JPH03167815A - 電解液 - Google Patents

電解液

Info

Publication number
JPH03167815A
JPH03167815A JP30844489A JP30844489A JPH03167815A JP H03167815 A JPH03167815 A JP H03167815A JP 30844489 A JP30844489 A JP 30844489A JP 30844489 A JP30844489 A JP 30844489A JP H03167815 A JPH03167815 A JP H03167815A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
acid
formula
quaternary ammonium
alcoholic hydroxyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP30844489A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuji Shiono
塩野 和司
Takaaki Kishi
隆明 紀氏
Hideo Samura
佐村 秀夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Sanyo Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Chemical Industries Ltd filed Critical Sanyo Chemical Industries Ltd
Priority to JP30844489A priority Critical patent/JPH03167815A/ja
Publication of JPH03167815A publication Critical patent/JPH03167815A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Secondary Cells (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、電解液に関するものである。
[従来の技術] 従来、電解液として、飽和脂肪族ジカルボン酸の4級ア
ンモニウム塩がある(例えば米国特許第4473864
号明細書) [発明が解決しようとする課題] しかしこのものは比電導度が低く、また高温放置による
比電導度の低下、ガス発生の問題がある。
[問題点を解決するための手段コ 本発明者らは、比電導度が高く、高温で安定な電解液を
目的に鋭意検討した結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は電解液の溶質としてホウ酸のアルコ
ール性水酸基含有化合物錯体または、ホウ酸のアルコー
ル性水酸基含有化合物錯体とホウ酸のオキシカルボン酸
錯体の混合物または、ホウ酸の燐酸及び/または燐酸エ
ステル錯体または、ホウ酸のモノカルボン酸錯体の4級
アンモニウム塩を用いるものである。
1.ホウ酸のアルコール性水酸基含有化合物錯体の4級
アンモニウム塩としては一般式(1)[式中、Xの全部
または一部は4B−o−#−Q゛,Xの一部は〉B一で
あってもよい;Q4は4級アンモニウム;Rは水酸基、
エーテル基、ケトン基及び/またはS含有官能基を有し
てもよいアルキルまたはアリールアルキル基、Henは
1以上の整数;Rnは ■アルコール性水酸基含有化合物の残基、φ式 −X−
0−Rで示される基、 ■または式 で示される基;mはOまたは1以上の整数;R′は2@
以上のアルコール性水酸基を有する化合物の残基;Rと
RおよびRとR”のいずれか一方または両方が結合して
Bとともに環を形成してもよい。:て表されるホウ素の
4価の化合物から成る群からえらばれた1種または2種
以上の塩があげられる。
ホウ酸のアルコール性水酸基含有化合物錯体の4級アン
モニウム塩の具体例としては、例えば英国特許第1,3
23,312号および米国特許第4,192,759号
明細書記載のホウ酸のアルコール性水酸基含有化合物錯
体と4級アンモニウムヒドロキシドの塩があげられる。
また、RとRおよびRとR’のいずれか一方または両方
が結合してBとともに環を形成したものとしては、例え
ば英国特許第1,341,901号明細書記載のホウ酸
エステル中のホウ素原子の一部または全部が4級アンモ
ニウム塩化ざれたものがあげられる。
一般式(1)においてRのアルキル基としては炭素数1
から18の直鎖または分岐のアルキル基、f’Jlえば
メチル基、エチル基、n−プロビル基、イソブロビル基
、n−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、アリル基、
プロパギル基、クロチル基、;シクロアルキル基、例え
ばシクロヘキシル基、シクロベンチル基、メチルシクロ
ヘキシル基;アリールアルキル基としてはベンジル基;
水酸基、エーテル基、ケトン基、チオエーテル基含有ア
ルキル基としては、フルフリール基、テトラヒド口フル
フリール基、チオフェンメチル基、および後述のアルコ
ール性水酸基含有化合物の残基(1個の水酸基を除いた
残基)があげられる。
Rnで示されるアルコール性水酸基含有化合物の残基(
n個の水酸基を除いた残基)のアルコール性水酸基含有
化合物としては、次のものがある。
1−(1)アルコール性水酸基を1個有する化合物炭素
数1から18の直鎖または分岐の飽和、不飽和脂肪族1
価アルコール、例えばメタノール、エタノール、イソプ
ロパノール、n−ブタノール,sec−ブタノール、t
ert−ブタノール、2−エチルヘキサノール、アリル
アルコール、ブロパギルアルコール、ベンジルアルコー
ル;飽和、不飽和脂環式1価アルコール、例えばシクロ
ヘキサノール、メチルシクロ゛ヘキサノール、ボルネオ
ール、テルピネオール;分子量73からiooooのエ
ーテル基含有1価アルコール、例えば米国特許第411
6846号明細書記載のメチルセルソルブ、エチルセル
ソルブ、プチルセルソルブ、メチル力ルビトール、エチ
ル力ルビトール、プチルカルビトール等のポリアルキレ
ングリコールルモノアルキルエーテルおよびポリオキシ
アルキレンモノオール;その他へテロ原子含有1価アル
コール、例えばフルフリールアルコール、テトラヒド口
フルフリールアルコール、チオフェンメタノール、2−
メルカフ゜トエタノール、4−ヒドロキシ−2−ブタノ
ン、ヒドロキシアセトン、N−メチロールアクリルアミ
ドなどがあげられる。
1−(2)隣接したアルコール性水酸基を2個以上有す
る化合物 (式中、R1、R2、R3及びR4は互いに同一または
異なり、水酸基、エーテル基及び/またはS含有官能基
を有しても良いアルキルまたはアリールアルキル基、水
素原子)で表される隣接したアルコール性水酸基を2個
以上有する化合物飽和、不飽和脂肪族隣接ボリオール、
例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、エ
チルエチレングリコール、2,3−ブタンジオール、ピ
ナコール、1,2−ヘキサンジオール、1,2一デカン
ジオール、1,2−ドデカンジオール、グリセリン、1
,2,4−}リヒドロキシブタン、1,2.3−へブタ
トリオール、1,2.6−}リヒドロキシヘキサン、1
,2,3.4−テトラヒドロキシブタン、1、2,7.
