基を表す限りは
、置換基A又はBの少なくとも1つは前記に定義したヘ
テロアリール基の1つを表し、ZはCll又はNを表す
1で示される、但し2−(イミダゾール−1−イルメチ
ル)2−(4−フロ才ルフェニル)−3− (ビリジー
3−イル)一才キシランを除く、アゾリル(ン メチルオキνラン並びに植物相容性の鉱物塩■}T X
及び式Iの金属錯体に関する。
クロアルキル基、テトラヒドロフラニル基テトラヒドロ
チ才ピラニル基、フェニル基、ビフエニル基、ナフチル
基又はベンジル基を表し、この場合これらの置換基はな
おニトロ基又はアミノ基、又は3個までの以下の基:ハ
ロゲン原子、C1〜C4−アルキル基、部分的に又は完
全にハロゲン化されたC,〜C4−アルキル基01〜C
4−アルコキシ基又はフエノキシ基をffすることがで
き、但しE h’ o−メチルフェニル基を表す限りは
、置換基A又はBの少なくとも1つは前記に定義したヘ
テロアリール基の1つを表し、ZはCll又はNを表す
1で示される、但し2−(イミダゾール−1−イルメチ
ル)2−(4−フロ才ルフェニル)−3− (ビリジー
3−イル)一才キシランを除く、アゾリル(ン メチルオキνラン並びに植物相容性の鉱物塩■}T X
及び式Iの金属錯体に関する。
更に、本発明は、上記化合物の製造方法、その殺菌剤と
しての用途、及びこれらの化合物を有効物質として含¥
fする殺菌剤に関する。
しての用途、及びこれらの化合物を有効物質として含¥
fする殺菌剤に関する。
更に、本発明は、弐■:
1式中、Lはハロゲン原子又は基R − S 0 .〇
一及びRはC,〜C.−アルキル基、部分的に又は完全
にはハロゲン化されたC,〜C4−アルキル基、又はハ
ロゲン原子、C,〜C1−アルキル基又はニトロ基によ
って置換されていてもよいフェニル基を表ず]で示され
る才キシラン中間体に関する。
一及びRはC,〜C.−アルキル基、部分的に又は完全
にはハロゲン化されたC,〜C4−アルキル基、又はハ
ロゲン原子、C,〜C1−アルキル基又はニトロ基によ
って置換されていてもよいフェニル基を表ず]で示され
る才キシラン中間体に関する。
[従来の技術]
シスー2−(+.2.4−トリアゾールー!−イルーメ
チル)−2− (4−クロルフェニル)−3− (4−
t−ブヂルフェニル)一オキシラン(欧州特許第945
64号明細書)及びシスー2− (1,2.4−}リア
ゾールー1−イルーメチル)−2− (4−メチルフェ
ニル)−3−(2−フロオルフェニル)一オキシラン(
欧州特許第196038号明細>”F )を殺菌剤とし
て使用することは公知である。
チル)−2− (4−クロルフェニル)−3− (4−
t−ブヂルフェニル)一オキシラン(欧州特許第945
64号明細書)及びシスー2− (1,2.4−}リア
ゾールー1−イルーメチル)−2− (4−メチルフェ
ニル)−3−(2−フロオルフェニル)一オキシラン(
欧州特許第196038号明細>”F )を殺菌剤とし
て使用することは公知である。
更に、欧州特許公開第332073号明細書には、オキ
シラン環の2位にイミダゾリルメチル記載の及び4−フ
ロオルフェニル記載の及び3位に特にビリジル基を有す
る化合物Iの類型アゾリルメヂルオキシランが記載され
ている。
シラン環の2位にイミダゾリルメチル記載の及び4−フ
ロオルフェニル記載の及び3位に特にビリジル基を有す
る化合物Iの類型アゾリルメヂルオキシランが記載され
ている。
しかしながら、これらの化合物の殺菌作用は、特に少な
い使用輌及び低い濃度では制限付きで満足されるにすぎ
ない。
い使用輌及び低い濃度では制限付きで満足されるにすぎ
ない。
「発明が解決しようとする課題]
従って、本発明の課題は、新規の殺菌作用物質を見いだ
すことであった。
すことであった。
「課題を解決するための手段]
従って、冒頭に記載した式Iのアゾリルメヂルオキシラ
ンが見いだされた。更に、このアゾリルメヂルオキシラ
ンを製造するための式■の中間体が見いだされた。
ンが見いだされた。更に、このアゾリルメヂルオキシラ
ンを製造するための式■の中間体が見いだされた。
[発明の作用及び効果]
本発明による化合物1又は■における置換基は詳細には
、以下のものを表ず: A,R:5−一又は6員環のヘテロアリール基、特にビ
ロール−2−イル、ピロール−3−イル、フラン−2−
イル、フラン−3−イル、ヂエンー2−イル、チェンー
3−イル、ビリジー2−イル、ピリジー3−イル、ビリ
ジー4−イル、!,3−ゾアゾール−2−イル、オキサ
ゾール−4−イル、オキサゾール−5−イル、イソキサ
ゾールー3−イル、イソキサゾールー4ーイル、イソキ
サゾールー5−イル、チアゾール−4−イル、ヂアゾー
ル−5−イル、イミダゾールー4−イル、1,2.4−
トリアゾール3−イル及び1,3.4−トリアゾールー
2イル。これらの置換基はなおニトロ基又はアミノ基も
しくはそれぞれの炭素原子に以下の基:ハロゲン原子例
えば弗素、塩素及び臭素、C,〜C4−アルキル基例え
ばメチル、エチル、n−ブヂル及びL−ブヂル、部分的
又は完全に弗素、塩素及び/又は臭素によってハロゲン
化されたC,〜C4−アルキル基例えばトリフルオルメ
チル、ペンタフルオルエチル及び2−クロルー1.1.
2−トリフルオルエチル、C,〜C4−アルコキシ基例
えばメトキシ、エトキシ及びt−ブトキシ又はフェノキ
シを有することができる: 枝分れ鎖状又は非枝分れ鎖状C l”− C *−アル
キル基、該基はニトロ基又はアミノ基、又はヘテロアリ
ール基で挙げた基の3個までを有することができる、有
利にはC,〜C6−アルキル基例えばメチル、エチル、
n−プロビル、イソブロビル、n−ブチル、S−ブチル
、t−プチルn−ペンヂル及びネオベンチル; 03〜C8−シクロアルキル基、該話はニトロ基又はア
ミノ基、又はヘテロアリール基で挙げた基の3個までの
基を有することができる、有利にはシクロプロビル、シ
クロブチル、シクロペンチル及びシクロヘキシル: テトラヒドロビラニル又はテトラヒドロチオビラニル基
、該基はそれぞれニトロ基又はアミノ基、又はヘテロア
リール基で挙げた基の3個よでの基をTrすることがで
きる、 ず了和■こはテト ラヒドロビラン−4−イル: フエニル話、該基はニトロ基又はアミノ基、又はヘテロ
アリール基で挙げた基の3個までを脊することができる
、有利にはフェニル、3一ニト口フェニル、4−ニトロ
フェニル、3−7ミノフェニル、4−アミノフェニル、
ハロゲンフェニル基例えば2−フルオルフェニル、3フ
ルオルフェニル、4−フルオルフェニル、2クロルフェ
ニル、3−クロルフェニル、4ク【lルフェニル、2−
プロl1フェニル、3−ブ【1ムフェニル及び4−プロ
ムフェニル、ジハロゲンフエニル例えば2.3−ジクロ
ルフェニル2.4−ジクロルフェニル、2.5−ジクロ
ルフェニル、2.6−ジクロルフェニル、2一ク〔Jル
−4−フルオルフェニル及び2−クロル6−フルオルフ
ェニル、Cl〜C4−アルキルフェニル例えば4−メチ
ルフェニル、4−エチルフェニル.4−イソプロビルフ
ェニル及び4L−プチルフェニル、ハロゲンー(01〜
C4)一アルキルフェニル基例えば2−クロルー6メチ
ルフェニル、Ct〜C4−ハロゲンアルキルフェニル基
例えば2−トリフルオルメチルフェニル、3−トリフル
才ルメチルフェニル、4一トリフルオルメヂルフェニル
、CI〜C4−アルコキシフェニル基例えば2−メトキ
シフェニル、3−メトキシフェニル、4−メトキシフェ
ニル、ジ−(c+〜C,)一アルコキシフェニル例えば
2.4−ジメトキシフェニル、3.4−ジメトキシフェ
ニル、フェノキシフェニル基例えば3−フノキシフェニ
ル及び4−フノキシフエニル: ビフェニル基、ナフチル基又はベンジル話、該基はそれ
ぞれニトロ基又はアミノ基、又はヘテロアリール基で挙
げた基のの3個までを有ずることができる、IT利には
4−ビフエニル、lナフチル、2−ナフチル及びベンジ
ル:L:ハaゲン原子例えば弗素、塩素、臭素及びヨウ
素、有利には塩素及び臭素; 基:n−SO,−0−、該式中Rは以下のものを表す: 枝分れ鎖状又は非枝分れ鎖状C,〜C.−アルキル基、
特にC,〜C4−アルキル塙例えばメチル、エヂル、n
−ブチル及びL−ブヂル:部分的に又は完全にハロゲン
化されたC,〜C4−−アルキル基例えばトリフルオル
メヂル、トリクロルメチル、ペンタクロルエチル及び2
クロルー1,l,2−}リフルオルエチル:フェニル基
、該基はハロゲン原子例えばフッ素、塩素及び臭素、0
1〜C4−アルキル基例えばメチル、エチル及びt−ブ
チル又はニトロ基によって置換れていてもよい。
、以下のものを表ず: A,R:5−一又は6員環のヘテロアリール基、特にビ
ロール−2−イル、ピロール−3−イル、フラン−2−
イル、フラン−3−イル、ヂエンー2−イル、チェンー
3−イル、ビリジー2−イル、ピリジー3−イル、ビリ
ジー4−イル、!,3−ゾアゾール−2−イル、オキサ
ゾール−4−イル、オキサゾール−5−イル、イソキサ
ゾールー3−イル、イソキサゾールー4ーイル、イソキ
サゾールー5−イル、チアゾール−4−イル、ヂアゾー
ル−5−イル、イミダゾールー4−イル、1,2.4−
トリアゾール3−イル及び1,3.4−トリアゾールー
2イル。これらの置換基はなおニトロ基又はアミノ基も
しくはそれぞれの炭素原子に以下の基:ハロゲン原子例
えば弗素、塩素及び臭素、C,〜C4−アルキル基例え
ばメチル、エチル、n−ブヂル及びL−ブヂル、部分的
又は完全に弗素、塩素及び/又は臭素によってハロゲン
化されたC,〜C4−アルキル基例えばトリフルオルメ
チル、ペンタフルオルエチル及び2−クロルー1.1.
