JPH031552A - Tab用テープ - Google Patents

Tab用テープ

Info

Publication number
JPH031552A
JPH031552A JP13549289A JP13549289A JPH031552A JP H031552 A JPH031552 A JP H031552A JP 13549289 A JP13549289 A JP 13549289A JP 13549289 A JP13549289 A JP 13549289A JP H031552 A JPH031552 A JP H031552A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alloy steel
foil
film
tab tape
bonded
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13549289A
Other languages
English (en)
Inventor
Takahide Ono
恭秀 大野
Tamio Saito
斉藤 民雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Steel Corp filed Critical Nippon Steel Corp
Priority to JP13549289A priority Critical patent/JPH031552A/ja
Publication of JPH031552A publication Critical patent/JPH031552A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、IC,LSIチップと基盤とを接続する自動
配線用テープ−いわゆるTAB(TapeAutoma
tic Bonding)用のテープ−に関するもので
ある。
(従来の技術) IC,LSIチップは、Ni−Fe合金、Cuなどの材
質からなるリードフレームに支持され、チップ回路はA
uボンデングワイヤーでリードフレームと連結されてい
る。近時半導体の高性能化に伴い、高密度の実装技術が
要求されている。すなわち集積回路は益々高密度化し、
これに伴うアッセンブリ技術も高度化が必要とされ、そ
のためにTABが多く用いられるようになった。
TABはポリイミド、ポリエステル等の合成樹脂製フィ
ルムにスプロケット孔及びデバイス孔をあけ、このフィ
ルム上に金属箔を積層する。そして、ホトレジストコー
トをし、露光−現像−エツチングなどの工程を経て所望
のリード配線を設定する。
上記フィルムに積層し、回路を構成する金属箔としては
通常Cuが用いられている。このCu箔はテープの種類
即ち使用目的によって異るが10〜60IEo程度の厚
さであり、またチップ素子が高集積化されるにつれ、多
ピンとなって、リードの幅も小さくなる。半導体チップ
にはインナーリードが接続されてからパッケージングさ
れ、製品となるが、前記Cuリードの外端は、このパッ
ケージよ露出し、外部機器のソケット等に継止される。
また継止するために曲げ加工もされる。そのためにかな
りの強度が必要となる。通常Cuの引張強度は30〜5
0kg f /−前後であり、これまでに、しばしば、
リード部の強度不足によって曲げ変形し問題となってい
た。
(発明が解決しようとする課題) 上記したようなCuリードをもつ現状のTABにおいて
は、チップの実装時リードの強度が不足し、位置合せが
できない、とか軟化によりショートするなど充分な機能
を果たさないという問題があった。すなわち、アウター
リード及びインナーリードともに強度が弱く曲りやすい
ため安定したリードとなりにくい。
本発明はこのような現状の問題点を解決するものであっ
て、強度、剛性が大きく、しかもリードに要求される耐
食性も高く、かつメツキの付着、はんだ濡れ性も良好な
リードを付着したTABを提供することを目的とするも
のである。
(課題を解決するための手段) 本発明は、上述した目的を達成するため、合金鋼を用い
、特にFe −Ni 、Fc−Ag;)−Cr系合金鋼
よりなる極薄板(箔)をポリイミド、ポリエステル等の
合成樹脂に貼芒、積層したことを特徴とする゛rAB用
テープであり、上記Fc −Ni合金としては、Niが
30〜50重量%、FOAΩ−Cr系合金としては、A
、l):3〜20.0重量%、Cr:1.o〜10.0
重量%を主要成分として含有した合金鋼よりなる極薄板
を用いるものである。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明において、テープ面に回路を形成する合金箔は合
