JPH03168938A - 導波路型光学ヘッド - Google Patents

導波路型光学ヘッド

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JPH03168938A
JPH03168938A JP1306794A JP30679489A JPH03168938A JP H03168938 A JPH03168938 A JP H03168938A JP 1306794 A JP1306794 A JP 1306794A JP 30679489 A JP30679489 A JP 30679489A JP H03168938 A JPH03168938 A JP H03168938A
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waveguide
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light
waveguide layer
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Tadashi Takeda
正 武田
Tatsuki Waide
達貴 和出
Yasumitsu Miyazaki
宮崎 保光
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光ディスクや光磁気ディスク等の光ピックアッ
プ部に用いるに最適な光学ヘッドに関し,特に、光が伝
殼される導波層を有する光導波路を用いた導波路型光学
ヘッドに関する. 〔従来の技術】 コンパクトディスクやレーザーディスク等の再生専用の
光ディスクや,追記型の光ディスク、あるいは,磁気光
学効果を利用して情報の記録再生を可能とした光磁気デ
ィスク等の光ピックアップ部としては、従来,バルク型
の光学部品を組合せた光学ヘッドが用いられていたが,
この種の光学ヘッドは,多数の光学部品と光源及び光検
知器とを組合せて構或されるため、光学ヘッド全体が大
きく且つ重くなり,また、構或も複雑となり組付けや調
整に手間がかかり,しかも、部品点数が多いため、生産
コストが増大するという問題があった. そこで、このような従来の光学ヘッドの問題を解決する
ため、基板上に光導波路を形成すると共に、その基板上
にレンズ素子、発光素子,受光素子等を集積化した導波
路型の光学ヘッドが提案されている(例えば、特開昭6
2−217434号公報等).ここで、第5図は従来の
導波路型光学ヘッドの一例を示すものであって,この導
波路型光学ヘッドは,基板上に,レーザー光源LDと光
検知器1l3とを備えると共に、レーザー光源LD及び
光検知器113と出射@111間を接続する光ピックア
ップ用導波路117と,この光ピックアップ用導波路1
17の両側に設けられトラック方向の集束位置ずれを検
出するための導波路AI, A2と、焦点位置の前後を
検知する導波路Bl, B2とが形威されていることを
特徴としており、出射端111と光ディスク106の間
には対物レンズ115が配置されている.中央の光ピッ
クアップ用導波路117から出射した光は,対物レンズ
II5を介して光ディスク106に照射され、その反射
光が対物レンズ115を介して光ピックアップ用導波路
117に入射する.そして導波路117を伝搬した光は
光検知器1113で検知され、電気信号に変換され、情
報の読み取りが行われる。
尚,光ディスク106からの反射光が導波路117の出
射端111位置に正確に絞られておれば、他の導波路A
I, A2や81, B2への入射光パワーは小さいた
め,これら導波路AI, A2, Bl, B2用の光
検知器118,119,120,121からの検知信号
によって、光ピックアップ導波路117に焦点が有って
いることが検冑できる. このように,第5図に示す構威の導波路型光学ヘッドで
は、基板上に光導波路,レンズ素子,レーザ光源、光検
知器等が集積化されているため、小型化、軽量化が容易