2−トリフルオルエチル、C,〜C4−アルコキシ基例
えばメトキシ、エトキシ及びt−ブトキシ又はフェノキ
シを有することができる: 枝分れ鎖状又は非枝分れ鎖状C l”− C *−アル
キル基、該基はニトロ基又はアミノ基、又はヘテロアリ
ール基で挙げた基の3個までを有することができる、有
利にはC,〜C6−アルキル基例えばメチル、エチル、
n−プロビル、イソブロビル、n−ブチル、S−ブチル
、t−プチルn−ペンヂル及びネオベンチル; 03〜C8−シクロアルキル基、該話はニトロ基又はア
ミノ基、又はヘテロアリール基で挙げた基の3個までの
基を有することができる、有利にはシクロプロビル、シ
クロブチル、シクロペンチル及びシクロヘキシル: テトラヒドロビラニル又はテトラヒドロチオビラニル基
、該基はそれぞれニトロ基又はアミノ基、又はヘテロア
リール基で挙げた基の3個よでの基をTrすることがで
きる、 ず了和■こはテト ラヒドロビラン−4−イル: フエニル話、該基はニトロ基又はアミノ基、又はヘテロ
アリール基で挙げた基の3個までを脊することができる
、有利にはフェニル、3一ニト口フェニル、4−ニトロ
フェニル、3−7ミノフェニル、4−アミノフェニル、
ハロゲンフェニル基例えば2−フルオルフェニル、3フ
ルオルフェニル、4−フルオルフェニル、2クロルフェ
ニル、3−クロルフェニル、4ク【lルフェニル、2−
プロl1フェニル、3−ブ【1ムフェニル及び4−プロ
ムフェニル、ジハロゲンフエニル例えば2.3−ジクロ
ルフェニル2.4−ジクロルフェニル、2.5−ジクロ
ルフェニル、2.6−ジクロルフェニル、2一ク〔Jル
−4−フルオルフェニル及び2−クロル6−フルオルフ
ェニル、Cl〜C4−アルキルフェニル例えば4−メチ
ルフェニル、4−エチルフェニル.4−イソプロビルフ
ェニル及び4L−プチルフェニル、ハロゲンー(01〜
C4)一アルキルフェニル基例えば2−クロルー6メチ
ルフェニル、Ct〜C4−ハロゲンアルキルフェニル基
例えば2−トリフルオルメチルフェニル、3−トリフル
才ルメチルフェニル、4一トリフルオルメヂルフェニル
、CI〜C4−アルコキシフェニル基例えば2−メトキ
シフェニル、3−メトキシフェニル、4−メトキシフェ
ニル、ジ−(c+〜C,)一アルコキシフェニル例えば
2.4−ジメトキシフェニル、3.4−ジメトキシフェ
ニル、フェノキシフェニル基例えば3−フノキシフェニ
ル及び4−フノキシフエニル: ビフェニル基、ナフチル基又はベンジル話、該基はそれ
ぞれニトロ基又はアミノ基、又はヘテロアリール基で挙
げた基のの3個までを有ずることができる、IT利には
4−ビフエニル、lナフチル、2−ナフチル及びベンジ
ル:L:ハaゲン原子例えば弗素、塩素、臭素及びヨウ
素、有利には塩素及び臭素; 基:n−SO,−0−、該式中Rは以下のものを表す: 枝分れ鎖状又は非枝分れ鎖状C,〜C.−アルキル基、
特にC,〜C4−アルキル塙例えばメチル、エヂル、n
−ブチル及びL−ブヂル:部分的に又は完全にハロゲン
化されたC,〜C4−−アルキル基例えばトリフルオル
メヂル、トリクロルメチル、ペンタクロルエチル及び2
クロルー1,l,2−}リフルオルエチル:フェニル基
、該基はハロゲン原子例えばフッ素、塩素及び臭素、0
1〜C4−アルキル基例えばメチル、エチル及びt−ブ
チル又はニトロ基によって置換れていてもよい。
特.に有利な化合物1及び■は、表八及びnに示ず。
中間体■は、臓めて有利には式Vaのα−ハロゲンアル
ケン又は式vbの置換されたプロベナールの自体公知の
酸化(G, Dittus in lloubenWe
yl Mtillar, McLhoden der
OrganischenChmie, Georg−
Thieme−Verlag, StuLtgart
, 1965, I’d. l!/3, p.osr
r参!Kl)及びプロヘナールの場合1は、引き続き還
元しかつホルミル基をエステル化することにより製造さ
れる:Va III (L−}tall vb Err (L − RSO2−G−) オレフィンVa及びvbの酸化は、有利には不活性溶剤
又は希釈剤例えば酢酸、酢酸エチル、アセトン、メチル
ーt−プチルエーテル及びジメチルホルムアミド中で、
特に塩素化した炭化水素例えば塩化メチレン、クロロホ
ルム、四塩化炭素及びジクロルエタン中で実施する。
ケン又は式vbの置換されたプロベナールの自体公知の
酸化(G, Dittus in lloubenWe
yl Mtillar, McLhoden der
OrganischenChmie, Georg−
Thieme−Verlag, StuLtgart
, 1965, I’d. l!/3, p.osr
r参!Kl)及びプロヘナールの場合1は、引き続き還
元しかつホルミル基をエステル化することにより製造さ
れる:Va III (L−}tall vb Err (L − RSO2−G−) オレフィンVa及びvbの酸化は、有利には不活性溶剤
又は希釈剤例えば酢酸、酢酸エチル、アセトン、メチル
ーt−プチルエーテル及びジメチルホルムアミド中で、
特に塩素化した炭化水素例えば塩化メチレン、クロロホ
ルム、四塩化炭素及びジクロルエタン中で実施する。
所望であれば、緩衝した媒体内で作業することもできる
.緩衝剤としては、酢酸ナトリウム、燐酸水素二ナトリ
ウム及び水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム( T
riLon B)が適当である。
.緩衝剤としては、酢酸ナトリウム、燐酸水素二ナトリ
ウム及び水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム( T
riLon B)が適当である。
酸化剤としは、有利にベルオキシカルボン酸例えば過安
息香酸、3−クロル安息香酸、4一ニトロ過安息香酸、
モノ過フタル酸、過酢酸、過プロピオン酸、過マレイン
酸、モノ過コノ1ク酸、過ベラルゴン酸及びトルフルオ
ル過酢酸が使用される。
息香酸、3−クロル安息香酸、4一ニトロ過安息香酸、
モノ過フタル酸、過酢酸、過プロピオン酸、過マレイン
酸、モノ過コノ1ク酸、過ベラルゴン酸及びトルフルオ
ル過酢酸が使用される。
該酸化は場合により例えばヨウ素、タングステン酸ナト
リウム又は光で触媒作用させることができる。
リウム又は光で触媒作用させることができる。
一般に温度はlO〜100℃、特に使用溶剤の沸騰温度
である。
である。
酸化のためには、触媒例えばタングステン酸ナトリウム
、過タングステン酸、モリブデンヘキサカルボニル及び
バナジルアセチルアセトネートを使用したアルキルヒド
ロベルオキシド例えばt−プチルヒドロペルオキシド、
並びにメタノール、エタノール、アセトン又はアセトニ
トリル中の例えば30%の過酸化水素のアルカリ性溶液
も適当である。
、過タングステン酸、モリブデンヘキサカルボニル及び
バナジルアセチルアセトネートを使用したアルキルヒド
ロベルオキシド例えばt−プチルヒドロペルオキシド、
並びにメタノール、エタノール、アセトン又はアセトニ
トリル中の例えば30%の過酸化水素のアルカリ性溶液
も適当である。
該酸化剤は、一般にオレインVa及びvbに対して、等
tit又は僅かに過剰、約20〜50%過剰で使用する
。
tit又は僅かに過剰、約20〜50%過剰で使用する
。
該反応は有利には常圧で実施する。減圧又は高圧も可能
であるが、一般に利点をもたらさない。
であるが、一般に利点をもたらさない。
エボキシ化及び引き続いての例えば約20℃での硼水素
化ナトリウムを用いた還元後に、アルコール■bを自体
公知方法でそのエステルに転化させる( lIoube
n4eyl−M[illar, MeLhodande
r Organischen Chsie, Gcor
g−Thie@e−Verlag. StutLgar
t, 1955, Bd.9, p.388,66
3及び671参照)。エステルとしては、例えばメタン
スルホン酸エステル、トリフルオルメタンスルホン酸エ
ステル、2,2.2−}リフルオルエタンスルホン酸エ
ステル、ノナフルオルブタンスルホン酸エステル、ベン
ゼンスルホン酸エステル4−メチルベンゼンスルホン酸
エステル、4プロl,ベンゼンスルホン酸エステル及び
4一二トロベンゼンスルホン酸エステルが好適である。
化ナトリウムを用いた還元後に、アルコール■bを自体
公知方法でそのエステルに転化させる( lIoube
n4eyl−M[illar, MeLhodande
r Organischen Chsie, Gcor
g−Thie@e−Verlag. StutLgar
t, 1955, Bd.9, p.388,66
3及び671参照)。エステルとしては、例えばメタン
スルホン酸エステル、トリフルオルメタンスルホン酸エ
ステル、2,2.2−}リフルオルエタンスルホン酸エ
ステル、ノナフルオルブタンスルホン酸エステル、ベン
ゼンスルホン酸エステル4−メチルベンゼンスルホン酸
エステル、4プロl,ベンゼンスルホン酸エステル及び
4一二トロベンゼンスルホン酸エステルが好適である。
プロペナールvbは、例えば2種のアルデヒドの自体公
