JPH031552A - Tab用テープ - Google Patents
Tab用テープInfo
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- JPH031552A JPH031552A JP13549289A JP13549289A JPH031552A JP H031552 A JPH031552 A JP H031552A JP 13549289 A JP13549289 A JP 13549289A JP 13549289 A JP13549289 A JP 13549289A JP H031552 A JPH031552 A JP H031552A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、IC,LSIチップと基盤とを接続する自動
配線用テープ−いわゆるTAB(TapeAutoma
tic Bonding)用のテープ−に関するもので
ある。
配線用テープ−いわゆるTAB(TapeAutoma
tic Bonding)用のテープ−に関するもので
ある。
(従来の技術)
IC,LSIチップは、Ni−Fe合金、Cuなどの材
質からなるリードフレームに支持され、チップ回路はA
uボンデングワイヤーでリードフレームと連結されてい
る。近時半導体の高性能化に伴い、高密度の実装技術が
要求されている。すなわち集積回路は益々高密度化し、
これに伴うアッセンブリ技術も高度化が必要とされ、そ
のためにTABが多く用いられるようになった。
質からなるリードフレームに支持され、チップ回路はA
uボンデングワイヤーでリードフレームと連結されてい
る。近時半導体の高性能化に伴い、高密度の実装技術が
要求されている。すなわち集積回路は益々高密度化し、
これに伴うアッセンブリ技術も高度化が必要とされ、そ
のためにTABが多く用いられるようになった。
TABはポリイミド、ポリエステル等の合成樹脂製フィ
ルムにスプロケット孔及びデバイス孔をあけ、このフィ
ルム上に金属箔を積層する。そして、ホトレジストコー
トをし、露光−現像−エツチングなどの工程を経て所望
のリード配線を設定する。
ルムにスプロケット孔及びデバイス孔をあけ、このフィ
ルム上に金属箔を積層する。そして、ホトレジストコー
トをし、露光−現像−エツチングなどの工程を経て所望
のリード配線を設定する。
上記フィルムに積層し、回路を構成する金属箔としては
通常Cuが用いられている。このCu箔はテープの種類
即ち使用目的によって異るが10〜60IEo程度の厚
さであり、またチップ素子が高集積化されるにつれ、多
ピンとなって、リードの幅も小さくなる。半導体チップ
にはインナーリードが接続されてからパッケージングさ
れ、製品となるが、前記Cuリードの外端は、このパッ
ケージよ露出し、外部機器のソケット等に継止される。
通常Cuが用いられている。このCu箔はテープの種類
即ち使用目的によって異るが10〜60IEo程度の厚
さであり、またチップ素子が高集積化されるにつれ、多
ピンとなって、リードの幅も小さくなる。半導体チップ
にはインナーリードが接続されてからパッケージングさ
れ、製品となるが、前記Cuリードの外端は、このパッ
ケージよ露出し、外部機器のソケット等に継止される。
また継止するために曲げ加工もされる。そのためにかな
りの強度が必要となる。通常Cuの引張強度は30〜5
0kg f /−前後であり、これまでに、しばしば、
リード部の強度不足によって曲げ変形し問題となってい
た。
りの強度が必要となる。通常Cuの引張強度は30〜5
0kg f /−前後であり、これまでに、しばしば、
リード部の強度不足によって曲げ変形し問題となってい
た。
(発明が解決しようとする課題)
上記したようなCuリードをもつ現状のTABにおいて
は、チップの実装時リードの強度が不足し、位置合せが
できない、とか軟化によりショートするなど充分な機能
を果たさないという問題があった。すなわち、アウター
リード及びインナーリードともに強度が弱く曲りやすい
ため安定したリードとなりにくい。
は、チップの実装時リードの強度が不足し、位置合せが
できない、とか軟化によりショートするなど充分な機能
を果たさないという問題があった。すなわち、アウター
リード及びインナーリードともに強度が弱く曲りやすい
ため安定したリードとなりにくい。
本発明はこのような現状の問題点を解決するものであっ
て、強度、剛性が大きく、しかもリードに要求される耐
食性も高く、かつメツキの付着、はんだ濡れ性も良好な
リードを付着したTABを提供することを目的とするも
のである。
て、強度、剛性が大きく、しかもリードに要求される耐
食性も高く、かつメツキの付着、はんだ濡れ性も良好な
リードを付着したTABを提供することを目的とするも
のである。
(課題を解決するための手段)
本発明は、上述した目的を達成するため、合金鋼を用い
、特にFe −Ni 、Fc−Ag;)−Cr系合金鋼
よりなる極薄板(箔)をポリイミド、ポリエステル等の
合成樹脂に貼芒、積層したことを特徴とする゛rAB用
テープであり、上記Fc −Ni合金としては、Niが
30〜50重量%、FOAΩ−Cr系合金としては、A
、l):3〜20.0重量%、Cr:1.o〜10.0
重量%を主要成分として含有した合金鋼よりなる極薄板
を用いるものである。
、特にFe −Ni 、Fc−Ag;)−Cr系合金鋼
よりなる極薄板(箔)をポリイミド、ポリエステル等の
合成樹脂に貼芒、積層したことを特徴とする゛rAB用