であり,且つ、製造時に各素子の位置決めを正確に行う
ことができ、組付け後のga等の作業が不要となり、ま
た,検出精度も向上する.また、部品点数も大幅に削減
されるため,生産コストを大幅に低減することができる
.〔発明が解決しようとする課題〕 ところで、第5図に示す構或の導波路型光学ヘッドでは
、レーザー光源LDからの出射光と、光ディスク106
からの反射光とが、同一の光ピックアップ用導波路11
7内を伝搬されるが、このような構成の場合,合焦(o
n Focus)の状態においては、光ディスクからの
反射光は導波路117にほぼ完全に戻ることになる. ところが、このように光ピックアップ用導波路117内
に戻された光は,導波路内を出射時とは逆方向に伝搬さ
れるため,一部の伝搬光がレーザー光ILDに戻されて
しまう.このように、レーザー光源LDに光ディスクか
らの反射光が戻されてしまうと、レーザー光源LDの発
振が不安定となり,結果的に、光学ヘッド全体の性能の
劣化を招く虞れがあり問題となる. 本発明は上記事情に鑑みてなされたものであって、光情
報記録媒体からの戻り光の影響を排除し、高性能化、性
能の安定化を容易に図り得る導波路型光学ヘッドを提供
することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達或するための第1の構成として、本発明の
導波路型光学ヘッドは、半導体レーザーからの出射光を
伝敵する第1導波層を有する第1光導波路と,上記出射
光を光情報記録媒体上に放射するための放射部と、上記
放射部から照射され光情報記録媒体で反射された光を光
検出部に伝搬する第2導波層を有する第2光導波路とを
基板上に備え、上記第2光導波路は上記基板上の上記放
射部が形成された面と同一面上に形成され第2導波層が
放射部と連接されると共に上記放射部からの光が出射さ
れる側の基板端面に対し略直角な向きに形成されたこと
を特徴とする. また,第2の構或として、本発明の導波路型光学ヘッド
は、半導体レーザーからの出射光を伝搬する第l導波層
を有する第1光導波路と、上記出射光を光情報記録媒体
上に放射するための放射部と,上記放射部から照射され
光情報記録媒体で反射された光を光検出部に伝搬する第
2導波層を有する第2光導波路とを基板上に備え,上記
第2導波層の屈折率n2と上記第1導波層の屈折率nエ
との関係が.n2>nuとなることを特徴とする.また
、第3の構戒として、本発明の導波路型光学ヘッドは、
半導体レーザーからの出射光を伝搬する第工導波層を有
する第1光導波路と,上記出射光を光情報記録媒体上に
放射するための放射部と、上記放射部から照射され光情
報記録媒体で反射された光を光検出部に伝搬する第2導
波層を有する第2光導波路とを基板上に備え、上記第2
導波層の巾若しくは層厚を上記第1導波層の巾若しくは
層厚より大きくしたことを特徴とする.〔作   用〕 本発明の導波路型光学ヘッドでは、半導体レーザーから
の出射光を放射部に向けて伝搬する第1導波層を有する
第1光導波路と、放射部から照射され光情報記録媒体で
反射された光を光検出部に伝搬する第2導波層を有する
第2光導波路とを別途に設けた構威のため、光情報記録
媒体からの戻り光が半導体レーザー側に戻されることが
なく、戻り光の影響をほぼ完全に防止できる.また,前
記第2の構成に示すように、第2導波層の屈折率n3と
第1導波層の屈折率n1との関係が,n2>nzとなる
ように構或することにより、第2導波層から第1導波層
への光の洩れが防止される. また、前記第3の構或に示すように、第2導波層の巾若
しくは層厚が第1導波層の巾若゛シ<は層厚より大きく
なるように構或することにより、光情報記録媒体からの
戻り光が第1導波層側に入り込むことが防止される. 〔実 施 例〕 以下、本発明を図示の実施例に基づいて詳細に説明する
. 第1図は本発明の一実施例を示す導波路型光学ヘッドの
側面構或図、第2図は同上導波路型光学ヘッドをX軸方
向から見たときの各層部分の平面図であって、同図(a