8−オクタンテトロール、5−ヘキセン−1,2−ジオ
ール、7一オクテン−1,2−ジオール;糖アルコール
、例えばエリスリトール、リビトール、キシリトール、
ソルビトール、マンニトール、ズルシトール;飽和、不
飽和脂環式隣接ボリオール、例えば1,2−シクロペン
タンジオール、1,2−シクロヘキサンジオール、1,
2−シクロへブタンジオール、イノシトール、3,5−
シクロへキサジェン一1,2−ジオール;エーテル基含
有隣接ボリオール、例えば3−メトキシ−1,.2−ブ
ロバンジオール、3−エトキシ−1,2−プロパンジオ
ール、3−プロボキシー1,2−プロパンジオール、3
−ブトキシ−1,2−プロパンジオール、3一フエニル
メトキシー1,2−プロパンジオール、3−シクロへキ
シロキシ−1,2−ブロバンジオール、ジグリセリン、
トリグリセリンなどがあげられる。
1−(3)非隣接のアルコール性水酸基を2個以上有す
る化合物 飽和、不飽和脂肪族非隣接ボリオール、例えばジトリメ
チレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−
ブタンジオール、2,4−ペンタンジオール、1,5−
ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−
ヘキサンジオール、2,5−ヘキサンジオール、2−メ
チル−1,3−ペンタンジオール、ヘキシレングリコー
ル、2,2−ジメチロールブタン、2,4−へブタンジ
オール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、エト
ヘキサジオール、2−エチル−2−n−ブチルー1,3
−プロパンジオール、シスー2−ブテンー1,4−ジオ
ール、トランス−2−ブテンー1,4−ジオール、2−
ブチンー1,4−ジオール、ジメチルヘキシンジオール
、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール;分
子量120からiooooのエーテル基含有非隣接ボリ
オール、例えばジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレング
リコール、トリプロピレングリコニル、テトラブ口ピレ
ングリコール、ボリエチレングリコール、ボリブロピレ
ングリコール、ポリブチレングリコール、またはそれら
の共重合体、米国特許第4116846号明細書記載の
ボリオキシアルキレンボリオール;飽和、不飽和脂環式
非隣接ボリオール、例えば1,4−シクロヘキサンジオ
ール、シクロヘキサン−1.3.5−}リオール、4−
シクロヘキセン−1,3−ジオール:S含有ボリオール
、例えばチオジエチレングリコール、2,2’ − (
デカメチレンジチオ)ジメタノール;N含有ボリオール
、例えばジエタノールアミン、N−メチルジエタノール
アミン、トリエタノールアミン、1,4−ビス(2−ヒ
ドロキシエチル)ピペラジン、トリス(ヒドロキシメチ
ル)アミノメタン;P含有ボリオール、例えばトリス(
ヒドロキシメチル)フォスフィノキサイド、;分子量2
72から45、000のポリヒドロキシエチルメタクリ
レート、分子1190から45000のビニルアルコー
ル、分子量181から45000のビニルアルコールー
ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体等のアルコー
ル性水徴基を有するモノマーの重合体及び共重合体があ
げられる。
これらのアルコール性水酸基含有化合物としては2種以
上併用したもの、例えばl−(1)と1−(2)あるい
は1−(1)と1−(2)と1−(3)が使用できる。
R′としては上記1−(2)、1−(3)で挙げた2個
以上のアルコール性水酸基含有化合物から2個の水酸基
を除いた残基が挙げられる。
2個のRおよび/またはRとR″が結合した基としでは
R′と同様のものが挙げられる。
結合してBとともに環を形成したものとしては、例えば
式 で示されるものが挙げられる。
一般式(1)において、nは通常1から8またはそれ以
上、好ましくは1から3、mは通常0から10またはそ
れ以上、好ましくはOから5である。
2.ホウ酸のアルコール性水酸基含有化合物錯体とホウ
酸のオキシカルボン酸錯体の混合物の4級アンモニウム
塩としては一般式(2) [式中、Xの全部または一部は4 B − 0−R)−
Q” ,Xの一部は〉B一であってもよい;Q′″は4
級アンモニウム;Rは ■水酸基、カルボキシル基、エーテル基、ケトン基、N
含有官能基、P含有官能基及び/またはS含有官能基を
有してもよいアルキルまたはアリールアルキル基、 (Aは少なくとも一つの水酸基を有し、カルボキシル基
を有してもよいアルキル基またはアリールアルキル基)
で表されるオキシカルボン酸の残基:nは1以上の整数
;Rnは ■アルコール性水酸基含有化合物の残基、■オキシカル
ボン酸の残基 ■式 −X−0−Rで示される基、 ■または式 で示される基;mはOまたは1以上の整数;R′は合わ
せて2個以上のアルコール性水酸基及び/またはカルボ
キシル基を有する化合物からアルコール性水故基及び/
またはカルボキシル基の水酸基を2個除いた残基;Rと
RおよびRとRnのいずれか一方または両方が結合して
Bとともに環を形成してもよい。コで表されるホウ素の
4価の化合物から成る群から選ばれた1種または2種以
上の塩があげられる。
一般式(2)においてR,R’で示されるアルコール性
水酸基含有化合物の残基のアルコール性水酸基含有化合