知の縮合により得ることができる。
知の縮合により得ることができる。
該反応は、有利には不活性溶剤及び希釈剤中でIO〜5
0℃、特に20〜30℃の温度で実施する。
0℃、特に20〜30℃の温度で実施する。
Yi:.力に関しては、前記に述べたことが当て嵌まる
。
。
オレインVaは、例えば相応するプロベン誘導体CI{
3−CA=CHr3をアリル俺置で自体公知の塩素化す
ることにより得られる。
3−CA=CHr3をアリル俺置で自体公知の塩素化す
ることにより得られる。
ハロゲン化試薬としては、例えばハロゲン化された炭化
水素例えば四塩化炭素、トリクロルエタン及び塩化メチ
レン中のN−クロルー及びN−プロムスクシンイミドが
好適である。温度は一般に20−100℃である。
水素例えば四塩化炭素、トリクロルエタン及び塩化メチ
レン中のN−クロルー及びN−プロムスクシンイミドが
好適である。温度は一般に20−100℃である。
ハロゲン化すべきプロベン誘専体自体は、公知のすレフ
ィン合成法( tlouben−feyiM旧tar,
McLhoden der Organigchcn
Chsie, GeorgThicsc Vcrlag
Stuttgart, 1972, Bd V/l
b参照)から公知である。
ィン合成法( tlouben−feyiM旧tar,
McLhoden der Organigchcn
Chsie, GeorgThicsc Vcrlag
Stuttgart, 1972, Bd V/l
b参照)から公知である。
本発明による中間体■は、2個の不斉中心を含する。こ
れらはたいていの製造方法で生じるようなラセミ体とし
て使用されるが、しかしながら所望によりこのために通
常の方法に基づき、例えば光学的活性吸着剤でのクロマ
トグラフィーにより、純粋な異性体に分割することがで
きる。
れらはたいていの製造方法で生じるようなラセミ体とし
て使用されるが、しかしながら所望によりこのために通
常の方法に基づき、例えば光学的活性吸着剤でのクロマ
トグラフィーにより、純粋な異性体に分割することがで
きる。
アゾリルメチルオキシランIは種々の方法で得られる、
詳細には以下の方法に基づき有利に得られる: a)アゾール及び才キシランからの製造:有利には、該
反応は溶剤又は希釈剤中で、特に有機又は無機塩基を添
加して実施する。
詳細には以下の方法に基づき有利に得られる: a)アゾール及び才キシランからの製造:有利には、該
反応は溶剤又は希釈剤中で、特に有機又は無機塩基を添
加して実施する。
溶剤又は希釈剤としては、ケトン例えばアセトン、メチ
ルエチルケトン及びシクロヘキサン、ニトリル例えばア
トニトリル及びプロビオニトリル、アルコール例えばメ
タノール、エタノール、イソブロバノール、n−ブクノ
ール及びグリコール、エステル例えば酢酸メチルエステ
ル、酢酸エチルエステル及び酢酸ブチルエステル、エー
テル例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ
メトキシエタン、ジオキサン及びジイソプロビルエーテ
ル、アミド例えばジメヂルホルムアミド、ジメヂルアセ
トアミド及びN−メヂルビロリドン、ジメヂルスルホキ
シド、スルホラン並びに前記溶剤の混合物を使用するこ
とができる。
ルエチルケトン及びシクロヘキサン、ニトリル例えばア
トニトリル及びプロビオニトリル、アルコール例えばメ
タノール、エタノール、イソブロバノール、n−ブクノ
ール及びグリコール、エステル例えば酢酸メチルエステ
ル、酢酸エチルエステル及び酢酸ブチルエステル、エー
テル例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ
メトキシエタン、ジオキサン及びジイソプロビルエーテ
ル、アミド例えばジメヂルホルムアミド、ジメヂルアセ
トアミド及びN−メヂルビロリドン、ジメヂルスルホキ
シド、スルホラン並びに前記溶剤の混合物を使用するこ
とができる。
塩基としては、例えばアルカリ金属水酸化物例えば水酸
化リチウム、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム、ア
ルカリ金属炭酸塩例えば炭酸ナトリウム及び炭酸カリウ
ム、炭酸水素塩例えば炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素
カリウムビリジン及び4−ジメチルアミノビリジンが適
当である。しかしまた、別の塩基を使用することもでき
る。
化リチウム、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム、ア
ルカリ金属炭酸塩例えば炭酸ナトリウム及び炭酸カリウ
ム、炭酸水素塩例えば炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素
カリウムビリジン及び4−ジメチルアミノビリジンが適
当である。しかしまた、別の塩基を使用することもでき
る。
特に有利には、該反応は反応促進剤の存在下に進行する
。この目的のためには、例えば金属ハロゲン化物例えば
沃化ナトリウム及び沃化カリウム、第四アンモニウム塩
例えば塩化テトラブヂルアンモニウム、臭化テトラブチ
ルアンモニウム、沃化テトラブチルアンモニウム、硫酸
水素テトラブヂルアンモニウム、塩化ベンジル1・リエ
チルアンモニウム及び臭化ベンジルアンモニウム又はク
ロネンエーテル例えば[!2コクロネ−4、「l5]ク
ロネ−5、「I8]クロネ−6、ジベンゾ[l8]クロ
ネ−6及びジシクロヘキサノ[l8〕クロネ−6が適当
である。
。この目的のためには、例えば金属ハロゲン化物例えば
沃化ナトリウム及び沃化カリウム、第四アンモニウム塩
例えば塩化テトラブヂルアンモニウム、臭化テトラブチ
ルアンモニウム、沃化テトラブチルアンモニウム、硫酸
水素テトラブヂルアンモニウム、塩化ベンジル1・リエ
チルアンモニウム及び臭化ベンジルアンモニウム又はク
ロネンエーテル例えば[!2コクロネ−4、「l5]ク
ロネ−5、「I8]クロネ−6、ジベンゾ[l8]クロ
ネ−6及びジシクロヘキサノ[l8〕クロネ−6が適当
である。
有利には、出発化合物rla及び■は化学徹論的比で使
用するが、しかしたいていの場合にはまた一方又は他方
の成分を過剰で、例えばIo%まで過剰で使用すること
もできる。
用するが、しかしたいていの場合にはまた一方又は他方
の成分を過剰で、例えばIo%まで過剰で使用すること
もできる。
該反応は一般にIO℃以上で十分な速度で進行する。一
般には、該温度は10〜150℃、特に20〜120℃
、有利には使用溶剤の沸点である。
般には、該温度は10〜150℃、特に20〜120℃
、有利には使用溶剤の沸点である。
該反応は圧力に依存しないので、有利には常圧で作業す
る。
る。
h)アゾリル
アニ才ンとオキシランの反応
M゛は、アルカリ金属カチ才ン、特にリチウム、ナトリ
ウム又はカリウムを表す。
ウム又はカリウムを表す。
一般に該反応は溶剤又は希釈剤中で、有利には強無機又
は有機塩基を添加して実施する。
は有機塩基を添加して実施する。
溶剤又は希釈剤としては、アミド例えばジメチルホルム
アミド、ジエヂルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
及びジェチルアセトアミドN−メチルピロリドン、ヘキ
サメヂルー燐トリアミド、スルポキシド例えばジメチル
スルホキシド及びスルホランを使用することができる塩
基としては、例えばアルカリ金属水素化物例えば水素化
リチウム、水素化ナトリウム及び水素化カリウム、アル
カリ金属アミド例えばナト2スウムアミド及びカリウム
アミド及びアミド金属アルコラート例えばナトリウムー
t−ブl・キシド及びカリウムーt−ブトキシドが適当
である。
アミド、ジエヂルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
及びジェチルアセトアミドN−メチルピロリドン、ヘキ
サメヂルー燐トリアミド、スルポキシド例えばジメチル
スルホキシド及びスルホランを使用することができる塩
基としては、例えばアルカリ金属水素化物例えば水素化
リチウム、水素化ナトリウム及び水素化カリウム、アル
カリ金属アミド例えばナト2スウムアミド及びカリウム
アミド及びアミド金属アルコラート例えばナトリウムー
t−ブl・キシド及びカリウムーt−ブトキシドが適当
である。
該反応は一般に−10℃以上で十分な速度で進行する。
一般に、温度は−・10℃〜120℃、特に0〜lOO
℃、特に有利には20〜80℃である。
℃、特に有利には20〜80℃である。
化学量論的割合及び圧力に関しては、方法a)の記載が
当て嵌まる。
当て嵌まる。
c)3−アゾリルプローI一エンのエボキシ化
オレフィン■のアゾリルメヂルオキシランIへのエボキ
シ化は、自体公知方法に基づき行う( G, DiLL
us. IIouben=Wcyl−MLII1cr,
Mcthodendcr Organischen
Chmie, Georg−Thime−Verlag
SLuLtgart, 1965, Bd. l/3.
