JPH0316800B2 - - Google Patents
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- JPH0316800B2 JPH0316800B2 JP7937783A JP7937783A JPH0316800B2 JP H0316800 B2 JPH0316800 B2 JP H0316800B2 JP 7937783 A JP7937783 A JP 7937783A JP 7937783 A JP7937783 A JP 7937783A JP H0316800 B2 JPH0316800 B2 JP H0316800B2
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
Description
(1) 技術分野
本発明は電子工業用配線、放熱板等に用いられ
る熱伝導性の良い電気絶縁基板に関する。 (2) 背景技術の説明 前記電気絶縁基板は通常樹脂層を金属板上に貼
付けた構造となつており、樹脂層上へCu箔を張
付け印刷回路となる部分のCu箔をマスクし、マ
スク外に表出されたCu箔をエツチング等で溶解
除去して、印刷回路を形成する。また、Cu箔を
用いる代わりに樹脂層上に導電性ペースト等を用
い、これを同様にエツチングして印刷回路を形成
することも可能である。かくして形成された印刷
回路上には、トランジスター、ダイオード、抵
抗、コンデンサー等の種々の部品を搭載する。こ
れは実装といわれる。これらの部品は発熱するた
めに、電気絶縁基板は熱放散性が必要であり、電
気絶縁性も当然必要である。 (3) 従来技術及びその問題点の説明 従来、印刷配線板、放熱板等の基板材料には紙
基材フエノール樹脂積層板あるいはガラス基材エ
ポキシ樹脂積層板などの有機高分子材料と基材と
の複合物や、アルミナ基板などのセラミツク材料
が用いられているが、いづれも熱伝導率が小さ
く、熱放散が不充分なためIC，MSI，LSIなどの
高発熱部品を高密度に配置（実装）することがで
きない欠点があつた。 そこで、耐熱性と熱伝導性にすぐれた金属を基
材とした基板の開発が行なわれて来た。金属を基
材とする基板は、印刷回路形成上電気絶縁層が必
須であり、この電気絶縁層が熱放散性を低下させ
ないことが肝要となる。そこで金属と有機高分子
材料との複合積層板、或いはアルミニウム板上に
電気絶縁性のアルマイト皮膜を形成した金属とセ
ラミツクの複合基板等が開発されているが、前者
は有機高分子材料の存在の為に熱抵抗が大きくな
り、また後者はアルマイト皮膜の温度が上昇した
場合：アルマイト皮膜に割れが入り、電気絶縁性
が悪くなるなどの欠点がある。前者の熱抵抗を低
下させるために、有機高分子材料中にAl2O3，
SiO2，BN等のフイラーを混入した複合積層板も
開発されているが、熱抵抗の低下は不十分であ
る。本出願人は前に有機高分子中に形状因子が１
〜1.4で、平滑な面を有する多面体状の金属酸化
物粒子が分散した皮膜をアルミニウム等の上に設
けた電気絶縁基板を提案した（特開昭56−35494
号）。だが、このような多面体金属粒子は特殊な
製法によらなければ得られないため、高価である
という欠点がある。 更に、有機高分子中にガラス繊維を入れること
も特開昭57−56988号及び特開昭57−155794号に
より公知であるが、繊維間に気泡の巻き込みを避
けられず、このため樹脂層の熱伝導性能が低下す
る。 (4) 発明の目的 本発明の目的は、基板の金属と有機高分子との
複合基板において、熱伝導性能を改良することを
目的とする。 (5) 発明の構成 本発明は金属板上に絶縁層を設けた印刷回路用
基板において、絶縁層が金属酸化物で被覆された
金属粒子を含んでなる有機高分子からなることを
特徴とする。 以下、本発明を図面を参照しつつ説明する。 第１図は本発明の基板の断面を模式的に示した
もので、１は金属板、例えばアルミニウム板で、
これは図示してないがアルマイト処理したもので
もよい。２が接着性のある有機高分子からなる絶
縁層で、その中に金属酸化物で被覆された金属粒
子３（以下、被覆金属粒子３と称する）が存在し
ている。４は通常のCu箔等である。金属板１と
してはアルミニウムの他に、高熱伝導性を有する
銅、銀、ニツケル、チタニウム等が使用可能であ
るが、価格、重量等からアルミニウム或いはこれ
にアルマイト処理したものが最も好ましい。これ
ら金属板１の厚さは通常0.5〜３mmのものが用い
られる。絶縁層２に用いられる接着性のある有機
高分子としてはエポキシ、フエノール等の樹脂、
シリコンゴム等のゴム状物等が使用できる。 本発明の最大の特徴は、被覆金属粒子３を絶縁
層２のー構成分として用いたことであり、被覆金