物及びオキシカルボン酸の残基のオキシカルボン酸とし
ては次のものがある。
2−(1)アルコール性水酸基含有化合物前述の1−(
1)、1−(2)、1−(3)と同様のアルコール性水
酸基含有化合物があげられる。
2−(2)オキシカルボン酸 脂肪族オキシカルボン酸、例えばヒドロキシ酢酸、グリ
セリン酸、乳酸、酪酸、3−フエニル酪酸、2−ヒドロ
キシ−2−メチル酪酸、2−ヒドロキシ−2−エチル酪
酸、2−ヒドロキシイソ酪酸、2−ヒドロキシ吉草酸、
ヒドロキシビバリン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチ
ル)ブロピオン酸、ヒドロキシイソカフ゛ロン酸、10
−ヒドロキシデカン酸、12−ヒドロキシドデカン酸、
12−ヒドロキシステアリン酸、マンデル酸、2−また
は3−または4−ヒドロキシフエニル酢酸、4−アミノ
ー3−ヒドロキシ酪酸、グルコン酸等のモノカルボン酸
、またはヒドロキシマロン酸、ヒドロキシコハク鮫、ジ
ヒドロキシマロン酸、2−ヒドロキシ−2−メチルコハ
ク酸、酒石酸、粘液酸、クエン酸、3−ヒドロキシ−3
,4−ジカルボキシペンタデカン酸、2−ヒドロキシ−
1,2,3−ノナンデカントリカルボン酸等の多イ西力
ルボン酸;脂環式オキシカルボン酸、例えば1−ヒドロ
キシ−1−シクロフ゜ロパンカルボン酸、ヘキサヒド口
マンデル酸;複素環式オキシカルボン酸、例えば2,6
−ヒドロキシイソニコチン酸等があげられる。
これらのアルコール性水酸基含有化合物とオキシカルボ
ン酸としてはそれぞれ2種以上併用したものが使用でき
る。
R′としては上記で挙げた2個以上のアルコール性水酸
基含有化合物から2個の水酸基を除いた残基及び/また
はオキシカルボン酸からアルコール性水酸基またはカル
ボキシル基の水酸基を合わせて2個除いた残基が挙げら
れる。
2個のRおよび/またはRとR′が結合した基としては
R′と同様のものが挙げられる。
結合してBとともに環を形成したものとしては、例えば
式 で示されるものが挙げられる。
一般式(2)において、nは通常1から8またはそれ以
上、好ましくは1から3、mは通常Oから10またはそ
れ以上、好ましくはOから5である。
3.ホウ酸の燐酸及び/または燐酸エステル錯体の4級
アンモニウム塩としては一般式(3)[式中、Xの全部
または一部は4B−o−$一・Q+,Xの一部は〉B−
であってもよい;Q+は4級アンモニウム;Rは水素原
子又は一般式(4)(式中、R1及びR2はお互いに同
一または異なり、水酸基、エーテル基及び/またはS含
有官能基を有してもよいアルキル基またはアリール基、
水素原子;立はOまたは1)で示される燐酸または燐酸
エステルの残基;nは1以上の整数;R”は ■燐酸又は燐酸エステルの残基、 ■式 −X−0−Rで示される基、 ■または式 で示される基;mはOまたは1以上の整数;R″は燐酸
又は燐原子に結合した2個以上の水酸基含有の燐酸エス
テルから燐原子に結合した2個の水酸基を除いた残基;
RとRおよびRとR’のいずれか一方または両方がが結
合しBとともに環を形成してもよい。コで表されるホウ
素の4価の化合物から成る群から選ばれた1種または2
種以上の塩があげられる。
一般式(3)においてR及びRnで示される燐酸エステ
ルの残基としては、水酸基含有化合物と燐酸類(燐酸、
ピロ燐酸等)のホスホリル化反応で生成する燐酸エステ
ルの残基があげられる。水酸基含有化合物としては、次
のものがある。
直鎖または分岐の飽和、不飽和脂肪族1価アルコール、
例えばメタノール、エタノール、イソブロパノール、n
−ブタノール, SeC−ブタノール、tert−ブタ
ノール、2−エチルヘキサノール、アリルアルコール、
プロパギルアルコール、ベンジルアルコール;飽和、不
飽和脂環式1価アルコール、例えばシクロヘキサノール
、メチルシクロヘキサノール、ボルネオール、テルピネ
オール;分子量73から10000のエーテル基含有1
価アルコール、例えば米国特許第4116846号明細
書記載のメチルセルソルブ、エチルセルソルブ、プチル
セルソルブ、メチル力ルビトール、エチルカルビトール
、プチルカルビトール等のポリアルキレングリコールル
モノアルキルエーテルおよびポリオキシアルキレンモノ
オール;その他へテロ原子含有1価アルコール、例えば
フルフリールアルコール、テトラヒド口フルフリールア
ルコール、チオフェンメタノール、2−メルカプトエタ
ノール、4−ヒドロキシ−2−ブタノン、ヒドロキシア
セトン、N−メチロールアクリルアミドなどがあげられ
る。
飽和、不飽和脂肪族ボリオール、例えばエチレングリコ
ール、ブロビレングリコール、エチルエチレングリコー
ル、ジトリメチレングリコール、1,3−ブタンジオー
ル、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール
、2,4−ペンタンジオール、1,5−ペンタンジオー
ル、ビナコール、ネオペンチルグリコール、1,2−ヘ
キサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,5一
ヘキサンジオール、2−メチル−1,3−ペンタンジオ
ール、ヘキシレングリコール、2,2−ジメチロールブ
タン、2,4−へブタンジオール、2−エチル−1,3
−ヘキサンジオール、1,2ーデカンジオール、エトヘ
キサンジオール、1,2−ドデカンジオール、2−エチ
ル−2−n−ブチルー1,3−ブロバンジオール、グリ
セリン、1,2.4−}リヒドロキシブタン、1,2.