)は第1導波路部分の平面図、同図(b)は第2導波路
部分の平面図、同図(c)は基板部分の平面図を夫々示
している。また、第3図は同上導波路型光学ヘッドの半
導体レーザー側の端面図である. 第1図乃至第3図において、本実施例における導波路型
光学ヘッドは、半導体レーザー1からの出射光を伝搬す
る層厚が均一な第1導波層20とこの第1導波層20に
形威され上記出射光を平行光束とするコリメータレンズ
30と上記第1導波層20に連接されるアイソレータ部
22及び第1バッファ層4とを有する第1光導波路と、
上記第1導波層20及びアイソレータ部22を伝搬され
て来た上記出射光を上記第1光導波路のアイソレータ部
22から取リ出し第2バッファ層5を介してその端面5
aから光情報記録媒体9に向けて放射するためのテーパ
結合器(テーパ状導波層)23を備えた放射部と、上記
放射部から放射され対物レンズ8を介して光情報記録媒
体9に照射され光情報記録媒体9で反射された光を集光
レンズ33,分波器32,集光レンズ3lを介してフォ
トダイオード等の光検知器7からなる光検出部に伝搬す
る第2導波層21及び第2パッファ層5を有する第2光
導波路とを、同一の基板6上に備え、上記第2光導波路
は上記基板6上の放射部が形成された面と同一面上に形
成され上記第2導波層21が放射部のテーパ結合器23
と連接されると共に上記放射部からの光が出射される側
の第2バッファ層端面5aに対し略直角な向きに形戊さ
れ、且つ、上記第1光導波路は上記第2光導波路上に積
層形威されたことを特徴とするものである. ここで、上記半導体レーザー1の発光面は第1光導波路
の第1導波層20の端面に接合されており、半導体レー
ザー1からの出射光は確実に第1導波層20に伝搬され
る.第1導波層20は層厚が均一な均一導波層であり、
第1導波層20に入射された光束を内部に閉じ込め,ア
イソレータ部22に向けて伝搬する.第1導波層20に
設けられたコリメータレンズ30は,第1導波層20を
伝搬される光束を略平行光束とするように作用する.ま
た、第1導波層20と一体に連接されるアイソレータ部
22の出射端は第2導波J’l21に結合されており、
第1導波層20からの伝搬光を第2導波[21に導波す
るように作用する.この第2導波層2lに導波された光
束は第2導波/121と連接された放射部のテーパ結合
器(テーパ状導波層)23によってカットオフされ、導
波光に対して透明な第2バッファM5側に出射され、そ
の第2バッファ層の端面5aから空気中へ放射される.
空気中に放射された放射光は,対物レンズ8によって光
情報記録媒体9の記録面に集光されるが,フォーカス及
びトラッキングのためのサーボは対物レンズ8の駆動に
より行われる.光情報記録媒体9の記録面によって反射
された戻り光は、上述とは逆の光路を通って第2バッツ
ァ層端面5aから入射され、テーパ結合器23を介して
第2導波層2lに伝搬される。第2導波層21は層厚が
均一な均一層厚導波層であり、光情報記録媒体9からの
戻り光を光検出部に向けて伝搬する。
また、第2導波層2lには集光レンズ33が設けられて
おり、この集光レンズ33によって伝搬光は略平行光と
され、さらに第2導波層21を伝搬される。
また、第2導波層21の光検出部側には分波器32が設
けられており、分波器32によって伝搬光が2方向に分
割される。この2方向に分割された伝搬光は、夫々集光
レンズ31によって集束光となり、第2導波[21のテ
ーパ部24によって第2バッファ層5側に出射され、基
板6に設けられた光検知器7(7a ,7b )に導か
れる。この光検知器7 (7a,7b)はフォトダイオ
ード等からなり、例えばSLからなる基板6中にモノリ
シックに形威されていて、その受光部は各々2分割され
ている. 尚、上述のアイソレータ部22、テーパ結合器23、テ
ーパ部24は、シャドーマスクスパッタリング法で作製
される.また、第1、第2導波層中に設け?れるコリメ
ータレンズ30、集光レンズ31, 33、分波器32
は、イオン交換法で作製される.また、第1導波層20