p.385rf参照)。
シ化は、自体公知方法に基づき行う( G, DiLL
us. IIouben=Wcyl−MLII1cr,
Mcthodendcr Organischen
Chmie, Georg−Thime−Verlag
SLuLtgart, 1965, Bd. l/3.
p.385rf参照)。
該反応は有利には溶液又は希釈剤中で、例えばニトリル
例えばアセトニトリル、スルホキシド例えばジメチルス
ルホキシド、ホルムアミド例えばジメチルホルムアミド
、ケトン例えばアセトン、エーテル例えばジエチルエー
テル及びテトラヒドロフラン並びに前記溶剤の混合物中
で実施する。特に有利であるのは、クロル炭化水素例え
ば塩化メチレン及びクロロホルムである。
例えばアセトニトリル、スルホキシド例えばジメチルス
ルホキシド、ホルムアミド例えばジメチルホルムアミド
、ケトン例えばアセトン、エーテル例えばジエチルエー
テル及びテトラヒドロフラン並びに前記溶剤の混合物中
で実施する。特に有利であるのは、クロル炭化水素例え
ば塩化メチレン及びクロロホルムである。
一般には、反応温度はO〜100℃、有利には20〜8
0℃である。使用溶剤の沸点で作業するのが特に有利で
ある。
0℃である。使用溶剤の沸点で作業するのが特に有利で
ある。
酸化剤及び圧力に関しては、中間体Hの製造に関する記
載が当て嵌まる。
載が当て嵌まる。
本発明による化合物Iは、2個の不斉炭素原子を含有す
る。たいていの製造方法では、これらはラセミ体として
生成し、該ラセミ体は所望であればこの・ために通常の
方法、例えば光学活性吸着剤でのクロマトグラフィーに
より、純粋な異性体に分割することができる。ラセミ体
もまた純枠な異性体も殺菌作用を有しかつ本発明に包含
される。
る。たいていの製造方法では、これらはラセミ体として
生成し、該ラセミ体は所望であればこの・ために通常の
方法、例えば光学活性吸着剤でのクロマトグラフィーに
より、純粋な異性体に分割することができる。ラセミ体
もまた純枠な異性体も殺菌作用を有しかつ本発明に包含
される。
酸付加塩としては、■の殺菌作用を劣化しないような酸
の塩、例えば塩酸塩、臭素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、燐酸
塩、シュウ酸塩又はドデシルベンゼンスルホン酸塩が適
当である。
の塩、例えば塩酸塩、臭素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、燐酸
塩、シュウ酸塩又はドデシルベンゼンスルホン酸塩が適
当である。
金属錯体としては、銅、亜鉛、錫、マンガン、鉄、コバ
ルト又はニッケルの錯体が該当する。遊離塩JJIと金
属の鉱酸塩、例えば塩化物又は硫酸塩からなる錯体を製
造するのが有利である。
ルト又はニッケルの錯体が該当する。遊離塩JJIと金
属の鉱酸塩、例えば塩化物又は硫酸塩からなる錯体を製
造するのが有利である。
「実施例]
製造実施例
例l
シスー2−(1,2.4−トリアゾールーlイルーメチ
ル)−2−フェニルー3−(3ピリジル)一オキシラン (表■3中の化合物No.8.001)1,2.4−1
−リアゾール7.89 (0.1 1モル)、N,N
−ジメヂルホルムアミド150xQ及び炭酸カリウム2
6.3y(0.1 9モ/l/)からなる混合物を5
0℃に加熱し、引き続き約20℃に冷却しかっ滴加式に
N,N−ジメヂルホルムアミド501IQ中のシスー(
2−メチルスルホニルオキシメヂル−2−フェニルー3
−(3−ピリジル>−オキシラン28.2y(0.09
モル)の溶液を加えた。室温でl2時間撹拌した後に、
水100iI2を加え、該混合物を数回メチルーt−ブ
チルエーテルで抽出しかつ有機相を生成物に後処理した
。収率65%、融点=7 5℃ 例2 シスー2−(1,2.4−1−リアゾール−!・−イル
ーメヂル)−2− (4−フルオルフェニル)−3−
(2−メチルフエニル)一才キシン(表B中の化合物N
o.8.249) 例lと同様に、l,2.4−}−リアゾール(N,N−
ジメチルホルムアミドIOOzQ中)4.9y(0.0
7zl2)を炭酸カリウム16.4y(0.l2モル)
の存在下に、シスー2−メチルスルホニルオキシメチル
−2−(4−フル才ルフェニル)−3− (2−メヂル
フエニル)一オキシラン(N,N−ジメチルホルムアミ
ド50x(l中)20y(0.06モル)と反応させた
。
ル)−2−フェニルー3−(3ピリジル)一オキシラン (表■3中の化合物No.8.001)1,2.4−1
−リアゾール7.89 (0.1 1モル)、N,N
−ジメヂルホルムアミド150xQ及び炭酸カリウム2
6.3y(0.1 9モ/l/)からなる混合物を5
0℃に加熱し、引き続き約20℃に冷却しかっ滴加式に
N,N−ジメヂルホルムアミド501IQ中のシスー(
2−メチルスルホニルオキシメヂル−2−フェニルー3
−(3−ピリジル>−オキシラン28.2y(0.09
モル)の溶液を加えた。室温でl2時間撹拌した後に、
水100iI2を加え、該混合物を数回メチルーt−ブ
チルエーテルで抽出しかつ有機相を生成物に後処理した
。収率65%、融点=7 5℃ 例2 シスー2−(1,2.4−1−リアゾール−!・−イル
ーメヂル)−2− (4−フルオルフェニル)−3−
(2−メチルフエニル)一才キシン(表B中の化合物N
o.8.249) 例lと同様に、l,2.4−}−リアゾール(N,N−
ジメチルホルムアミドIOOzQ中)4.9y(0.0
7zl2)を炭酸カリウム16.4y(0.l2モル)
の存在下に、シスー2−メチルスルホニルオキシメチル
−2−(4−フル才ルフェニル)−3− (2−メヂル
フエニル)一オキシラン(N,N−ジメチルホルムアミ
ド50x(l中)20y(0.06モル)と反応させた
。
粗製生成物をメチルーt−ブチルエーテル/n−ヘキサ
ンから再結晶させた。収率82%、融点=99〜102
℃ 前処理工程α) 2−フェニル−3−(3−ピリジル)一プロベナール 水3000中のビリジン−3一カルボアルデヒド54y
(0.50モjlz)及び水40yt(l中の水酸化ナ
トリウム8.49(0.21モル)からなる混合物をに
、lO℃で迅速にフエニルアセトアルデヒドsoy(o
.soモル)を、溶液の温度が30℃未満に維持される
ように滴加した。
ンから再結晶させた。収率82%、融点=99〜102
℃ 前処理工程α) 2−フェニル−3−(3−ピリジル)一プロベナール 水3000中のビリジン−3一カルボアルデヒド54y
(0.50モjlz)及び水40yt(l中の水酸化ナ
トリウム8.49(0.21モル)からなる混合物をに
、lO℃で迅速にフエニルアセトアルデヒドsoy(o
.soモル)を、溶液の温度が30℃未満に維持される
ように滴加した。
約20℃で2時間撹拌した後に、水3oo1zQを加え
、生成したエマルジョンをメチルーt−ブチルエーテル
で振り出しかつ有機相を生成物に後処理した。粗製物質
の1n製は、+60’c及び0.6ミリバールで蒸留に
より行った。油状物;収率70.5% この前処理工程に基づき、特にまたE−2−(フルオル
フェニル)−3− (2−メヂルフェニル)一プロベナ
ールが4−フル才ルフェニルアセトアルデヒド69y(
0.50モル)を2=メチルベンズアルデヒド60y(
0.50モル)とメタノール300xQ中で反応させる
ことにょり製造された。この場合、粗製物質の清製は、
125℃及び0.1ミリバールで蒸留により行った。収
率3l% 前処理工程β) シスー2−ヒドロキシメチル−2−フェニル−(3−ビ
リジル)一才キシラン メタノール150+n中の2−フェニル−3一一(3−
ビリジン)一プロベナール32.29(0.152モル
)及び及び濃カセイソーダ溶液1.7z(lからなる混
合物に、0℃で緩慢に30%の過酸化水素溶液ls.s
yを、混合物の温度が30℃未満に維持されるように滴
加した。約20℃で6時間撹拌した後に、lO%のカセ
イソーダ溶液中に溶かした硼水素化ナトリウム6y(0
.158モル)を加えかつ該混合物を更に!8時間撹拌
した。引き続き、水100zNを加え、生成したエマル
ジョンを塩化メチレンで振り出しかつa機相を生成物に
後処理した。融点=108〜110℃、収率82% この前処理工程に基づき、特にまたシスー2−ヒドロキ
シメチル−2−(4−フルオルフエニル)−3− (2
−メチルフェニル)一オキシランがE−2− (4−フ
ルオルフェニル)−3−(2−メチルフエニル)一プロ
ペナール379(0.154モル)を過酸化水累+3.