属粒子の金属部分（芯部）は、熱放散性向上に寄
与し、酸化物部分（被覆層）は金属部分が電気伝
導に関与しないよう芯部を被覆しているために、
良好な熱伝導性能と良好な電気絶縁性が同時に達
成される。 有機高分子中に分散させる被覆金属粒子の量が
少な過ぎると熱伝導性が悪くなり、また多過ぎる
と強固な絶縁層皮膜を形成させることが困難とな
るので、絶縁層３中に占める粒子の割合は容積で
10〜70％、好ましくは20〜60％である。 また、絶縁層皮膜形成強度を著しく劣化させな
い範囲で、上記容積比10〜70％のうちの２〜30％
相当分を、通常市販されているセラミツク微粉
（例えば、六方晶BN，BeO，SiO2）で、かつ該
被覆金属粒子３より粒径の小さな微粒子をもつて
添加し、該被覆金属粒子３の間に介在させ、絶縁
層２のことも可能である。 絶縁層２の厚さは用途目的等によつて異なるが
一般的には0.01〜0.1mmが適する。なお、絶縁層
２が薄いほど熱伝導性は良好となり、絶縁層は悪
くなる。また絶縁層２の厚さは、被覆金属粒子３
の直径とほぼ等しく、有機高分子中に一層に配列
されいる状態からランダムに多層分散させる状態
までが可能である。この場合は当然被覆覆金属粒
子３同志の接触も起きる。本発明における被覆金
属粒子３は高い熱伝導率を有しているので、この
粒子同志の接触により伝熱パスが形成され熱伝導
向上に寄与する。 第２図は、被覆金属粒子の断面を模式的に示す
図面である。ここで５は金属粒子、６は金属酸化
物を示す。金属粒子５は銅，アルミニウム、銀、
ニツケル等よりなる球形、その他任意の形状の微
粒子である。この金属粒子５はあまり大きいと必
然的に絶縁層が厚くなるので、一般的には100ミ
クロン以下、特に30ミクロン以下程度が適する。
金属酸化物６はAl2O3，MgO・Al2O3，ムライ
ト，フオルステライトなどよりなり、厚さは一般
に0.5〜10ミクロン程度である。かかる被覆金属
粒子３は金属粒子５を酸化物粉末中に混合し、高
速撹拌して製造される。 これらの金属粒子５を上記した有機高分子中に
よく混合、分散し、硬化剤等を添加して、スプレ
ー、印刷法等により金属板の片側面上又は両面上
に塗布し、乾燥、硬化させる。 (6) 実施例 実施例 １ ５〜20ミクロンの銅粒子７５重量部と平均粒径
で0.5ミクロンのアルミナ粉末２５重量部とフエ
ノール樹脂３重量部をヘンシエル・ミキサー
（2600rpm）により撹拌したところ、銅粒子の表
面にアルミナが約５ミクロン付着した被覆金属粒
子が得られた。この被覆金属粒子に150℃で約10
分間の硬化処理を行つた。 この様にして作製した被覆金属粒子５０重量部
をエポキシ樹脂ワニス１００重量部を加えてよく
撹拌し、厚さ35μの銅箔に約80μの厚さになる様
に塗工し、接着層を作製し、ブラスト処理した
1.5mm厚さのアルミ板に載置して加熱ロールで熱
圧着させてアルミベース銅張板を作成した。 同様の方法で10μ以下のAl2O3粒子をフイラー
として添加した場合と無添加の場合について熱抵
抗を測定してみた。基板の寸法は 50×50mm□として中央部に10×15mm□のパツト部
をエツチングで残し、TO−220トランジスター
を放熱半田を使用して固定した。尚、基板は理想
放熱板に固定して測定した。 測定結果を次の表に示す。
る熱伝導性の良い電気絶縁基板に関する。 (2) 背景技術の説明 前記電気絶縁基板は通常樹脂層を金属板上に貼
付けた構造となつており、樹脂層上へCu箔を張
付け印刷回路となる部分のCu箔をマスクし、マ
スク外に表出されたCu箔をエツチング等で溶解
除去して、印刷回路を形成する。また、Cu箔を
用いる代わりに樹脂層上に導電性ペースト等を用
い、これを同様にエツチングして印刷回路を形成
することも可能である。かくして形成された印刷
回路上には、トランジスター、ダイオード、抵
抗、コンデンサー等の種々の部品を搭載する。こ
れは実装といわれる。これらの部品は発熱するた
めに、電気絶縁基板は熱放散性が必要であり、電
気絶縁性も当然必要である。 (3) 従来技術及びその問題点の説明 従来、印刷配線板、放熱板等の基板材料には紙
基材フエノール樹脂積層板あるいはガラス基材エ
ポキシ樹脂積層板などの有機高分子材料と基材と
の複合物や、アルミナ基板などのセラミツク材料
が用いられているが、いづれも熱伝導率が小さ
く、熱放散が不充分なためIC，MSI，LSIなどの
高発熱部品を高密度に配置（実装）することがで
きない欠点があつた。 そこで、耐熱性と熱伝導性にすぐれた金属を基
材とした基板の開発が行なわれて来た。金属を基
材とする基板は、印刷回路形成上電気絶縁層が必
須であり、この電気絶縁層が熱放散性を低下させ
ないことが肝要となる。そこで金属と有機高分子
