JPH03163879A - 光電変換装置 - Google Patents
光電変換装置Info
- Publication number
- JPH03163879A JPH03163879A JP1303902A JP30390289A JPH03163879A JP H03163879 A JPH03163879 A JP H03163879A JP 1303902 A JP1303902 A JP 1303902A JP 30390289 A JP30390289 A JP 30390289A JP H03163879 A JPH03163879 A JP H03163879A
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- JP
- Japan
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- transistor
- photodiode
- collector
- grounded
- photoelectric transducer
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 101000979912 Homo sapiens Sphingomyelin phosphodiesterase 2 Proteins 0.000 abstract 1
- 102100024550 Sphingomyelin phosphodiesterase 2 Human genes 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
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- 101100277915 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) DMC1 gene Proteins 0.000 description 2
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は発光素子と組合せて使用する光結合回路よりな
る光電変換装置に関するものである。
る光電変換装置に関するものである。
(従来の技術)
餡4図は、受光素子とトランジスタとよりなる従来の光
電変換装置の一例の回路図である。NPNトランジスタ
Q4のコレクタは定電流源8に接続され、そのエミッタ
は接地されている。トランジスタQ4のベース(d:ソ
ートダイオード7を介して接地され、斗た負荷抵抗R8
によってそのコし/クl タと接続されている。
電変換装置の一例の回路図である。NPNトランジスタ
Q4のコレクタは定電流源8に接続され、そのエミッタ
は接地されている。トランジスタQ4のベース(d:ソ
ートダイオード7を介して接地され、斗た負荷抵抗R8
によってそのコし/クl タと接続されている。
第5図は第4図に示されるフォトダイオード7の一例の
略断面図である。サブストレートとしてP型の基板IO
を用い、その表面に形或されたN型のエビタキシャル層
9と基板10との間にPN接台が形威さ?L,点線で示
されるようにダイオードが構威される。その表面は酸化
膜I1で覆われ、エビタキシャル層9の表面の一部にN
+型領域12を設け、その表面には酸化膜I1を貫いて
カソード電極18を設ける。N型のエビタキシャル層9
の表面は受光面となり、それ以外の部分は遮光膜14で
覆われる。前記のフォトダイオードは波長の長い光、特
に赤夕}光に対する感度を高めるため、モノリシック内
に形成されるもっとも深い結合、すなわち前記のN型の
エビタキシャル層9と基板10との間のPN接合で形成
される。
略断面図である。サブストレートとしてP型の基板IO
を用い、その表面に形或されたN型のエビタキシャル層
9と基板10との間にPN接台が形威さ?L,点線で示
されるようにダイオードが構威される。その表面は酸化
膜I1で覆われ、エビタキシャル層9の表面の一部にN
+型領域12を設け、その表面には酸化膜I1を貫いて
カソード電極18を設ける。N型のエビタキシャル層9
の表面は受光面となり、それ以外の部分は遮光膜14で
覆われる。前記のフォトダイオードは波長の長い光、特
に赤夕}光に対する感度を高めるため、モノリシック内
に形成されるもっとも深い結合、すなわち前記のN型の
エビタキシャル層9と基板10との間のPN接合で形成
される。
第4図の回路において、出力電圧J voa は、A
Vo a = I scr X R s ・・
・{l)ここでISC7:フ才トダイオード7に発生す
る光市流 である。
Vo a = I scr X R s ・・
・{l)ここでISC7:フ才トダイオード7に発生す
る光市流 である。
(発明が解決しようとする課題)
従来の回路K釦いて、感度を向上しようとするとき、次
の手段がある。
の手段がある。
(L) 負荷抵抗R8の増加
〈2)7ォトダイオード7の面積の増加しかしながら、
モノリシック内に形威される抵抗値には限界があって、
通常はIMΩ程度が限界である。このためフォトダイオ
ード7の面積を増加せざる得す、小型化に支障があった
。
モノリシック内に形威される抵抗値には限界があって、
通常はIMΩ程度が限界である。このためフォトダイオ
ード7の面積を増加せざる得す、小型化に支障があった
。
(課題を解決するための手段)
本発明にかいては、前記の課題を解決するため、フォト
ダイオードのカソードをPNP }ランジスタのベース
へ、1たフォトダイオードのアノードをPNP }ラン
ジスタのコレクタに接続した。
ダイオードのカソードをPNP }ランジスタのベース
へ、1たフォトダイオードのアノードをPNP }ラン
ジスタのコレクタに接続した。
(作 用)
フォトダイオードで発生した光電流がトランジスタPc
よって増幅されるから、フォトダイオードの面積の増加
を少くすることができる。
よって増幅されるから、フォトダイオードの面積の増加
を少くすることができる。
(実施例)
第1図は本発明の一実施例の回路図である。フォトダイ
オードlのアノードは接地され、そのカンードidPN
I’}ランジスタQlのベースに接続されており、PN
P }ランジスタQ1のエミツタは電源K接続されてか
り、そのコレクタは抵抗R1を介して接地されている。
オードlのアノードは接地され、そのカンードidPN
I’}ランジスタQlのベースに接続されており、PN