3−へブタトリオール、トリメチロールプロパン、ペン
タエリスリトール、1,2,6−}リヒドロキシヘキサ
ン、1,2,3.4−テトラヒドロキシブタン、1、2
,7.8−オクタンテトロール、5−ヘキセン−1,2
−ジオール、7−オクテン−1,2−ジオール、シスー
2−ブテンー1,4−ジオール、トランス−2−ブテン
ー1,4−ジオール、2−ブチンー1,4−ジオール、
ジメチルヘキシンジオール、;糖アルコール、例えばエ
リスリトール、キシリトール、リビトール、ソルビトー
ル、マンニトール、ズルシトール;エーテル基含有ポリ
オール、例えば3−メトキシ−1,2−プロパンジオー
ル、3−エトキシ−1,2一プロパンジオール、3−プ
ロボキシー1,2−ブロバンジオール、3−ブトキシー
1,2−プロバンジオール、3−フェニルメトキシー1
,2−プロパンジオール、3−シクロへキシロキシ−1
,2−プロパンジオール、ジグリセリン、トリグリセリ
ン、分子量120からiooooのエーテル基含有ボリ
オール、例えばジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、テトラエチレングリコール、ジブロビレング
リコール、トリブロピレングリコール、テトラブロビレ
ングリコール、ボリエチレングリコール、ポリブロビレ
ングリコール、ポリブチレングリコール、またはそれら
の共重合体、米国特許第4,116,846号明細書記
載のポリオキシアルキレンボリオール;飽和、不飽和脂
環式ボリオール、例えば1,2−シクロペンタンジオー
ル、1,2−シクロヘキサンジオール、1,2−シクロ
ヘブタンジオール、イノシトール、3,5−シクロへキ
サジエン−1,2−ジオール、1,4−シクロヘキサン
ジオール、シクロヘキサン−1,3.5−}リオール、
4−シクロヘキセン−1,3−ジオール;S含有ボリオ
ール、例えばチオジエチレングリコール、2.2’ −
(デカメチレンジチオ)ジメタノール;分子量272か
ら45000のポリヒドロキシエチルメタクリレート、
分子童90から45000のビニルアルコール、分子量
181から45000のビニルアルコールーヒドロキシ
エチルメタクリレート共重合体等のアルコール性水酸基
を有するモノマーの重合体及び共重合体があげられる。
フェノール性水酸基含有化合物、例えばフェノール、カ
テコール、レソルシノール、ハイドロキノン、フOC2
グルシノール、ピロガロール、1,2,4−トリヒドロ
キシベンゼン、クレゾール、ナフタノール、ニトロフェ
ノール、ジニトロフェノール、ビクリン酸、ニトロカテ
コール、ニトロレソルシノール、トリニト口レソルシノ
ールなどがあげられる。
これらの水酸基含有化合物としては1種または2種以上
併用したものが使用できる。
R′としては上記で挙げた燐酸または燐原子に結合した
2個以上の水酸基を有する燐酸エステルから燐原子に結
合した2個の水酸基を除いた残基が挙げられる。
2個のRおよび/またはRとR’が結合した基としては
R′と同様のものが挙げられる。
結合してBとともに環を形成したものとしては、例えば
式 で示されるものが挙げられる。
一般式(3)において、nは通常1から8またはそれ以
上、好ましくは1から3、mは通常Oから10またはそ
れ以上、好ましくはOから5である。一般式(4)にお
いて、R1は好ましくは水素原子又は炭素数1から10
のアルキル基、特に好ましくは炭素数1から4のアルキ
ル基である。
4.一般式(5) HOOC−A  (5) [Aは水素原子、アルキル基またはアリール基]で示さ
れるモノカルボン酸とホウ酸との錯体の四級アンモニウ
ム塩としては一般式(6)[式中、Xの全部または一部
は9B−OR−Q”,Xの一部は〉B−であってもよい
;Q+は四級アンモニウム;Rは水素原子または式 O −C−A  (Aは水素原子、アルキル基またはアリー
ル基)で示されるモノカルボン酸の残基;nは1以上の
整数;Rnは ■モノカルボン酸の残基、 ■または式 −X−ORで示される基 ;RとRおよびRとRnのいずれか一方または両方が結
合してBとともに環を形成してもよい。]で表されるホ
ウ素の4価の化合物から成る群から選ばれた1種または
2種以上の塩があげられる。
一般式(5)において示されるモノカルボン酸の例とし
ては、次のものがある。
直鎖まkは分岐の飽和、不飽和モノカルボン酸、例えば
!!故、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カブロン
酸、エナント酸、カブリル故、ペラルゴン酸、カブリン
酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン酸、ミリス
チン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、ヘブタデカン
酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジン酸、イソ
酪酸、イソ吉草酸、イソカブロン酸、エチル酪酸、メチ
ル吉草故、イソカプリル酸、プロピル吉草酸、エチルカ
プロン酸、イソ力ブリン酸、ピバリン酸、2,2一ジメ
チルブタン徴、2,2−ジメチルペンタン酸、2,2−
ジメチルヘキサン酸、2,2−ジメチルへブタン酸、2
−メチル−2−エチルブタン酸、2−メチル−2−エチ
ルベンタン酸、2−メチル−2−エチルヘキサン酸、2
−メチル−2−エチルーへブタン酸2−メチル−2−プ
ロビルペンタン酸、2−メチル−2−プロビルヘキサン
酸、アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、3一ブ
テン酸、ペンテン酸、ヘキセン酸、ヘブテン酸、オクテ
ン酸、ノネン酸、デセン酸、ウンデセン酸、ドデセン酸
、ツズイン酸、フィステリン酸、ゴシュユ酸、パルミト
レイン酸、ベトロセリニン酸、オレイン酸、エライジン
酸、バクセン酸、ガドレイン酸、アクリル酸、メタクリ
ル酸、3−メチルクロトン酸、チグリン酸、メチルペン