材料との複合積層板、或いはアルミニウム板上に
電気絶縁性のアルマイト皮膜を形成した金属とセ
ラミツクの複合基板等が開発されているが、前者
は有機高分子材料の存在の為に熱抵抗が大きくな
り、また後者はアルマイト皮膜の温度が上昇した
場合：アルマイト皮膜に割れが入り、電気絶縁性
が悪くなるなどの欠点がある。前者の熱抵抗を低
下させるために、有機高分子材料中にAl2O3，
SiO2，BN等のフイラーを混入した複合積層板も
開発されているが、熱抵抗の低下は不十分であ
る。本出願人は前に有機高分子中に形状因子が１
〜1.4で、平滑な面を有する多面体状の金属酸化
物粒子が分散した皮膜をアルミニウム等の上に設
けた電気絶縁基板を提案した（特開昭56−35494
号）。だが、このような多面体金属粒子は特殊な
製法によらなければ得られないため、高価である
という欠点がある。 更に、有機高分子中にガラス繊維を入れること
も特開昭57−56988号及び特開昭57−155794号に
より公知であるが、繊維間に気泡の巻き込みを避
けられず、このため樹脂層の熱伝導性能が低下す
る。 (4) 発明の目的 本発明の目的は、基板の金属と有機高分子との
複合基板において、熱伝導性能を改良することを
目的とする。 (5) 発明の構成 本発明は金属板上に絶縁層を設けた印刷回路用
基板において、絶縁層が金属酸化物で被覆された
金属粒子を含んでなる有機高分子からなることを
特徴とする。 以下、本発明を図面を参照しつつ説明する。 第１図は本発明の基板の断面を模式的に示した
もので、１は金属板、例えばアルミニウム板で、
これは図示してないがアルマイト処理したもので
もよい。２が接着性のある有機高分子からなる絶
縁層で、その中に金属酸化物で被覆された金属粒
子３（以下、被覆金属粒子３と称する）が存在し
ている。４は通常のCu箔等である。金属板１と
してはアルミニウムの他に、高熱伝導性を有する
銅、銀、ニツケル、チタニウム等が使用可能であ
るが、価格、重量等からアルミニウム或いはこれ
にアルマイト処理したものが最も好ましい。これ
ら金属板１の厚さは通常0.5〜３mmのものが用い
られる。絶縁層２に用いられる接着性のある有機
高分子としてはエポキシ、フエノール等の樹脂、
シリコンゴム等のゴム状物等が使用できる。 本発明の最大の特徴は、被覆金属粒子３を絶縁
層２のー構成分として用いたことであり、被覆金
属粒子の金属部分（芯部）は、熱放散性向上に寄
与し、酸化物部分（被覆層）は金属部分が電気伝
導に関与しないよう芯部を被覆しているために、
良好な熱伝導性能と良好な電気絶縁性が同時に達
成される。 有機高分子中に分散させる被覆金属粒子の量が
少な過ぎると熱伝導性が悪くなり、また多過ぎる
と強固な絶縁層皮膜を形成させることが困難とな
るので、絶縁層３中に占める粒子の割合は容積で
10〜70％、好ましくは20〜60％である。 また、絶縁層皮膜形成強度を著しく劣化させな
い範囲で、上記容積比10〜70％のうちの２〜30％
相当分を、通常市販されているセラミツク微粉
（例えば、六方晶BN，BeO，SiO2）で、かつ該
被覆金属粒子３より粒径の小さな微粒子をもつて
添加し、該被覆金属粒子３の間に介在させ、絶縁
層２のことも可能である。 絶縁層２の厚さは用途目的等によつて異なるが
一般的には0.01〜0.1mmが適する。なお、絶縁層
２が薄いほど熱伝導性は良好となり、絶縁層は悪
くなる。また絶縁層２の厚さは、被覆金属粒子３
の直径とほぼ等しく、有機高分子中に一層に配列
されいる状態からランダムに多層分散させる状態
までが可能である。この場合は当然被覆覆金属粒
子３同志の接触も起きる。本発明における被覆金
属粒子３は高い熱伝導率を有しているので、この
粒子同志の接触により伝熱パスが形成され熱伝導
向上に寄与する。 第２図は、被覆金属粒子の断面を模式的に示す
図面である。ここで５は金属粒子、６は金属酸化
物を示す。金属粒子５は銅，アルミニウム、銀、
ニツケル等よりなる球形、その他任意の形状の微
粒子である。この金属粒子５はあまり大きいと必
然的に絶縁層が厚くなるので、一般的には100ミ
クロン以下、特に30ミクロン以下程度が適する。
金属酸化物６はAl2O3，MgO・Al2O3，ムライ
ト，フオルステライトなどよりなり、厚さは一般
に0.5〜10ミクロン程度である。かかる被覆金属
粒子３は金属粒子５を酸化物粉末中に混合し、高
速撹拌して製造される。 これらの金属粒子５を上記した有機高分子中に
よく混合、分散し、硬化剤等を添加して、スプレ
ー、印刷法等により金属板の片側面上又は両面上
に塗布し、乾燥、硬化させる。 (6) 実施例 実施例 １ ５〜20ミクロンの銅粒子７５重量部と平均粒径
で0.5ミクロンのアルミナ粉末２５重量部とフエ