テープであり、上記Fc −Ni合金としては、Niが
30〜50重量%、FOAΩ−Cr系合金としては、A
、l):3〜20.0重量%、Cr:1.o〜10.0
重量%を主要成分として含有した合金鋼よりなる極薄板
を用いるものである。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明において、テープ面に回路を形成する合金箔は合
金鉄、特にFe−Ni合金、Fe−A[−Cr合金鋼よ
りなり、これらの合金鋼素材は、それ自体公知の溶解炉
で製造される。そして、鋼板製造の通常の工程で箔に加
工される。すなわち、熱間圧延−冷間圧延によって中間
厚さの素材を製造し、更に中間焼鈍をはさむ冷間圧延を
行い、最終焼鈍後、調質圧延を施してはソ50μs前後
の厚さをもった箔をつくる。このような箔にNiやAg
、Crを含有させるのは、耐食性に優れると共に強度、
剛性を大きくすることができるからであり、これらの含
有量はFe−Ni合金鋼におけるN1については重量%
で30〜50%、Fe −Ag−C「合金鋼におけるA
g7にあっては3〜20.0%、C「にあっては1.0
〜10.0%が好ましい。
金鉄、特にFe−Ni合金、Fe−A[−Cr合金鋼よ
りなり、これらの合金鋼素材は、それ自体公知の溶解炉
で製造される。そして、鋼板製造の通常の工程で箔に加
工される。すなわち、熱間圧延−冷間圧延によって中間
厚さの素材を製造し、更に中間焼鈍をはさむ冷間圧延を
行い、最終焼鈍後、調質圧延を施してはソ50μs前後
の厚さをもった箔をつくる。このような箔にNiやAg
、Crを含有させるのは、耐食性に優れると共に強度、
剛性を大きくすることができるからであり、これらの含
有量はFe−Ni合金鋼におけるN1については重量%
で30〜50%、Fe −Ag−C「合金鋼におけるA
g7にあっては3〜20.0%、C「にあっては1.0
〜10.0%が好ましい。
N1およびA、Q−Crをこのような範囲に限定したの
は、50kg f /−以上の引張り強度が、また塩水
噴霧試験(48時間噴霧)発錆率が30%以下という、
優れた特性を付与するからであり、両元素の下限以下で
は、このような特性が得られないこと、また上限を超え
ると効果が飽和するからである。
は、50kg f /−以上の引張り強度が、また塩水
噴霧試験(48時間噴霧)発錆率が30%以下という、
優れた特性を付与するからであり、両元素の下限以下で
は、このような特性が得られないこと、また上限を超え
ると効果が飽和するからである。
しかし、この成分範囲以外にも、用途によっては、合金
鉄によって50kg f /−以上の強度にすればよい
場合もある。
鉄によって50kg f /−以上の強度にすればよい
場合もある。
本発明は、上述した成分を主構成要素とするが、この他
に他の元素を添加してもよく、特に、Cuを75%以下
添加してもよい。これによって、導電性が向上する。ま
た、希土類元素、Ca、Mg等を添加してもよく、これ
によって加工性を向上させることかできる。
に他の元素を添加してもよく、特に、Cuを75%以下
添加してもよい。これによって、導電性が向上する。ま
た、希土類元素、Ca、Mg等を添加してもよく、これ
によって加工性を向上させることかできる。
上述した合金鋼は100−以下、好ましくは50μs前
後或はそれ以下の箔に製造され、これをポリイミド或は
ポリウレタンなどの合成樹脂フィルムに貼着する。この
フィルムには事前に、スプロケット孔、及びデバイス孔
を穿設しておく。その後貼着した箔をエツチングし所望
の回路構成をフィルム上に形成する。
後或はそれ以下の箔に製造され、これをポリイミド或は
ポリウレタンなどの合成樹脂フィルムに貼着する。この
フィルムには事前に、スプロケット孔、及びデバイス孔
を穿設しておく。その後貼着した箔をエツチングし所望
の回路構成をフィルム上に形成する。
(実 施 例)
実施例−1
C: 0.01%(重量、以下同じ) 、 Si:0
.05%、Mロ二〇、2%、 P:0.005%、 S
:0.003%、 Ag :10.096、Cr:3
.0%、Ce:0.03%、残臭質的にFeよりなる素
材を、冷間圧延し、600℃で焼鈍した後、調質圧延を
行って、50虜の箔を製造した。
.05%、Mロ二〇、2%、 P:0.005%、 S
:0.003%、 Ag :10.096、Cr:3
.0%、Ce:0.03%、残臭質的にFeよりなる素
材を、冷間圧延し、600℃で焼鈍した後、調質圧延を
行って、50虜の箔を製造した。
この箔を引張り試験をしたところ、80kgf/mal
の引張強度が得られ、また耐食性の試験として行った、
塩水噴霧テストで、48時間後10%の錆発生面積であ
った。
の引張強度が得られ、また耐食性の試験として行った、
塩水噴霧テストで、48時間後10%の錆発生面積であ
った。
上記の箔をスプロケット孔、デバイス孔をあらかじめ設
けた厚さ 【25μsのポリイミドフィルムにKM剤を
介して積層し、レジストコーテング、露光、現像等の工
程を経てエツチングし、ピン数200本の回路を構成し
た。インナーリードにはろう材を付着し、Auパッドを
介してチップ回路と接続した。これをプラスチックでパ
ッケージングして製品とした。アウターリードの曲げ加
工、はんだ濡れ性、インナーリードの接合等問題なく安
定してできた。
けた厚さ 【25μsのポリイミドフィルムにKM剤を
介して積層し、レジストコーテング、露光、現像等の工
程を経てエツチングし、ピン数200本の回路を構成し
た。インナーリードにはろう材を付着し、Auパッドを