テン酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカ
ルボン酸;芳香族モノカルボン酸(o,m,p一各異性
体を含む)、例えば安息香酸、トルイル酸、エチル安息
香酸、プロビル安息香酸、イソブロビル安息香酸、ブチ
ル安息香酸、イソブチル安息香酸、see−ブチル安息
香酸、tert−ブチル安息香酸、エトキシ安息香酸、
ブロボキシ安息香酸、イソブロボキシ安息香酸、ブトキ
シ安息香酸、アミノ安息香酸、N−メチルアミノ安息香
酸、N一エチルアミノ安息香酸、N−プロピルアミノ安
息香酸、N−イソブロビル安息香酸、N−プチルアミノ
安息香酸、N−イソブチルアミノ安息香酸、N,N−ジ
メチルアミノ安息香酸、N,N−ジエチルアミノ安息香
酸、ニトロ安息香酸;カルボキシル基を1個有するアミ
ノ酸、例えばグリシン、アラニン、パリン、ロイシン、
フェニルグリシン、フェニルアラニンなどが挙げられる
2個のR及び/またはRとR’が結合してBとともに環
を形成したものとしては、 例えば式 式 (R’は2個のR及び/またはRとR’が結合した基)
で示されるものが挙げられる。
一般式(6)において、nは通常1から8またはそれ以
上、好ましくは1から3である。
、4級アンモニウム塩を構成する4級アンモニウムとし
ては、テトラアルキル(アルキル基の炭素数は通常1〜
12)アンモニウム(テトラメチルアンモニウム、テト
ラエチルアンモニウム、テトラプ口ビルアンモニウム、
テトラブチルアンモニウム、メチルトリエチルアンモニ
ウム、ジメチルジエチルアンモニウム、エチルトリメチ
ルアンモニウム、N,N−ジメチルビ口リジニウム、N
,N−ジメチルビペリジニウム、N,N−ペンタメチレ
ンビペリジニウムなど)、アリールトリアルキルアンモ
ニウム(フエニルトリメチルアンモニウムなど)、シク
ロへキシルトリアルキルアンモニウム(シクロへキシル
トリメチルアンモニウムなど)、アリールアルキルトリ
アルキルアンモニウム(ペンジルトリメチルアンモニウ
ムなど)及びN,N−ジアルキルビペリジニウム(N,
N−ジメチルビペリジニウムなど)およびこれらの混金
物などがあげられる。これらのうち、好ましいものはテ
トラアルキルアンモニウムである。
特に好ましくは非対称(4個のアルキル基が全て同一、
でない)テトラアルキルアンモニウムである。非対称テ
トラアルキルアンモニウムとしては、前記のうち、メチ
ルトリエチルアンモニウム、ジメチルジエチルアンモニ
ウム、エチルトリメチルアンモニウムがあげられる。
ホウ酸のアルコール性水酸基含有化合物錯体の4級アン
モニウム塩は、例えばホウ酸の4級アンモニウム塩をア
ルコール性水酸基含有化合物と混合し、副生水を除去す
ることで製造される。別の方法として、例えば英国特許
第1,323,312号、米国特許第4,192,75
9号明細書、およびrMethods of Elem
ento Organic Chemistry :V
OしUME  IJ  (A.N.NESMEYANO
V  and  K.A.KOCHESHKOV;19
67) P311〜356に記載の方法で製造されるホ
ウ酸のアルコール性水酸基含有化合物錯体または金属塩
を4級アンモニウムヒドロキシドと混合、または金属を
4級アンモニウムと置換し、かつ副生水、金属化合物を
除去することで製造される。ホウ酸とアルコール性水酸
基含有化合物とのモル比は、ホウ酸に対し、通常0.2
〜10、好ましくは0.5〜5である。ホウ酸と4級ア
ンモニウムとのモル比は、4級アンモニウムに対し、通
常0.5〜1.5、好ましくは0.8〜1.2である。
なお、過剰の4級アンモニウム化合物、例えばヒドロキ
シド、アルコキシド、その他、酸の塩が混在していても
よい。
また、本発明における他の錯体の4級アンモニウム塩も
同様に製造される。なお、ホウ酸のアルコール性水酸基
含有化合物錯体とホウ酸のオキシカルボン酸錯体の混合
物の4級アンモニウム塩におけるアルコール性水酸基含
有化合物とオキシカルボン酸とのモル比は、アルコール
性水酸基含有化合物に対し、通常0.1〜10、好まし
くは0.2〜4である。
本発明の電解液は塩と溶剤(通常有機溶剤)からなる。
この有機溶剤としては、例えばアルコール類{1価アル
コール(メチルアルコール、エチルアルコール、プロビ
ルアルコール、ブチルアルコール、ジアセトンアルコー
ル、ベンジルアルコール、アミノアルコールなど);2
価アルコール(エチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ジエチレングリコール、ヘキシレングリコールな
ど);3価アルコール(グリセリンなど);ヘキシトー
ルなど}、エーテル類{モノエーテル(エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル
、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコーフエニルエーテルなど);ジエーテル(エチレ
ングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなど)}、
アミド類{ホルムアミド類(N−メチルホルムアミド、
N,N−ジメチルホルムアミド、N一エチルホルムアミ
ド、N,N−ジエチルホルムアミドなど);アセトアミ
ド類(N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセ
トアミド、N−エチルアセトアミド、N,N−ジエチル
アセトアミドなど);プロビオンアミド類(N,N−ジ
メチルブロピオンアミドなと);ヘキサメチルホスホリ
ルアミドなど}、オキサゾリジノン類(Nーメチル−2
−オキサゾリジノン、3,5−ジメチル−2−オキサゾ
リジノンなど)、ラクトン類(γ−プチロラクトン、α
−アセチルーγ−プチロラクトン、β−プチロラクトン
、γ−バレロラクトンなど、δ−バレロラクトンなど)
、ニトリル類(アセトニトリル、アクリロニトリルなど
)、ジメチルスルホキシド、スルホラン、1,3−ジメ
チル−2−イミダゾリジノン、N−メチルピロリドン、