,第2導波層21,第1バッファH4は光学ガラス等で
形成され、第2バッファ層5はsio,等で形威される
. また、第1導波層20の屈折率をn8、第2導波層21
の屈折率をn2、第1バッファ層4の屈折率をns1、
第2バッファM5の屈折率をns2とした場合に,これ
らの関係は, nz>nz>(nsz* ns,) と定められる. すなわち,第2導波層21の屈折率n2を第l導波層2
0の屈折率n■より大きくシ,且つ、両導波層の間に,
これらより低屈折率の第1バッファ層4を介在させたこ
とにより,第2導波層2lから第1導波層20への光の
洩れが防止され、且つ、第2導波層21と基板6との間
に第2導波層2lより低屈折率の第2バッファ層5を設
けたことにより、第2導波層2lから基板6への光の洩
れが防止される.尚、第1バッファ層4の屈折率nB,
と第2バッフア層Sの屈折率ns,の関係は.ns1=
ns,としてもよい. 次に、第l図乃至第3図に示す構或の導波路型光学ヘッ
ドの作製手順の一例について簡単に説明する. ■ 先ずSL基板6を作製し、第2図(c)に示すよう
に,このSi基板6にドーピング法等によりフォトダイ
オード等の光検知器7を形成する。
■ 次に,上記Si基板6上にスパッタリング等により
SiO2Mを堆積させ,第2バッファ層5を形成する. ■ 次に、第2バッファ層5の上に、シャドーマスクス
パッタリング法により第2導波,Ii21及び放射部の
テーパ結合器(テーパ状導波M)23を形成する.すな
わち、第2導波層部分は均一層厚に形成されるが、この
第2導波層21に連接されるテーパ結合器23と,第2
導波層2lのテーパ部24とは、漸次層厚が減少する構
造のため,シャドウマスクスパッタリング法により、ス
パッタリング時にシャドウマスクをテーパの傾斜方向に
移動させつつスパッタリングを行い、マスクの移動速度
を制御することで所望の形状のテーパ結合器23及びテ
ーパ部24を形成するわけである。
■ 次に、上述のようにして形成された第2導波層21
に、第2図(b)に示すように、イオン交換により集光
レンズ31. 33及び分波器32を形成する。
■ 次に,シャドウマスクスパッタ法により、上記第2
導波層21上に第lバッファ層4をfI!層形成する. ■ 次に、マスクスパッタリングにより、上記第1バッ
ファN4の上に第1導波W!I20及びアイソレータ部
22を積層形成し、第2図(b)に示すように、この第
l導波[20にイオン交換によりコリメータレンズ30
を形成する.尚、第1導波層20の巾は第2導波層2l
の巾より小さく形成される. ■ 次に、第工導波層20の端面に半導体レーザー1の
発光面を接合して、第1図乃至第3図に示す構造の導波
路型光学ヘッドが作製される.次に第l図乃至第3図に
示す構或の導波路型光学ヘッドの動作についてより詳し
く説明する.第1図乃至第3図において,半導体レーザ
ー1から出射された光束は、第1導波層20に閉じ込め
られて伝搬し、コリメータレンズ30により平行光束に
コリメートされて、さらに第1導波層20を伝搬される
.そして、アイソレー夕部22に到達された伝齢光は、
アイソレー夕部22の傾斜に沿って伝搬され、第2導波
層21側に導波される.第2導波層21側に導波された
光束は、導波層の巾方向(図中y方向)に集束作用を持
つ集光レンズ33によってに集束され、その集束光とな
った光束は、第2導波層21と連接されたテーパ結合器
(テーパ状導波層)23のテーパ部の作用により、層厚
方向(図中X方向)にも集束され、テーパ結合器23の
層内の図中a点で一度焦点を結び、このa点でカットオ
フされて第2バッファN5中に放射され、第2バッファ
層端面5aから外部に放射される.この外部に放射され
た光束は発散球面波であり、対物レンズ8によって集光
されて光情報記録媒体9の記録ピットに焦点を結ぶ.こ
こで、上述の集光レンズ33は,テーパ結合器23のテ
ーバ部の作用による層厚方向の光束の集光点aに対して
巾方向の光束の集光点を一致させ、第2バッファ層端面
