JP2011082513A - シリコン光検出モジュール - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シリコン基板と、正の部分および負の部分を含むシリコンフォトダイオード検出ユニットと、コレクタ、ベース、およびエミッタを含む寄生垂直バイポーラ接合トランジスタ増幅ユニットと、を含み、シリコンフォトダイオード検出ユニットおよび寄生垂直バイポーラ接合トランジスタ増幅ユニットは、CMOSプロセスによってシリコン基板上に形成され、シリコンフォトダイオード検出ユニットの正の部分は第1伝導部分によって寄生垂直バイポーラ接合トランジスタ増幅ユニットのベースと電気的に接続し、そしてシリコンフォトダイオード検出ユニットの負の部分は第2伝導部分によって寄生垂直バイポーラ接合トランジスタ増幅ユニットのコレクタと電気的に接続する。
【選択図】図3
Description
12 正のウェル
13 正のシリコン基板
14 シリコン光検出器
31 シリコン基板
32 シリコンフォトダイオード検出ユニット
33 寄生垂直バイポーラ接合トランジスタ増幅ユニット
321 正の部分
322 負の部分
331 コレクタ
332 ベース
333 エミッタ
341 第1伝導部分
342 第2伝導部分
3211 正のウェル
3212 正のインプラント領域
3221 負のウェル
3222 負のインプラント領域
3311 深い負のウェル
3312 負のインプラント領域
3313 負の出力インプラント領域
Claims (9)
- 光検出のためのシリコン光検出モジュールであり、
シリコン基板と、
正の部分および負の部分を含むシリコンフォトダイオード検出ユニットと、
コレクタ、ベース、およびエミッタを含む寄生垂直バイポーラ接合トランジスタ増幅ユニットと、
を含むシリコン光検出モジュールであって、
前記シリコンフォトダイオード検出ユニットおよび前記寄生垂直バイポーラ接合トランジスタ増幅ユニットは、相補型金属酸化物半導体(CMOS)プロセスによって前記シリコン基板上に形成され、前記シリコンフォトダイオード検出ユニットの前記正の部分は第1伝導部分によって前記寄生垂直バイポーラ接合トランジスタ増幅ユニットの前記ベースと電気的に接続し、そして前記シリコンフォトダイオード検出ユニットの前記負の部分は第2伝導部分によって前記寄生垂直バイポーラ接合トランジスタ増幅ユニットの前記コレクタと電気的に接続しているシリコン光検出モジュール。 - 前記シリコン基板が正のシリコン基板である請求項1に記載のシリコン光検出モジュール。
- 前記寄生垂直バイポーラ接合トランジスタ増幅ユニットの前記エミッタが接地点と接続している請求項1に記載のシリコン光検出モジュール。
- 前記シリコンフォトダイオード検出ユニットの前記正の部分が正のインプラント領域を含み、そして前記シリコンフォトダイオード検出ユニットの前記負の部分が負のインプラント領域を含む請求項1に記載のシリコン光検出モジュール。
- 前記シリコンフォトダイオード検出ユニットの前記正の部分が正のウェルおよび正のインプラント領域から成り、そして前記シリコンフォトダイオード検出ユニットの前記負の部分が負のウェルおよび負のインプラント領域を含む請求項1に記載のシリコン光検出モジュール。
- 前記寄生垂直バイポーラ接合トランジスタ増幅ユニットの前記コレクタが深い負のウェルおよび負のインプラント領域から成り、前記寄生垂直バイポーラ接合トランジスタ増幅ユニットの前記ベースが正のウェルであり、そして前記寄生垂直バイポーラ接合トランジスタ増幅ユニットの前記エミッタが負のインプラント領域である請求項4に記載のシリコン光検出モジュール。
- 前記第1伝導部分が前記シリコンフォトダイオード検出ユニットの前記正の部分の前記正のインプラント領域と前記寄生垂直バイポーラ接合トランジスタ増幅ユニットの前記ベースを電気的に接続し、そして前記第2伝導部分が前記シリコンフォトダイオード検出ユニットの前記負の部分の前記負のインプラント領域と前記寄生垂直バイポーラ接合トランジスタ増幅ユニットの前記コレクタの前記負のインプラント領域を電気的に接続する請求項6に記載のシリコン光検出モジュール。
- 前記寄生垂直バイポーラ接合トランジスタ増幅ユニットの前記コレクタが、前記寄生垂直バイポーラ接合トランジスタ増幅ユニットにより増幅される電流を出力するために負の出力インプラント領域をさらに含む請求項6に記載のシリコン光検出モジュール。
- 前記光の前記波長が350nm〜1000nmである請求項1に記載のシリコン光検出モジュール。
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