ノール樹脂３重量部をヘンシエル・ミキサー
（2600rpm）により撹拌したところ、銅粒子の表
面にアルミナが約５ミクロン付着した被覆金属粒
子が得られた。この被覆金属粒子に150℃で約10
分間の硬化処理を行つた。 この様にして作製した被覆金属粒子５０重量部
をエポキシ樹脂ワニス１００重量部を加えてよく
撹拌し、厚さ35μの銅箔に約80μの厚さになる様
に塗工し、接着層を作製し、ブラスト処理した
1.5mm厚さのアルミ板に載置して加熱ロールで熱
圧着させてアルミベース銅張板を作成した。 同様の方法で10μ以下のAl2O3粒子をフイラー
として添加した場合と無添加の場合について熱抵
抗を測定してみた。基板の寸法は 50×50mm□として中央部に10×15mm□のパツト部
をエツチングで残し、TO−220トランジスター
を放熱半田を使用して固定した。尚、基板は理想
放熱板に固定して測定した。 測定結果を次の表に示す。
【表】
加電力である。
第１表より、本発明の印刷回路基板は比較例に
比べ温度上昇率が低いことが分かる。 (7) 効果 本発明によると、従来有機高分子中に単にセラ
ミツク粉末を含有せしめた印刷回路基板よりも熱
伝導性が改善される。
第１表より、本発明の印刷回路基板は比較例に
比べ温度上昇率が低いことが分かる。 (7) 効果 本発明によると、従来有機高分子中に単にセラ
ミツク粉末を含有せしめた印刷回路基板よりも熱
伝導性が改善される。
第１図は本発明に係る印刷回路基板の実施態様
を示す断面図、 第２図は被覆金属粒子の模式断面図である。 １……金属板、２……絶縁層、３……被覆金属
粒子、５……金属粒子、６……金属酸化物。
を示す断面図、 第２図は被覆金属粒子の模式断面図である。 １……金属板、２……絶縁層、３……被覆金属
粒子、５……金属粒子、６……金属酸化物。
Claims (1)
- １ 金属板上に絶縁層を設けた印刷回路用基板に
おいて、絶縁層が金属酸化物で被覆された金属粒
子を含んでなる有機高分子からなることを特徴と
する印刷回路用基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7937783A JPS59204296A (ja) | 1983-05-09 | 1983-05-09 | 印刷回路用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7937783A JPS59204296A (ja) | 1983-05-09 | 1983-05-09 | 印刷回路用基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59204296A JPS59204296A (ja) | 1984-11-19 |
| JPH0316800B2 true JPH0316800B2 (ja) | 1991-03-06 |
Family
ID=13688176
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7937783A Granted JPS59204296A (ja) | 1983-05-09 | 1983-05-09 | 印刷回路用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59204296A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101652747B1 (ko) * | 2016-05-16 | 2016-09-01 | 이종칠 | Nct 펀칭 형성용 공구 보관장치 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62148512A (ja) * | 1985-12-23 | 1987-07-02 | Matsushita Electric Works Ltd | ポリフエニレンオキサイド固化物の改質法 |
-
1983
- 1983-05-09 JP JP7937783A patent/JPS59204296A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101652747B1 (ko) * | 2016-05-16 | 2016-09-01 | 이종칠 | Nct 펀칭 형성용 공구 보관장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59204296A (ja) | 1984-11-19 |
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