syと反応させかつ引き続きアルデヒド基を硼水素化ナ
トリウム59C0.132モル)で還元することにより
!!!造された。収率6I% 前処理工程γ)(式■の中間体) (表A中の化合物No.A.001) メタンスルホン酸クロリド+ 7.2y(0.15モル
)を約20℃で塩化メチレン120zl2及びトリエチ
ルメタン26g中のシスー2−ヒドaキシメチル−2−
フエニルー3−(3−ピリジル)一オキシラン28.6
9の溶液中に撹拌混入した。この混合物を24時間撹拌
した後に、該混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液及び水
で洗浄しかつ生成物に後処理した。収率:69%この前
処理工程に基づき、特にまたシスー2(メチルスルホニ
ルオキシメチル)−2− (4−フルオルフエニル)−
3− (2−メチルフエニル)一オキシラン(表A中の
化合物No.A.117)がメタンスルホン酸クロリド
13.49(0.117モル)をシスー2−ヒドロキシ
メチル−2−(4−フルオルフェニル)−3− (2メ
チルフェニル)一オキシラン24y(0.093モル)
と塩化メヂレンIOOxQ中で反応させることにより製
造された。収率:75%表Aには、別の中間体が、表B
には別のアゾリルメチルオキシランlが列記されており
、これらは実施例化合物に類似して製造される。
、生成したエマルジョンをメチルーt−ブチルエーテル
で振り出しかつ有機相を生成物に後処理した。粗製物質
の1n製は、+60’c及び0.6ミリバールで蒸留に
より行った。油状物;収率70.5% この前処理工程に基づき、特にまたE−2−(フルオル
フェニル)−3− (2−メヂルフェニル)一プロベナ
ールが4−フル才ルフェニルアセトアルデヒド69y(
0.50モル)を2=メチルベンズアルデヒド60y(
0.50モル)とメタノール300xQ中で反応させる
ことにょり製造された。この場合、粗製物質の清製は、
125℃及び0.1ミリバールで蒸留により行った。収
率3l% 前処理工程β) シスー2−ヒドロキシメチル−2−フェニル−(3−ビ
リジル)一才キシラン メタノール150+n中の2−フェニル−3一一(3−
ビリジン)一プロベナール32.29(0.152モル
)及び及び濃カセイソーダ溶液1.7z(lからなる混
合物に、0℃で緩慢に30%の過酸化水素溶液ls.s
yを、混合物の温度が30℃未満に維持されるように滴
加した。約20℃で6時間撹拌した後に、lO%のカセ
イソーダ溶液中に溶かした硼水素化ナトリウム6y(0
.158モル)を加えかつ該混合物を更に!8時間撹拌
した。引き続き、水100zNを加え、生成したエマル
ジョンを塩化メチレンで振り出しかつa機相を生成物に
後処理した。融点=108〜110℃、収率82% この前処理工程に基づき、特にまたシスー2−ヒドロキ
シメチル−2−(4−フルオルフエニル)−3− (2
−メチルフェニル)一オキシランがE−2− (4−フ
ルオルフェニル)−3−(2−メチルフエニル)一プロ
ペナール379(0.154モル)を過酸化水累+3.
syと反応させかつ引き続きアルデヒド基を硼水素化ナ
トリウム59C0.132モル)で還元することにより
!!!造された。収率6I% 前処理工程γ)(式■の中間体) (表A中の化合物No.A.001) メタンスルホン酸クロリド+ 7.2y(0.15モル
)を約20℃で塩化メチレン120zl2及びトリエチ
ルメタン26g中のシスー2−ヒドaキシメチル−2−
フエニルー3−(3−ピリジル)一オキシラン28.6
9の溶液中に撹拌混入した。この混合物を24時間撹拌
した後に、該混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液及び水
で洗浄しかつ生成物に後処理した。収率:69%この前
処理工程に基づき、特にまたシスー2(メチルスルホニ
ルオキシメチル)−2− (4−フルオルフエニル)−
3− (2−メチルフエニル)一オキシラン(表A中の
化合物No.A.117)がメタンスルホン酸クロリド
13.49(0.117モル)をシスー2−ヒドロキシ
メチル−2−(4−フルオルフェニル)−3− (2メ
チルフェニル)一オキシラン24y(0.093モル)
と塩化メヂレンIOOxQ中で反応させることにより製
造された。収率:75%表Aには、別の中間体が、表B
には別のアゾリルメチルオキシランlが列記されており
、これらは実施例化合物に類似して製造される。
A,008
A.009
A.010
A.011
A.012
A.013
A.014
A.○15
A.Ol6
A.Ol7
A.Ol8
A.○l9
4つ件サn)ル
4−プ一ア)rリル
5一刺サ刈ル
3−インオキサゾノル
4−イソオキサソ1ル
5−イソオキサソ刃ル
4−イミダソ刃ル
5−チTρノル
2−チェニル
3−ヒ゜リジル
2−六じル
3−プモL:Jレ
呻 の
リ〜
A.032
A.033
A.034
A,035
A.036
A.037
A.038
A.039
A.040
A.041
A.042
A.043
4−F−C,}{,
〃
〃
〃
〃
4−Br−C43H4
4−OF3−06 H4
4−C!H,−0, H4
4−00H,−06H4
2−ヒbリル
4一刺吋ゝnル
4−ヲ一ア)lリル
5一刺吋力ル
3−イソオキサツ1ル
4−イソオキサlノル
5−イソオキサゾリル
4−イミタソ1ル
2−チェニセ
3 −−F−c.:−ル
2−フリル
2−チェニル
oso20H,
A.044
A.045
A.046
A.047
A.048
A.049
A.050
A.051
A.052
A.053
A.054
A.055
3−ヒ゜リジル
へ Eら
2−Cl−(, Hl,
4−Cl−(4 H,
:’s 4−01z−c6Ha
4−F’−06 H,
2−OF3 −0, H4
2−OHs −(4 H4
2づ七=ル
3−プ七L二Jレ
3−ヒ゜リジル
2−フリル
A.056
A.057
A,058
A.059
A,060
A.061
A,062
A.063
A.064
A.065
A.066
A.067
Q! 鶴
2−01−1:!6 H4
4−01−(4曳
2v 4−012−ll4鴇
4−F−(:Ill H,
2−OF,−06H,
2−OH, −Cl5 1{4
2−チェニル
3−fL−ル
3−ヒ゜リジル
2−フリル
c6H5
A.068
A.069
A.070
A.071
A.072
A,073
A.074
A.075
A.076
A.077
A.078
A.079
2−Cl−a8H4
4−01−(4 H4
4−P−06 H4
3−ヒ゜リジル
4一刺ヤ力ル
Oa H5
2−01−06 H4
4−F−% 曳
3−ビリジル
(4 均
2−01−0,,E{,
4−Cl−0, H4
A.080
A.081
A.082
A.083
A.084
A.085
A.086
A.087
A.088
A.089
A.090
A.091
2−OH3−06H4
2−OF’,−(,}{,
2−チエ二〜
3−チェニル
2−フリル
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2−01−c6H4
2−(!H,−C!,H4
2−OF, −(. I{,
2−チェ筬ル
3−六じル
06H5
OS○2Cも
A.092
A,093
A.094
A.095
A.096
A.097
A.098
A.099
A.100
A.101
A.102
A.103
4一刑ヤfノル
4−ヲ′ア)lリル
〃
5−オキサゾノル
〃
5−ヲ一ア)lリル
3−イソオキサゾリル
〃
4−インオキサソ刃ル
5−イソオキサゾリル
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c6H5
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2−Cl−06 H4
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A.104
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A.106
A.l07
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A.109
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A.112
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A.ll4
A.l15
5−イソオキサゾリル
4−イミタゞ刀ノル
〃
シクロへ碑じクレ
〃
〃
tert.−04Hg
〃
4−F−06 H4
2−01−06 H4
06H5
z−a1−a, H4
2−チェスル
3−チェニル
2−フリル
3−ビリジル
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3−チフークレ
2−フリル
3−ヒ゛リシシレ
2−OH, −allH4
2
A.138
A.139
A.140
A,141
A.1.42
A.143
A.144
A.145
A.146
A.l47
A.148
A.149
4−Br−06曳
2−OH,−c6H4
〃
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〃
〃
2−OF’, −0, H4
〃
〃
3 − C F,一屯曳
2−C!H3−c6H4
?S○2C!H3
C1
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○SO■OH,
CI
Br
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C1
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< < ベ
B.007
B.O○8
B.O○9
B.OLO
B.011
B.012
B.013
B.014
B.015
B.016
B.Ol7
B.OL8
3−チェλル
2−7リル
2−ピリル
3−ピリル
4−ネ和ル1ル
4−ヲブア)tリル
5一刺ヤ刀ル
3−イソオキサゾリル
4−インオキナソηル
5−イソオキサソ刃ル
4−イミタソ刃ル
B.Ol9
B,020
B,021