5aからの放射光のX方向とy方向の発散角α,βを同
一にするために設けられている.尚,テーバ状導波層2
3及び上述の集光レンズ33の作用については、本出願
人が先に特許出願した、特願昭63−230247号明
細書及び特願平1− 54657号明細書に詳細な説明
が記載されている. さて、光情報記録媒体9によって反射された光は,上述
とは逆の過程を経て、第2バッファ層5の端面5aから
テーパ結合器23に入射され、テーパ結合器23から第
2導波pIJ21中へ伝搬される.そして、第2導波層
21に伝搬された戻り光は集光レンズ33を通過して略
平行光とされる.この第2導波層21へ伝搬された戻り
光は、前述したように、第2導波層2lの屈折率n3が
第1導波層20及びアイソレータ部22の屈折4!nエ
より大きく設定されており、また,第l導波層20及び
アイソレータ部22の巾は第2導波層21の巾より狭い
ため、アイソレータ22側へはほとんど戻らず、そのま
ま第2導波層zl中を伝敵し、分波器32によって2方
向に分割される.そして,2方向に分割された光束は集
光レンズ3lによって夫々集束光となった後、第2導波
層21のテーパ部24によって第2バツファ層5側にカ
ットオフされ、基板6に形成された光検知器7a, 7
bに夫々集光される.この時,トラッキングのずれによ
り、分波器32によって分割される光のパワーが5:5
から6=4又は7:3又は3:7というように変化した
場合には、光検出器7aと7bの受光光量の比較からト
ラッキングエラー信号を検出することができる。また、
フォーカス位置にずれが生じた場合には、2分割された
光束の焦点位置b,cが夫々移動するので、夫々の光検
出器7a, 7bの各分割受光面の受光光量差からフォ
ーカスエラー信号を検出することができる.次に、第4
図は本発明の別の実施例を示す導波路型光学ヘッドの側
面構或図であって、第1図と同様の符号を付したものは
同様の作用効果を奏する構成部である. ここで、第4図に示す導波路型光学ヘッドは、第1導波
N20の層厚tユと、第2導波N21の層厚t2 との
関係を11<12としたものであり、このように、第1
導波層20側の層厚を第2導波層21の層厚より小さく
することにより、光情報記録媒体9からの戻り光が第1
導波層側に戻されることがより一層防止される. 尚、先の第1図乃至第3図に示した実施例、及び第4図
に示した実施例において、第2光導波路の分波器32及
び集光レンズ31は一緒にすることも可能である.また
,光検出器7 (7a, 7b)は基板6内に形成せず
に、半導体レーザー1と同様に第2導波層端面にハイブ
リット化してもよく、この場合には,第2導波層21の
テーパ部24は不要となる.尚、本発明による、多層膜
構造の光導波路は.実施例で示した光学ヘッドのみでな
く、一般的な光集積回路中においても十分に利用できる
ものである. また,図示の実施例においては、第1光導波路と第2光
導波路とを基板上に積層して形威した例について示した
が、第l光導波路と第2光導波路とを基板の同一平面上
に並設して形成しても同様の作用効果が得られる。
〔発明の効果〕
以上、図示の実施例に基づいて説明したように、本発明
の導波路型光学ヘッドは、半導体レーザーからの出射光
を放射部に向けて伝搬する第1導波層を有する第l光導
波路と、放射部から照射され光情報記録媒体で反射され
た光を光検出部に伝搬する第2導波層を有する第2光導
波路とを基板上に設け、且つ,第2導波層が放射部と同
一面上に形威され且つ光出射端面に対して直角な方向に
形威されているため、光情報記録媒体からの戻り光は第
2導波層内に伝搬され,半導体レーザー側に戻されるこ
とがないため、戻り光による悪影響を略完全に防止でき
る. また、第2導波層の屈折率n2 と第1導波暦の屈折率
n1との関係が、n,>n,となるように構或すること
により、上記戻り光による悪影響と,第2導波層から第
1導波層への光の洩れとが略完全に防止される. また,第2導波層の巾若しくは層厚が第1導波層の巾若
しくは層厚より大きくなるように構成することにより,