芳香族溶剤(トルエン、キシレンなど)、パラフィン系
溶剤(ノルマルパラフィン、イソパラフィンなど)およ
びこれらの2種以上の混合物があげられる。これらのう
ち好ましくはγ−プチロラクトンを主体とする溶剤であ
る。
本発明の電解液は必要により、錯体(例えばホウ酸のア
ルコール性水酸基含有化合物錯体)がホウ酸に加水分解
しない範囲で、水を含有させることができる。その含有
量は電解液の重量に基づいて通常5%以下、好ましくは
3%以下、特に好ましくは1%以下である。
本発明の電解液において、該4級アンモニウム塩の含有
量は、電解液の重量に基づいて通常1〜70%、好まし
くは10〜40%である。
本発明の電解液は、漏れ電流の低減や水素ガス吸収等の
目的で種々の添加剤を添加することができる。添加剤と
しては、リン酸誘導体、ホウ敢誘導体およびニトロ化合
物をあげることができる。
本発明の電解液は通常の用途、例えばエレクトロクロミ
ック表示素子用電解液、電解重合用電解液、電池用電解
液、電気二重層キャパシター用電解液、電気メッキ用電
解液および電解研磨用電解液として使用できる。エレク
トロクロミック表示素子用電解液の使用方法は、例えば
米国特許第4432612号明細書に記載されている。
[実施例コ 以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明は
これに限定されるものではない。実施例中の%は重量基
準である。
実施例1 メチルトリエチルアンモニウムヒドロキシイドのホウ酸
塩(メチルトリエチルアンモニウムに対してホウ酸は1
.03モル当量使用)20部にエチレングリコール14
.5部(ホウ酸に対して2.4モル当量)を混合し、7
 mmHgの減圧下60℃の条件で副生水の除去を5時
間行い、ホウ酸エチレングリコール錯体メチルトリエチ
ルアンモニウム塩29部を得た。γ−プチロラクトン溶
媒に20重量%のホウ酸エチレングリコール錯体メチル
トリエチルアンモニウム塩を溶解させて電解液を得た。
実施例2〜5、従来例1〜4 実施例1と同様の方法で4級アンモニウム塩を得、表1
、2の電解液組成に調整した。
実施例6 ジグリセリンブロビレンオキサイド2モル付加物をホウ
故に対して1.2モル当量使用する以外は実施例1と同
様の方法で4級アンモニウム塩を得、表1の電解液組成
に調整した。
実施例7 実施例1と同じ方法でホウ酸エチレングリコール錯体メ
チルトリエチルアンモニウム塩を得た。また、メチルト
リエチルアンモニウムヒドロキシイドのホウ酸塩(メチ
ルトリエチルアンモニウムに対してホウ酸は1.03モ
ル当量使用)20部にグリコール酸15.2部(ホウ酸
に対して2モル当量)を混合し、7mmlgの減圧下6
0℃の条件で副生水の除去を5時間行い、ホウ酸乳酸錯
体メチルトリエチルアンモニウム塩28部を得た。次に
ホウ酸エチレングリコール錯体メチルトリエチルアンモ
ニウム塩10部とホウ酸グリコール酸錯体メチルトリエ
チルアンモニウム塩1゜O部をγ−プチロラクトン溶媒
80部に加え、窒素気流下80℃の条件で熱処理を2時
間行い電解液を得た。
実施例8〜10 実施例7と同様の方法で4級アンモニウム塩を得、表−
1に記載の様な電解液を調製した。
実施例11 メチルトリエチルアンモニウムヒドロキシイドのホウ酸
塩(メチルトリエチルアンモニウムに対してホウ酸は1
.03モル当量使用)10部にジメチルホスフエート6
.9部(ホウ酸に対して1.0モル当量)とモノメチル
ホスフエート6.1部(ほう酸に対して1.0モル当量
)を混合し、7mmHgの減圧下60℃の条件で副生永
の除去を5時間行い、ホウ酸ジメチルホスフエート錯体
メチルトリエチルアンモニウム塩とホウ酸モノメチルホ
スフエート錯体メチルトリエチルアンモニウム塩の混合
物19部を得た。γープチロラクトン溶媒に20重量%
のホウ酸ジメチルホスフエート錯体メチルトリエチルア
ンモニウム塩とホウ酸モノメチルホスフエート錯体メチ
ルトリエチルアンモニウム塩混合物を溶解させて電解液
を得た。
実施例12 実施例11と同様の方法で4級アンモニウム塩を得、表
−2に記載の様な電解液を調製した。
実施例13 ジn−プチルホスフェートをホウ酸に対して2モル当量
使用する以外は実施例1と同様の方法で4級アンモニウ
ム塩を得、表−2に記載の様な電解液を調製した。
実施例14〜15 実施例13と同様の方法で4級アンモニウム塩を得、表
−2に記載の様な電解液を調製した。
実施例16 メチルトリエチルアンモニウムヒドロキシイドのホウ酸
塩(メチルトリエチルアンモニウムに対してホウ酸は1
.03モル当量使用)20部に蟻酸19部(ホウ酸に対
して4.0モル当量)を混合し、7 mmHgの減圧下
60℃の条件で副生水の除去を5時間行い、ホウ酸蟻酸
錯体メチルトリエチルアンモニウム塩29部を得た。γ
−ブチロラクトン溶媒に20重量%のホウ酸蟻酸錯体メ
チルトリエチルアンモニウム塩を溶解させて電解液を得
た。
実施例17 実施例16と同様の方法で4級アンモニウム塩を得、表
−2に記載の様な電解液を調製した。
表−1に実施例1〜10、表−2に実施例11〜17、
表−3に比較例1〜4の電解液組成を示した。
表−4には、実施例及び比較例の電解液の初期と熱処理
後(150℃、5時間)の比電導度(30’C、m S
 ,/ c m)と、熱処理時のガス発生の有無を示し
た。
表−1 注 1)MTEA:メチルトリエチルアンモニウム2)P○
:ブロビレンオキサイド 表−2 注 1)MTEA:メチルトリエチルアンモニウム表−3 表−4 注 4)150℃、5時間熱処理時 [発明の効果] 本発明の電解液は高い比電導度を示すとともに、金属を
腐食せず、熱的にも安定性の高いものである。
本発明の電解液をエレクトロクロミック表示素子に使用
すると電解液と接触するエレクトロクロミック表示素子
各部を腐食することなく、また高い比電導度を有するた
め、エレクトロクロミック表示素子の寿命を長くすると
言う効果を有する。
し−−−−一二