B,022
B.023
B.024
B.025
B,026
B.027
E.028
E.029
B.030
4−Cl−06 }{,
4−イミタソ刃ル
5−ヲ一ア)lリル
2−ピリジル
2−ヂセル
3−チェユル
2−フリル
2−ヒ゜リル
4−−jTIvル
4−イソオヤサソ刃ル
2−ヒ゜リジル
3−ヒ゜リジル
4−ピリジル
B.031
B603z
E.033
B.034
B.035
B.036
B.037
B.038
B.039
B.040
E.041
B.042
4−C!1−06H4
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2−チェニル
3−チェニル
2−フリル
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5−オキサゾノル
4 −ff’%リル
4−イミタソ刃ル
2−ヒ゛リジル
3−ヒ゜リうシレ
2−六じル
3−プモLjレ
B.043
B.044
B.○45
B.046
B.047
B.048
B.049
B.050
B.051
B.052
B.053
B.054
2−フリル
2−ヒbリル
4−チTρノル
4−インオキサソ刃ル
3−ピリジル
2−グフーνレ
3−+L−ル
2−フリル
2−ヒbリル
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3−ヒ゜リジル
4−ヒ刃ジル
国
1
廿 k
円
円
円
一
円
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1.067
B.068
E.069
B.070
B.071
B.072
B.073
B.074
B.075
B.076
B.077
B.078
4−Br−c4H4
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5−チ乃句ル
3−インオキサゾリル
4−イソオキナソηル
5−イソオキサソ刃ル
4−イミタyリル
3−ピリジル
2−チェエル
3−チェ為ル
2−フリル
E.079
B.080
B.081
B.082
B.083
B.084
B,085
B.086
B,087
B.088
B.089
B.090
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3−ヒ゜リジル
2 −−j−x:.−ル
3−fxニノレ
2−フリル
4−イソオキサソηル
3−ヒ゜リジル
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3−六じル
2−フリル
3−イソオキサツ刃ル
4−チTρノル
B.103
B.104
B.105
B.106
B.107
B.l○8
B.109
B.110
B.111
B.112
B.113
旦.114
4−01−06曳
〃
2. 4−012−QI Hs
2−Br−0,,曳
2−IP−06 H,
4−F−c6H4
4−Br−06H4
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〃
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B.ll5
B.116
B,117
B.118
B.119
B.120
B,121
B.122
B.123
B.124
B.125
B.126
2−六にル
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4−(7F,−06H4
2−00H3−c36H4
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B.127
B.128
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B,130
B,131
B.132
B.133
B.134
B.135
B.136
E.137
B,138
C@曳
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4−01−06 H,
2. 4−012 −Os
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4−F−0,H,
2−(1!H3−(, H4
H3
B.:L39
B.l40
E.141
B.142
B.143
B,144
B.145
B.146
B.147
B.148
B.149
B.l50
3−チェAセ
2.4−(O烏)2 − Oa Hs
2−OF, −0, H4
〃
4−OF’, −G, H,
2−OCH3−(1!6 ′H4
4−No2−0,, }!,
2−ナフチル
2−チェピシ
3−チェニル
3−ピリジル
2−フリル
4一刺吋力ル
B.151
B.152
B.153
B.154
Bユ55
B,156
B.157
B.158
B.159
B.160
B.161
BJ62
? − PTAノル
tert, 一〇,H,,
al5H4
〃
2−01−C6 H,
〃
4−01−QS H4
2. 4−01■ 一〇!aHa
2−Br−(j6 H,
4−Br−c6 H4
2−F−(4 H4
4−F−Q, H,
B.163
B.164
B.165
B.166
B.167
B.168
B469
B,170
B.171
B.172
B.173
B.l74
2−OH,−06H4
2−OF, −06 H,
〃
4−OF,一も曳
2−00H3−a61{,
4−ビフェニ〜
2−グう=クレ
3−チう=νレ
2−フリル
4一刺吋刀ル
3−ヒ゜リジル
B.1.75
B.176
E,177
B.l78
E.179
E.180
B,181
B ,182
B,183
B.184
E.185
B.186
4−ヲ竺ア)fリル
Os Hs
2−01−06 H4
4−01−(1!6 I{1
2. 4−012 −(, H,
2−F−(4 H,
4−F−a6 H,
2−OF,−(, H4
2−OH,−q, H4
2−Er−06 H4
C!e Ha
2−C!1−c6 }!,
B,187
B.188
B.189
B.190
B.191
B.192
B.193
B.194
B.195
B.196
B.197
B.198
?−01−(4 H4
2. 4−01■−06 H3
2−F−Q5 H,
4−F−(4 H4
2−OF, −(4 H4
2−C!Ha −(1!e H4
2−Br−c6E{,
2−f′x−Jレ
3−チェニル
2−フリル
3−ヒ゜リジル
a6H8
B.199
B.200
B.201
B.202
B.203
B.204
B.205
B.206
B.207
B.208
B.209
B,210
2−01−Ct6 H,
4−01−c!@曳
2. 4−CI麺一q鶴
4−F−(!6 I{,
2−OF’, −06 H4
2−0曳−a6曳
06H8
2−Cl−06 H,
2−011’, −(4 H4
2−OH,−QS H4
06H5
2−01−06 H,
B.211
B.212
B,213
B,214
B2 15
B,216
B.217
B.218
B.219
B.220
B.221
B.222
2−OF’,−c6H,
2−OH, −(, H,
2−チェ≧ル
2−フリル
3−ヒ゜リジル
(!eHs
2−01−06 H4
2−OH, −(, 1{,
3−プ七乙:Jレ
a6H5
2−Cl−(36 H4
2−OHs −Os Hlt
B.223
B,224
B.225
B,226
B,227
B,228
B.229
E.230
B,231
E,232
B.233
B.234
5−ラーフ′ソ′リル
3−イソオキサソ刃ル
4−イソオキサゾノル
〃
5−イソオキサゾリル
〃
4−イミタソ1ル
シクロへ4冫ηレ
2−フリル
C’6 H5
2−Cl−0, H4
2−CJHa −(1!e H,
3−チェ瓜ル
Oat{s
2−Cl−c6H,
C61
2−Ol−0, H4
06H5
2−Cl−へ曳
2−チエピル
B.235
E.236
B.237
E.238
B.239
B.240
E.24]−
B,242
B,243
B,244
B.245
B.246
tert,−C!4H,,
3−チェみセ
2−7リル
2−ヒ1ノジル
3−ヒ゜リジノレ
4−ヒ゛リジル
4 −fTI1)ル
5−オギナゾリル
2−チェニυ
3−チェニル
2−フリル
2−ヒ゜リジル
3−ヒ゜リジル
田 田 田 田
田”am020 2l c)BgOgOB
.271 B.272 3.273 B.274 E.275 B.276 B.277 B,278 B,279 B,280 B,281 E.282 2−01−4−F−C!,I{, 〃 3−NO2 −(q Ht 4−NO2−06H4 〃 3−N鳴−C4Hl* 2−OH3−C!6 H4 〃 4−OH3−へ曳 〃 B.283 B,284 B,285 E.286 B,287 B.2138 B.289 B.290 B.291 B,292 B,293 B.294 2−C!F3−06 H, 3−OF, −c, H4 4−OF, −C!6 H4 〃 4−tart . −C!4Hg−a6H42−0(!
H3−c6I{, 3−QC!H3−a6I{4 冨 富 0 Zo 2. ロ 諭 ロ A
0 2 02 円 円 丙 内 丙 円 B,319 シクロ^碑}ηレ 2−OH,−C6I{, N B,320 OH B.322 CH アゾリルメチル才キシランIは、一般的に表現すれば、
植物病原性真菌類、特に不嚢菌類及び担子菌類に属する
広いスペクトルに対する顕著な作用効果により優れてい
る。これらは一部分浸透移行性的にrf効でありかっ茎
葉及び土壌殺菌剤として使用することができる。
田”am020 2l c)BgOgOB
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植物病原性真菌類、特に不嚢菌類及び担子菌類に属する
広いスペクトルに対する顕著な作用効果により優れてい
る。これらは一部分浸透移行性的にrf効でありかっ茎
葉及び土壌殺菌剤として使用することができる。
本発明による殺菌性化合物は、秤々の栽培植物又はその
種、特にコムギ、ライムギ、オオl1ギ、カラスムギ、
イネ、トウモロコシ、シバ、ワタ、ダイズ、コーヒー、
サトウキビ、果物及び園芸における鑑n植物、ブドウ栽
培並びに野菜、例えばキュウリ、インゲン及びカボチャ