介してチップ回路と接続した。これをプラスチックでパ
ッケージングして製品とした。アウターリードの曲げ加
工、はんだ濡れ性、インナーリードの接合等問題なく安
定してできた。
実施例−2
C: 0.03%、S j:0.1%、Mn:0.2%
、P : 0.01%、S :o、ooa%、Ni:4
2%、A、Q:0.02%、残臭質的にFeよりなる素
材と、冷間圧延し、700℃で焼鈍後、調質圧延して4
0唖の箔を製造した。
、P : 0.01%、S :o、ooa%、Ni:4
2%、A、Q:0.02%、残臭質的にFeよりなる素
材と、冷間圧延し、700℃で焼鈍後、調質圧延して4
0唖の箔を製造した。
この箔を、引張試験として、68kg f /−の引張
強度が得られ、塩水噴霧テストで、48時間後、20%
の錆発生面積であった。
強度が得られ、塩水噴霧テストで、48時間後、20%
の錆発生面積であった。
上記箔を実施例−1と同じ方法でTABテープに作成し
て、チップに接続した結果、はんだ濡れ性、曲げ加工も
良好で、安定した製品が得られた。
て、チップに接続した結果、はんだ濡れ性、曲げ加工も
良好で、安定した製品が得られた。
(発明の効果)
上述したように、本発明は、70kgf/−以上の高強
度をもち、耐食性も優れたリード回路をもったTAB用
テープが得られ、しかも、メツキ性、ろう付着性も良好
であることから、Cu材等より安価に製造できる本発明
テープの工業的価値は極めて大きい。
度をもち、耐食性も優れたリード回路をもったTAB用
テープが得られ、しかも、メツキ性、ろう付着性も良好
であることから、Cu材等より安価に製造できる本発明
テープの工業的価値は極めて大きい。
復代理人
Claims (3)
- (1)合金鋼の極薄板を合成樹脂フィルムにはり合せた
ことを特徴とするTAB用テープ。 - (2)合金鋼として、Fe−Ni合金を用いることを特
徴とする請求項1記載のTAB用テープ。 - (3)合金鋼として、Fe−Cr−Al合金を用いるこ
とを特徴とする請求項1記載のTAB用テープ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13549289A JPH031552A (ja) | 1989-05-29 | 1989-05-29 | Tab用テープ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13549289A JPH031552A (ja) | 1989-05-29 | 1989-05-29 | Tab用テープ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH031552A true JPH031552A (ja) | 1991-01-08 |
Family
ID=15153002
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13549289A Pending JPH031552A (ja) | 1989-05-29 | 1989-05-29 | Tab用テープ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH031552A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0964605A2 (en) * | 1998-06-09 | 1999-12-15 | Nitto Denko Corporation | Low-thermal expansion circuit board and multilayer circuit board |
US8582080B2 (en) | 2004-11-02 | 2013-11-12 | Nikon Corporation | Stage assembly with measurement system initialization, vibration compensation, low transmissibility, and lightweight fine stage |
-
1989
- 1989-05-29 JP JP13549289A patent/JPH031552A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0964605A2 (en) * | 1998-06-09 | 1999-12-15 | Nitto Denko Corporation | Low-thermal expansion circuit board and multilayer circuit board |
EP0964605A3 (en) * | 1998-06-09 | 2001-08-22 | Nitto Denko Corporation | Low-thermal expansion circuit board and multilayer circuit board |
US8582080B2 (en) | 2004-11-02 | 2013-11-12 | Nikon Corporation | Stage assembly with measurement system initialization, vibration compensation, low transmissibility, and lightweight fine stage |
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