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ホウ酸のアルコール性水酸基含有化合物錯体の4
    級アンモニウム塩を溶質として用いることを特徴とする
    電解液(電解コンデンサ用を除く)。
  2. (2)ホウ酸のアルコール性水酸基含有化合物錯体の4
    級アンモニウム塩が一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(1) [式中、Xの全部または一部は■B−O−R■・Q^+
    、Xの一部は>B−であっても良い;Q^+は4級アン
    モニウム;Rは水酸基、エーテル基、ケトン基及び/ま
    たはS含有官能基を有してもよいアルキルまたはアリー
    ルアルキル基、H;nは1以上の整数;R^nは 〔1〕アルコール性水酸基含有化合物の残基、〔2〕式
    −X−O−Rで示される基、 〔3〕または式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される基;mは0または1以上の整数;R’は2個
    以上のアルコール性水酸基を有する化合物の残基;Rと
    RおよびRとR^nのいずれか一方または両方がが結合
    してBとともに環を形成してもよい。]で表されるホウ
    素の4価の化合物から成る群から選ばれた1種または2
    種以上の塩であることを特徴とする請求項1記載の電解
    液。
  3. (3)ホウ酸のアルコール性水酸基含有化合物錯体とホ
    ウ酸のオキシカルボン酸錯体の混合物の4級アンモニウ
    ム塩を溶質として用いることを特徴とする請求項1また
    は2記載の電解液。
  4. (4)ホウ酸のアルコール性水酸基含有化合物錯体とホ
    ウ酸のオキシカルボン酸錯体の混合物の4級アンモニウ
    ム塩が一般式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼(2) [式中、Xの全部または一部は■B−O−R■・Q^+
    、Xの一部は>B−であってもよい;Q^+は4級アン
    モニウム;Rは 〔1〕水酸基、カルボキシル基、エーテル基、ケトン基
    、N含有官能基、P含有官能基及び/またはS含有官能
    基を有してもよいアルキルまたはアリールアルキル基、 〔2〕水素原子 〔3〕または式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (Aは少なくとも一つの水酸基を有し、カルボキシル基
    を有してもよいアルキル基またはアリールアルキル基)
    で表されるオキシカルボン酸の残基;nは1以上の整数
    ;R^nは 〔1〕アルコール性水酸基含有化合物の残基、〔2〕オ
    キシカルボン酸の残基 〔3〕式−X−O−Rで示される基、 〔4〕または式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される基;mは0または1以上の整数;R’は合わ
    せて2個以上のアルコール性水酸基及び/またはカルボ
    キシル基を有する化合物からアルコール性水酸基及び/
    またはカルボキシル基の水酸基を2個除いた残基;Rと
    RおよびRとR^nのいずれか一方または両方が結合し
    てBとともに環を形成してもよい。]で表されるホウ素
    の4価の化合物から成る群から選ばれた1種または2種
    以上の塩であることを特徴とする請求項1、2または3
    記載の電解液。
  5. (5)アルコール性水酸基含有化合物が隣接した2個以
    上のアルコール性水酸基を含有する化合物であることを
    特徴とする請求項1〜4のいずれか記載の電解液(電解
    コンデンサ用を除く)。
  6. (6)アルコール性水酸基含有化合物が非隣接の2個以
    上のアルコール性水酸基を含有する化合物であることを
    特徴とする請求項1〜4のいずれか記載の電解液。
  7. (7)ホウ酸の燐酸及び/または燐酸エステル錯体の4
    級アンモニウム塩を溶質として用いることを特徴とする
    電解液(電解コンデンサ用を除く)。
  8. (8) ホウ酸の燐酸及び/または燐酸エステル錯体の
    4級アンモニウム塩が一般式(3) ▲数式、化学式、表等があります▼(3) [式中、Xの全部または一部は■B−O−R■・Q^+
    、Xの一部は>B−であってもよい;Q^+は4級アン
    モニウム;Rは水素原子又は一般式(4)▲数式、化学
    式、表等があります▼(4) (式中、R1及びR2はお互いに同一または異なり、水
    酸基、エーテル基及び/またはS含有官能基を有しても
    よいアルキル基またはアリール基、水素原子;lは0ま
    たは1)で示される燐酸または燐酸エステルの残基;n
    は1以上の整数;R^nは 〔1〕燐酸又は燐酸エステルの残基、 〔2〕式−X−O−Rで示される基、 〔3〕または式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される基;mは0または1以上の整数;R’は燐酸
    又は燐原子に結合した2個以上の水酸基含有の燐酸エス
    テルから燐原子に結合した2個の水酸基を除いた残基;
    RとRおよびRとR^nのいずれか一方または両方がが
    結合しBとともに環を形成してもよい。]で表されるホ
    ウ素の4価の化合物から成る群から選ばれた1種または
    2種以上の塩であることを特徴とする請求項7記載の電
    解液。
  9. (9)一般式(5) HOOC−A(5) [Aは水素原子、アルキル基またはアリール基]で示さ
    れるモノカルボン酸とホウ酸との錯体の四級アンモニウ
    ム塩を溶質として用いることを特徴とする電解液(電解
    コンデンサ用を除く)。
  10. (10)ホウ酸のモノカルボン酸錯体の四級アンモニウ
    ム塩が一般式(6) ▲数式、化学式、表等があります▼(6) [式中、Xの全部または一部は■B−O−R■・Q^+