に寄生する多数の真閑類を防除するために償要である。
種、特にコムギ、ライムギ、オオl1ギ、カラスムギ、
イネ、トウモロコシ、シバ、ワタ、ダイズ、コーヒー、
サトウキビ、果物及び園芸における鑑n植物、ブドウ栽
培並びに野菜、例えばキュウリ、インゲン及びカボチャ
に寄生する多数の真閑類を防除するために償要である。
本発明による新規化合物は、以Fの植物の病気を防除す
るために特に適当である: これらの化合物は次のよう々植物病の防除に特に適して
いる。
るために特に適当である: これらの化合物は次のよう々植物病の防除に特に適して
いる。
%l類のエリシベ・グラミニス( Krysipheg
raminis ) , ウリ科のエリシペ・キコラケアルム(Erysi−ph
e cichoracearum )及びスフェロテカ
譬フリギネア( Sphaerotheca fuli
ginea ) ,リンゴのボドスフェラ・ロイコトリ
力( Podo−sphaera leucotric
ha ) ,ブドウのウンキヌラ・ネカトル( Unc
inulanecator ) , 穀物類のプッキニア( Pucainia )種.ワタ
及びシバのりゾクトニア種( Rhizocton.i
a), 穀物類及びサトウキビのウスチラゴ( Usti−la
go )種, リンゴのベンクリア・イネクアリス(Ventu−ri
a inaeqalis ;腐敗病),穀物類のヘルミ
ントスボリウムIII ( Helmin−thosp
orium ape. ) ,コムギのセプトリア・7
ドルム( Septorianodorum ) , イチゴ及びブドウのボトリチス・キネレア(Botry
tis cinerea ) ,ナンキンマメのセルコ
スボラ・アラキジコラ(Cercospora ara
chaiaola ) ,コムギ及びオオムギのシュー
ドヶルフスボレラ−へルポトリフィデス( Pseud
ocerco8porellaherpotricho
ides ) ,イネのビリクラリア・オリザエ( P
yriaulariaorizae ) , ジャガイモ及びトマトの7ィトピトラ・インフェスタン
ス( Phytophtora infeatans
) ,種々の植物の7サリウム( Fuaarium)
及びベルチキルリウム( Vertikcillium
)種,ブドウのブラスモパラ・ビチコラ( Plas
moparaviticola ) , 果物及び野菜のアルテルナリア( A1ternar1
a)種。
raminis ) , ウリ科のエリシペ・キコラケアルム(Erysi−ph
e cichoracearum )及びスフェロテカ
譬フリギネア( Sphaerotheca fuli
ginea ) ,リンゴのボドスフェラ・ロイコトリ
力( Podo−sphaera leucotric
ha ) ,ブドウのウンキヌラ・ネカトル( Unc
inulanecator ) , 穀物類のプッキニア( Pucainia )種.ワタ
及びシバのりゾクトニア種( Rhizocton.i
a), 穀物類及びサトウキビのウスチラゴ( Usti−la
go )種, リンゴのベンクリア・イネクアリス(Ventu−ri
a inaeqalis ;腐敗病),穀物類のヘルミ
ントスボリウムIII ( Helmin−thosp
orium ape. ) ,コムギのセプトリア・7
ドルム( Septorianodorum ) , イチゴ及びブドウのボトリチス・キネレア(Botry
tis cinerea ) ,ナンキンマメのセルコ
スボラ・アラキジコラ(Cercospora ara
chaiaola ) ,コムギ及びオオムギのシュー
ドヶルフスボレラ−へルポトリフィデス( Pseud
ocerco8porellaherpotricho
ides ) ,イネのビリクラリア・オリザエ( P
yriaulariaorizae ) , ジャガイモ及びトマトの7ィトピトラ・インフェスタン
ス( Phytophtora infeatans
) ,種々の植物の7サリウム( Fuaarium)
及びベルチキルリウム( Vertikcillium
)種,ブドウのブラスモパラ・ビチコラ( Plas
moparaviticola ) , 果物及び野菜のアルテルナリア( A1ternar1
a)種。
本発明による化合物は、植物に6効物質をも霧又は散布
するか又は植物の種を有効物質で々理することにより適
用することができる.適J1は植物又は種が真菌類に感
染する前又は感染省に行う。
するか又は植物の種を有効物質で々理することにより適
用することができる.適J1は植物又は種が真菌類に感
染する前又は感染省に行う。
これらの化合物は通常の製剤形,例えば溶液,エマルジ
ョン.懸濁液.微粉末.粉末,ペースト及び顆粒に加工
することができる。適用形は全く使用目的次第であるが
,いずれにせよアゾリルメチルオキシランの細分及び均
一な分配が保証されるべきである。製剤は公知方法で,
例えば有効物質を溶剤及び/又は賦形剤で.所望の場合
には乳化剤及び分散助剤を使用して増量することにより
製造することができ,この際希釈剤として水を使用する
場合には,溶解助剤として別の有機溶剤を使用すること
ができる。このための助剤としては.主として溶剤例え
ば芳香族化合物(例えばキシレン).塩素化芳香族化合
物(例えばクロルベンゼン),パラフィン(例えば石油
留分),アルコール(例えばメタノール,ブタノール)
,ケトン(例えばシクロヘキサノン).アミン(例えば
エタノールアミン.ジメチルホルムアミド)及ヒ水;賦
形剤例えば天然岩石粉(例えばカオリン.アルミナ,タ
ルク.白亜).合戊岩石粉(例えば高分散性珪酸,珪酸
塩);乳化剤例えば非イオン性及び陰イオン性乳化剤(
例えばボリオキシエチレンー脂肪アルコールエーテル,
アルキルスルホネート及び了りールスルホネート)及び
分散剤例えばリグニン,亜硫酸廃液及びメチルセルロー
スが該当する。
ョン.懸濁液.微粉末.粉末,ペースト及び顆粒に加工
することができる。適用形は全く使用目的次第であるが
,いずれにせよアゾリルメチルオキシランの細分及び均
一な分配が保証されるべきである。製剤は公知方法で,
例えば有効物質を溶剤及び/又は賦形剤で.所望の場合
には乳化剤及び分散助剤を使用して増量することにより
製造することができ,この際希釈剤として水を使用する
場合には,溶解助剤として別の有機溶剤を使用すること
ができる。このための助剤としては.主として溶剤例え
ば芳香族化合物(例えばキシレン).塩素化芳香族化合
物(例えばクロルベンゼン),パラフィン(例えば石油
留分),アルコール(例えばメタノール,ブタノール)
,ケトン(例えばシクロヘキサノン).アミン(例えば
エタノールアミン.ジメチルホルムアミド)及ヒ水;賦
形剤例えば天然岩石粉(例えばカオリン.アルミナ,タ
ルク.白亜).合戊岩石粉(例えば高分散性珪酸,珪酸
塩);乳化剤例えば非イオン性及び陰イオン性乳化剤(
例えばボリオキシエチレンー脂肪アルコールエーテル,
アルキルスルホネート及び了りールスルホネート)及び
分散剤例えばリグニン,亜硫酸廃液及びメチルセルロー
スが該当する。
殺菌剤は有効物質を一般に0.1〜95重量%.有利に
は0.5〜90重量%含有する。
は0.5〜90重量%含有する。
施用虫は、その都度の所望の作用効果の種類に基づ有効
物質0.02〜3 k9/ha又はそれ以上である。本
発明による新規化合物は、材料保護において、例えばベ
キロマイセス・バリオチイ( Paecjlomyce
+s variotii)を肪除するために使用するこ
とができる。
物質0.02〜3 k9/ha又はそれ以上である。本
発明による新規化合物は、材料保護において、例えばベ
キロマイセス・バリオチイ( Paecjlomyce
+s variotii)を肪除するために使用するこ
とができる。
種処理の際には、一般に種1kg当り有効物質f+to
.0 0 1 〜5 0g,特に0.01 〜109
を使用した。
.0 0 1 〜5 0g,特に0.01 〜109
を使用した。
製剤ないしは該製剤から調製された使用型備のできた凋
製剤例えば溶液、エマルジョン、懸濁液、粉末、微粉末
、ペースト又は顆粒は、公知方法で例えば噴霧、ミスト
、ダスチング、散粉、浸漬又は注入により施用すること
ができる製剤例は以下の通りである。
製剤例えば溶液、エマルジョン、懸濁液、粉末、微粉末
、ペースト又は顆粒は、公知方法で例えば噴霧、ミスト
、ダスチング、散粉、浸漬又は注入により施用すること
ができる製剤例は以下の通りである。
■.90重量部の化合物B.OOlを,N−メチルーα
−ピロリドン10重量部と混合する時は,極めて小さい
滴の形にて使用するのに適する溶液が得られる。
−ピロリドン10重量部と混合する時は,極めて小さい
滴の形にて使用するのに適する溶液が得られる。
11.20重量部の化合物B.100, キシロール8
0重量部,エチレンオキシド8乃至10モルをオレイン
酸一N−モノエタノールアミド1モルに附加した附加生
戒物10重量部,ドデシルベンゾールスルフオン酸のカ
ルシウム塩5重量部及びエチレンオキシド40モルをヒ
マシ油1モルに附加した附加生成物5重量部よりなる混
合物。この溶液を水に細分布することにより分散液が得
られる。
0重量部,エチレンオキシド8乃至10モルをオレイン
酸一N−モノエタノールアミド1モルに附加した附加生
戒物10重量部,ドデシルベンゾールスルフオン酸のカ
ルシウム塩5重量部及びエチレンオキシド40モルをヒ
マシ油1モルに附加した附加生成物5重量部よりなる混
合物。この溶液を水に細分布することにより分散液が得
られる。
31.20重量部の化合物B.OOl , シクロヘキ
サ/ン40重量部,インプタノール30重量部及びエチ
レンオキシド40モルをヒマシ油1モルに附加した附加
生戊物zO重量部よりなる水性分散液。
サ/ン40重量部,インプタノール30重量部及びエチ
レンオキシド40モルをヒマシ油1モルに附加した附加
生戊物zO重量部よりなる水性分散液。
■.20重量部の化合物B,100,シクロヘキサノー
ル25重量部,沸点210乃至280℃の鉱油留分65
重111及びエチレンオキシド40モルをヒマシ油1モ
ルに附加した附加生成物10重量部よりなる水性分散液
。
ル25重量部,沸点210乃至280℃の鉱油留分65
重111及びエチレンオキシド40モルをヒマシ油1モ