P }ランジスタQ1のエミツタは電源K接続されてか
り、そのコレクタは抵抗R1を介して接地されている。
出力%F圧JVOIはコレクタ{lllから取り出され
る。
る。
出力電圧avQli.i:、
” vO 1 ”’ I SCI ’.< IIFEI
ンR I −−゛−(2)ココでI SC:I :フ
ォトダイオード1に発生する光電流 bFE] : PNP }ランジスタQlの直流”+’
a. ′/)f増幅率 である。
ンR I −−゛−(2)ココでI SC:I :フ
ォトダイオード1に発生する光電流 bFE] : PNP }ランジスタQlの直流”+’
a. ′/)f増幅率 である。
式(2)によって明らかkよう1て、フォトダイオート
1に発生する光電流ISClが、?N’? +・ランジ
スタQIVこよって増幅されるC1 第2図は他の実施例の回路図である。フォトトランジス
タ2のカソードはPNP l−5ンジスタQ8のベース
に接続され、そのアノードは接地されている。PNP
}ランジスタQ8の工くツタは、他のNPN }ランジ
スタQ2の工くツタに接続され、そのコレクタは接地さ
れている。NPN}ランジスタQ2のペースは定電圧電
源に接続され、そのコレクタは抵抗R2を介してある電
位に接続されている。この回路の出力電圧av02はN
PN}ランジスタQ2のコレクタ側から取り出される。
1に発生する光電流ISClが、?N’? +・ランジ
スタQIVこよって増幅されるC1 第2図は他の実施例の回路図である。フォトトランジス
タ2のカソードはPNP l−5ンジスタQ8のベース
に接続され、そのアノードは接地されている。PNP
}ランジスタQ8の工くツタは、他のNPN }ランジ
スタQ2の工くツタに接続され、そのコレクタは接地さ
れている。NPN}ランジスタQ2のペースは定電圧電
源に接続され、そのコレクタは抵抗R2を介してある電
位に接続されている。この回路の出力電圧av02はN
PN}ランジスタQ2のコレクタ側から取り出される。
その大きさは、
j!llVO2 ” ISC2 XhFE8 XR2こ
こでIsc2:フォトダイオード2に発生する光電流 hpgg:P N P }ランジスタQ8の直流電流増
幅率 である。
こでIsc2:フォトダイオード2に発生する光電流 hpgg:P N P }ランジスタQ8の直流電流増
幅率 である。
第2図の場合は、PNPトランジスタQ8のコレクタが
抵抗を介することなく接地されているが、第I図の場合
と同様に、フォトダイオード2Kよって発生した光市流
I SC2がPNPトランジスタQsKよって増幅され
る。
抵抗を介することなく接地されているが、第I図の場合
と同様に、フォトダイオード2Kよって発生した光市流
I SC2がPNPトランジスタQsKよって増幅され
る。
第8図は第2図の点線で包囲した部分8を具体化した一
例で、一枚のP型の基板6K形成したN型のエビタキシ
ャル#5の一部にP型領域4及び他の一部にN+型領域
12を形威し、表面K形成された酸化illを貫いて、
それぞれの領域にカソド電極I8及びエミッタ電極15
が設けられている。飴2図のフォトダイオード2は、第
8図にお6てエビタキシャル層5と基板6とのPN接合
によって構威されている。第2図のPNP }ランジス
タQ8は、P型領域4とエビタキシャル層5と基板6と
によってPNP l−ランジスタが構成されている。こ
のような構或によって、フォトダイオードとPNP}ラ
ンジスタとを同一素子に組込むことができる。
例で、一枚のP型の基板6K形成したN型のエビタキシ
ャル#5の一部にP型領域4及び他の一部にN+型領域
12を形威し、表面K形成された酸化illを貫いて、
それぞれの領域にカソド電極I8及びエミッタ電極15
が設けられている。飴2図のフォトダイオード2は、第
8図にお6てエビタキシャル層5と基板6とのPN接合
によって構威されている。第2図のPNP }ランジス
タQ8は、P型領域4とエビタキシャル層5と基板6と
によってPNP l−ランジスタが構成されている。こ
のような構或によって、フォトダイオードとPNP}ラ
ンジスタとを同一素子に組込むことができる。
(発明の効果)
本発明によれば、高感度の小型な光電変換装置を得るこ
とができる。
とができる。
第1図は本発明の一実施例の回路図、第2図は他の実施
例の回路図、第3図はフォトダイオードとPNP }ラ
ンジスタを一体化した略断而図、第4図は従来の例の回
路図、第5図は第4図に使用されるフォトダイオードの
略断面図である。
例の回路図、第3図はフォトダイオードとPNP }ラ
ンジスタを一体化した略断而図、第4図は従来の例の回
路図、第5図は第4図に使用されるフォトダイオードの
略断面図である。
Claims (1)
- 1、トランジスタのベースをこれと同じ導電型を有する
フォトダイオードの一極に接続し、前記のトランジスタ
のコレクタと前記のフォトダイオードの他の極を接続し
たものを同一のチップ上に形成した光電変換装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1303902A JPH03163879A (ja) | 1989-11-21 | 1989-11-21 | 光電変換装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1303902A JPH03163879A (ja) | 1989-11-21 | 1989-11-21 | 光電変換装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03163879A true JPH03163879A (ja) | 1991-07-15 |
Family
ID=17926644
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1303902A Pending JPH03163879A (ja) | 1989-11-21 | 1989-11-21 | 光電変換装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03163879A (ja) |
-
1989
- 1989-11-21 JP JP1303902A patent/JPH03163879A/ja active Pending
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