    、Xの一部は>B−であってもよい;Q^+は四級アン
    モニウム;Rは水素原子または式 ▲数式、化学式、表等があります▼(Aは水素原子、ア
    ルキル基 またはアリール基)で示されるモノカルボン酸の残基;
    nは1以上の整数;R^nは 〔1〕モノカルボン酸の残基、 〔2〕または式−X−O−Rで示される基 ;RとRおよびRとR^nのいずれか一方または両方が
    が結合してBとともに環を形成してもよい。]で表され
    るホウ素の4価の化合物から成る群から選ばれた1種ま
    たは2種以上の塩であることを特徴とする請求項9記載
    の電解液。
  11. (11)四級アンモニウムが非対称四級アンモニウムで
    あることを特徴とする請求項1〜10のいずれか記載の
    電解液。
JP30844489A 1989-11-28 1989-11-28 電解液 Pending JPH03167815A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30844489A JPH03167815A (ja) 1989-11-28 1989-11-28 電解液

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30844489A JPH03167815A (ja) 1989-11-28 1989-11-28 電解液

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03167815A true JPH03167815A (ja) 1991-07-19

Family

ID=17981105

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30844489A Pending JPH03167815A (ja) 1989-11-28 1989-11-28 電解液

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03167815A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014038440A1 (ja) * 2012-09-05 2014-03-13 日本ケミコン株式会社 重合液、この重合液から得られた導電性ポリマーフィルム及び固体電解コンデンサ

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014038440A1 (ja) * 2012-09-05 2014-03-13 日本ケミコン株式会社 重合液、この重合液から得られた導電性ポリマーフィルム及び固体電解コンデンサ
JP2014053386A (ja) * 2012-09-05 2014-03-20 Nippon Chemicon Corp 重合液、この重合液から得られた導電性ポリマーフィルム及び固体電解コンデンサ
US9536675B2 (en) 2012-09-05 2017-01-03 Nippon Chemi-Con Corporation Polymerization liquid, conductive polymer film obtained from polymerization liquid, and solid electrolytic capacitor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5055974A (en) Electrolyte for use in electrolytic capacitors
JP5992605B2 (ja) 織物柔軟剤活性組成物およびその製造方法
CN113528253B (zh) 一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物
CN106158380A (zh) 一种高压铝电解电容器的电解液及其制备方法
JP2016134406A (ja) 蓄電デバイス用電解液の溶質として有用なカルボン酸化合物、及びその製法。
TW201419334A (zh) 鋁電解電容器電解液與鋁電解電容器
CN109957435B (zh) 柴油抗磨剂组合物和柴油组合物及它们的制备方法
JPH03167815A (ja) 電解液
JP4903242B2 (ja) 多金属デバイス処理のためのグルコン酸含有フォトレジスト洗浄組成物
KR920008105B1 (ko) 전해 캐패시터 용도용 전해질
JP5177478B2 (ja) バイオ燃料における改善
CN112927938B (zh) 铝电解电容器的电解液、铝电解电容器及电子器件
JP5817877B2 (ja) 第二級カルボン酸化合物及びそれを用いた電解コンデンサ用電解液
CN103302422A (zh) 无卤素低温锡焊膏
CN1802765A (zh) 用于燃料电池的冷却剂组合物
JPH02248928A (ja) 電解液
CN110684196B (zh) 多羧基改性硅油及其制备方法和应用以及包含其的防锈剂
KR20130063302A (ko) 잉곳 슬라이싱 공정용 접착재료 탈착제 조성물
WO2015159386A1 (ja) 電気化学デバイス電解液用溶媒
JP2017076699A (ja) アルミ電解コンデンサ用電解液及びそれを用いたアルミ電解コンデンサ
WO2011074194A1 (ja) 電解コンデンサ用電解液およびそれを用いた電解コンデンサ
JP4947117B2 (ja) 高純度1,6−デカンジカルボン酸、その製造方法及びその用途
JP2017201673A (ja) アルミ電解コンデンサ用電解液及びそれを用いたアルミ電解コンデンサ
JP5490613B2 (ja) アルミニウム電解コンデンサ用電解液、およびそれを用いたアルミニウム電解コンデンサ
CN118165790A (zh) 一种环保的溶剂型飞机外表面清洗剂及其制备方法