ルに附加した附加生成物10重量部よりなる水性分散液
。
■.80重量部の化合物B,301を,ジイソブチルー
ナフタリンーα−スルフオン酸のナトリウム塩3重量部
,亜硫酸一廃液よりのりグニンスル7オン酸のナトリウ
ム塩10重量部及び粉末状珪酸ゲル7重量部とハンマー
ミル中において磨砕した混合物。この混合物を水に細分
布することにより噴霧液が得られる。
ナフタリンーα−スルフオン酸のナトリウム塩3重量部
,亜硫酸一廃液よりのりグニンスル7オン酸のナトリウ
ム塩10重量部及び粉末状珪酸ゲル7重量部とハンマー
ミル中において磨砕した混合物。この混合物を水に細分
布することにより噴霧液が得られる。
M,3重量部の化合物B,302と,細粒状カオリン9
7重量部との密な混合物。この噴霧剤は有効物質3重量
%を含有する。
7重量部との密な混合物。この噴霧剤は有効物質3重量
%を含有する。
■.30重量部の化合物B.313 ,粉末状珪酸ゲル
92重量部及びこの珪酸ゲルの表面上に吹きつけられた
バラフィン油8重量部よりなる密な混合物。
92重量部及びこの珪酸ゲルの表面上に吹きつけられた
バラフィン油8重量部よりなる密な混合物。
かくして良好な接着性を有する有効物質の製剤が得られ
る。
る。
■, 4o重量部の化合物B.314. 7エノール
スルフォン酸一尿素−フォルムアルデヒドー縮合物のナ
トリウム塩10重量部,珪酸ゲル2重量部及び水48重
量部よりなる安定な水性分散液。この分散液は更に希釈
することができる。
スルフォン酸一尿素−フォルムアルデヒドー縮合物のナ
トリウム塩10重量部,珪酸ゲル2重量部及び水48重
量部よりなる安定な水性分散液。この分散液は更に希釈
することができる。
■.20重量部の化合物B.301, ドデシルベン
ゾールスルフオン酸のカルシウム塩2重ffi部, 脂
肪アルコールポリグリコールエーテルant部. フ
ェ/−ルスル7オン酸−尿s−フォルムアルデヒドー縮
合物のナトリウム塩20重量部及びパラフィン系鉱油6
8重量部よりなる安定な油状分散液。
ゾールスルフオン酸のカルシウム塩2重ffi部, 脂
肪アルコールポリグリコールエーテルant部. フ
ェ/−ルスル7オン酸−尿s−フォルムアルデヒドー縮
合物のナトリウム塩20重量部及びパラフィン系鉱油6
8重量部よりなる安定な油状分散液。
本発明に丁る薬剤は、前2適用形でまた別のX効物質、
例えば除草剤、殺虫剤、生長調製剤及び別の殺菌剤と一
緒に存在することができ、或は又肥料と混合しかつ敗布
することもできる。殺菌剤と混合すると、たいていの場
合殺菌作用スペクトルが拡大される。
例えば除草剤、殺虫剤、生長調製剤及び別の殺菌剤と一
緒に存在することができ、或は又肥料と混合しかつ敗布
することもできる。殺菌剤と混合すると、たいていの場
合殺菌作用スペクトルが拡大される。
[適用実施例]
比較有効物質としては、欧州特許第!96038号明細
書から公知のシスー2−(1.2.4−トリアゾールー
1−イルーメチル)−2−(4−メチルーt−ブチル)
−3− (2−フルオルフェニル)一才キシラン(Y
l)及び欧州特許fi94546号明細書から公知のシ
スー2−(1,2.4−トリアゾールー!−イルーメチ
ル)−2− (4−クロルフェニル)−3− (4−L
−プチルフェニル)一才キシラン(Y2)を使用した: Vl v2 適用例! コムギの赤サビ病に対する作用効果 “カンツラ−(Kanzler)“種の鉢植えのコムギ
の苗に葉に、赤サビ病菌( Puccinia rec
ondita)の胞子を振り掛けた。その後、鉢を高い
空気湿度(90〜95%)を有する室内に20〜22℃
で24時間放置した。この時間中に、胞子が発芽しかつ
菌糸が葉の組織内に侵入した。引き続き、感染した植物
に、乾燥物質中に有効物質80%及び乳化剤20%を含
有する0.006重#11%の水性噴霧液を滴が垂れる
まで噴霧した。噴霧被膜の乾燥開始後に、実験植物を温
室内で20〜22℃の温度及び65〜70%の相対空気
湿度で放置した。8日後に、葉上のサビ病菌の発生度合
いを調べた。
書から公知のシスー2−(1.2.4−トリアゾールー
1−イルーメチル)−2−(4−メチルーt−ブチル)
−3− (2−フルオルフェニル)一才キシラン(Y
l)及び欧州特許fi94546号明細書から公知のシ
スー2−(1,2.4−トリアゾールー!−イルーメチ
ル)−2− (4−クロルフェニル)−3− (4−L
−プチルフェニル)一才キシラン(Y2)を使用した: Vl v2 適用例! コムギの赤サビ病に対する作用効果 “カンツラ−(Kanzler)“種の鉢植えのコムギ
の苗に葉に、赤サビ病菌( Puccinia rec
ondita)の胞子を振り掛けた。その後、鉢を高い
空気湿度(90〜95%)を有する室内に20〜22℃
で24時間放置した。この時間中に、胞子が発芽しかつ
菌糸が葉の組織内に侵入した。引き続き、感染した植物
に、乾燥物質中に有効物質80%及び乳化剤20%を含
有する0.006重#11%の水性噴霧液を滴が垂れる
まで噴霧した。噴霧被膜の乾燥開始後に、実験植物を温
室内で20〜22℃の温度及び65〜70%の相対空気
湿度で放置した。8日後に、葉上のサビ病菌の発生度合
いを調べた。
実験結果において、有効物質No.I1.249及びB
.261は0.006重奄%の噴霧液として使用した際
に公知の比較物質Vl(80%)及びV2(50%)よ
りも良好な殺菌作用(100%)を示した。
.261は0.006重奄%の噴霧液として使用した際
に公知の比較物質Vl(80%)及びV2(50%)よ
りも良好な殺菌作用(100%)を示した。
適用例2
コムギのウドンコ病に対する作用効果
“クランツラー( Kanzler)″種の鉢植えのコ
ムギの苗に葉に、乾燥物質中に有効物質80%及び乳化
剤20%を含有する0.006重κ%の水性噴霧液を噴
霧しかつ噴霧被膜の乾燥開始から24時間後にコムギの
ウドンコ病菌(Erysiphe graminis
var. tritici)のオイジウム(胞子)を振
り掛けた。引き続き。実験植物を温室内で20〜22℃
の温度及び75〜80%の相対空気湿度で放置した。7
日後に、ウドンコ病の発生度合いを調べた。
ムギの苗に葉に、乾燥物質中に有効物質80%及び乳化
剤20%を含有する0.006重κ%の水性噴霧液を噴
霧しかつ噴霧被膜の乾燥開始から24時間後にコムギの
ウドンコ病菌(Erysiphe graminis
var. tritici)のオイジウム(胞子)を振
り掛けた。引き続き。実験植物を温室内で20〜22℃
の温度及び75〜80%の相対空気湿度で放置した。7
日後に、ウドンコ病の発生度合いを調べた。
実験結果は、例,t ハfj−効物質No.8.249
及ヒB.261は0.006重m%の噴霧液として使用
した際に公知の比較物質Vl(80%)及びV2(65
%)よりも良好な殺菌作用を有する(100%)ことを
示した。
及ヒB.261は0.006重m%の噴霧液として使用
した際に公知の比較物質Vl(80%)及びV2(65
%)よりも良好な殺菌作用を有する(100%)ことを
示した。
例3
ビレノボラ・テレス( Pyrenophora Le
res)に対する作用効果 イグリ( Igri)種のオオムギの苗に、2葉段階で
のコムギの苗に葉に、乾燥物質中に有効物S?80%(
tit l&%)及び乳化剤20%を含有する0.0
5重’tl%の水性噴霧液を滴が垂れるまで噴霧した。
res)に対する作用効果 イグリ( Igri)種のオオムギの苗に、2葉段階で
のコムギの苗に葉に、乾燥物質中に有効物S?80%(
tit l&%)及び乳化剤20%を含有する0.0
5重’tl%の水性噴霧液を滴が垂れるまで噴霧した。
24時間後に、植物に真菌類のピレノボラ・テレスの胞
子懸濁液で感染させかつ高い、空気湿度を存ずる空調室
内にl8℃で48時間設訳した。引続き、該植物を温室
内で20〜22℃及び70%の相対空気湿度で更に5日
間培養した。次いで、症状発生度合いを調べた実験結果
は、有効物質No.8.250及びB.261は0.0
5重51%の噴霧液として使用した際に公知の比較有効
物質Vl(65%)よりも良好な殺菌作用を有する(1
00%)ことを示した。
子懸濁液で感染させかつ高い、空気湿度を存ずる空調室
内にl8℃で48時間設訳した。引続き、該植物を温室
内で20〜22℃及び70%の相対空気湿度で更に5日
間培養した。次いで、症状発生度合いを調べた実験結果
は、有効物質No.8.250及びB.261は0.0
5重51%の噴霧液として使用した際に公知の比較有効
物質Vl(65%)よりも良好な殺菌作用を有する(1
00%)ことを示した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼ I [式中、置換基A、Bは5又は6員環のヘテロアリール
基、C_1〜C_8−アルキル基、C_3〜C_8−シ
クロアルキル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒド
ロチオピラニル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチ
ル基又はベンジル基を表し、この場合これらの置換基は
なおニトロ基又はアミノ基、又は3個までの以下の基:
ハロゲン原子、C_1〜C_4−アルキル基、部分的に
又は完全にハロゲン化されたC_1〜C_4−アルキル
基、C_1〜C_4−アルコキシ基又はフェノキシ基を
有することができ、但しBがo−メチルフェニル基を表
す限りは、置換基A又はBの少なくとも1つは前記に定
義したヘテロアリール基の1つを表し、ZはCH又はN
を表す]で示される、但し2−(イミダゾール−1−イ
ルメチル)−2−(4−フロオルフェニル)−3−(ピ
リジ−3−イル)−オキシランを除く、アゾリルメチル
オキシラン並びに植物相容性の鉱物塩I・HX及び式
I の金属錯体。 2、請求項1記載の式 I のアゾリルメチルオキシラン
、その植物相容性の鉱物塩及びその金属錯体の少なくと
も1つ並びに液体又は固体担持物質を含有する殺菌剤。
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DE3942333.6 | 1989-12-21 | ||
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