光情報記録媒体からの戻り光が第1導波層側に戻される
ことがより一層防止され,戻り光による悪影響をより一
層防止できる.以上のように,本発明によれば、光情報
記録媒体から半導体レーザーへの戻り光の問題が解消さ
れ、高性能化,性能の安定化を容易に図り得る新規な構
成の導波路型光学ヘッドを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す導波路型光学ヘッドの
側面構或図、第2図は同上導波路型光学ヘッドの各層部
分の平面図であって、同図(a)は第1光導波路部分の
平面図、同図(b)は第2光導波路蔀分の平面図、同図
(Q)は基板部分の平面図である.第3図は第1図に示
す導波路型光学ヘツドの半導体レーザー側の端面図であ
る.第4図は本発明の別の実施例を示す導波路型光学ヘ
ッドの側面構或図、第5図は従来技術の一例を示す導波
路型光学ヘッドの平面構或図である. 1・・・・半導体レーザー、4・・・・第1バッファ層
、5・・・・第2バッファ層、5a・・・・光出射側端
面、6・・・・・基板,7・・・・光検知器、8・・・
・対物レンズ、9・・・・光情報記録媒体、20・・・
・第1導波層、21・・・第2導波層、22・・・・ア
イソレータ部、23・・・・テーパ結合器、24・・・
・テーパ部、30・・・・コリメータレンズ、31.3
3・・・・集光レンズ、32・・・・分波器.形l 口 めZ圀 7F)4 園 形a口 禍 ≧===

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、半導体レーザーからの出射光を伝搬する第1導波層
    を有する第1光導波路と、上記出射光を光情報記録媒体
    上に放射するための放射部と、上記放射部から照射され
    光情報記録媒体で反射された光を光検出部に伝搬する第
    2導波層を有する第2光導波路とを基板上に備え、上記
    第2光導波路は上記基板上の上記放射部が形成された面
    と同一面上に形成され第2導波層が放射部と連接される
    と共に上記放射部からの光が出射される側の基板端面に
    対し略直角な向きに形成されたことを特徴とする導波路
    型光学ヘッド。 2、半導体レーザーからの出射光を伝搬する第1導波層
    を有する第1光導波路と、上記出射光を光情報記録媒体
    上に放射するための放射部と、上記放射部から照射され
    光情報記録媒体で反射された光を光検出部に伝搬する第
    2導波層を有する第2光導波路とを基板上に備え、上記
    第2導波層の屈折率n_2と上記第1導波層の屈折率n
    _1との関係が、n_2>n_1となることを特徴とす
    る導波路型光学ヘッド。 3、半導体レーザーからの出射光を伝搬する第1導波層
    を有する第1光導波路と、上記出射光を光情報記録媒体
    上に放射するための放射部と、上記放射部から照射され
    光情報記録媒体で反射された光を光検出部に伝搬する第
    2導波層を有する第2光導波路とを基板上に備え、上記
    第2導波層の巾若しくは層厚を上記第1導波層の巾若し
    くは層厚より大きくしたことを特徴とする導波路型光学
    ヘッド。
JP1306794A 1989-11-27 1989-11-27 導波路型光学ヘッド Expired - Lifetime JPH0827969B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH01271931A (ja) * 1988-04-22 1989-10-31 Sony Corp 光学的再生ヘッド

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH01271931A (ja) * 1988-04-22 1989-10-31 Sony Corp 光学的再生ヘッド

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