金鉄、特にFe−Ni合金、Fe−A[−Cr合金鋼よ
りなり、これらの合金鋼素材は、それ自体公知の溶解炉
で製造される。そして、鋼板製造の通常の工程で箔に加
工される。すなわち、熱間圧延−冷間圧延によって中間
厚さの素材を製造し、更に中間焼鈍をはさむ冷間圧延を
行い、最終焼鈍後、調質圧延を施してはソ50μs前後
の厚さをもった箔をつくる。このような箔にNiやAg
、Crを含有させるのは、耐食性に優れると共に強度、
剛性を大きくすることができるからであり、これらの含
有量はFe−Ni合金鋼におけるN1については重量%
で30〜50%、Fe −Ag−C「合金鋼におけるA
g7にあっては3〜20.0%、C「にあっては1.0
〜10.0%が好ましい。
N1およびA、Q−Crをこのような範囲に限定したの
は、50kg f /−以上の引張り強度が、また塩水
噴霧試験(48時間噴霧)発錆率が30%以下という、
優れた特性を付与するからであり、両元素の下限以下で
は、このような特性が得られないこと、また上限を超え
ると効果が飽和するからである。
しかし、この成分範囲以外にも、用途によっては、合金
鉄によって50kg f /−以上の強度にすればよい
場合もある。
本発明は、上述した成分を主構成要素とするが、この他
に他の元素を添加してもよく、特に、Cuを75%以下
添加してもよい。これによって、導電性が向上する。ま
た、希土類元素、Ca、Mg等を添加してもよく、これ
によって加工性を向上させることかできる。
上述した合金鋼は100−以下、好ましくは50μs前
後或はそれ以下の箔に製造され、これをポリイミド或は
ポリウレタンなどの合成樹脂フィルムに貼着する。この
フィルムには事前に、スプロケット孔、及びデバイス孔
を穿設しておく。その後貼着した箔をエツチングし所望
の回路構成をフィルム上に形成する。
(実 施 例) 実施例−1 C: 0.01%(重量、以下同じ) 、  Si:0
.05%、Mロ二〇、2%、 P:0.005%、 S
:0.003%、 Ag  :10.096、Cr:3
.0%、Ce:0.03%、残臭質的にFeよりなる素
材を、冷間圧延し、600℃で焼鈍した後、調質圧延を
行って、50虜の箔を製造した。
この箔を引張り試験をしたところ、80kgf/mal
の引張強度が得られ、また耐食性の試験として行った、
塩水噴霧テストで、48時間後10%の錆発生面積であ
った。
上記の箔をスプロケット孔、デバイス孔をあらかじめ設
けた厚さ 【25μsのポリイミドフィルムにKM剤を
介して積層し、レジストコーテング、露光、現像等の工
程を経てエツチングし、ピン数200本の回路を構成し
た。インナーリードにはろう材を付着し、Auパッドを
介してチップ回路と接続した。これをプラスチックでパ
ッケージングして製品とした。アウターリードの曲げ加
工、はんだ濡れ性、インナーリードの接合等問題なく安
定してできた。
実施例−2 C: 0.03%、S j:0.1%、Mn:0.2%
、P : 0.01%、S :o、ooa%、Ni:4
2%、A、Q:0.02%、残臭質的にFeよりなる素
材と、冷間圧延し、700℃で焼鈍後、調質圧延して4
0唖の箔を製造した。
この箔を、引張試験として、68kg f /−の引張
強度が得られ、塩水噴霧テストで、48時間後、20%
の錆発生面積であった。
上記箔を実施例−1と同じ方法でTABテープに作成し
て、チップに接続した結果、はんだ濡れ性、曲げ加工も
良好で、安定した製品が得られた。
(発明の効果) 上述したように、本発明は、70kgf/−以上の高強
度をもち、耐食性も優れたリード回路をもったTAB用
テープが得られ、しかも、メツキ性、ろう付着性も良好
であることから、Cu材等より安価に製造できる本発明
テープの工業的価値は極めて大きい。
復代理人

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)合金鋼の極薄板を合成樹脂フィルムにはり合せた
    ことを特徴とするTAB用テープ。
  2. (2)合金鋼として、Fe−Ni合金を用いることを特
    徴とする請求項1記載のTAB用テープ。
  3. (3)合金鋼として、Fe−Cr−Al合金を用いるこ
    とを特徴とする請求項1記載のTAB用テープ。
JP13549289A 1989-05-29 1989-05-29 Tab用テープ Pending JPH031552A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13549289A JPH031552A (ja) 1989-05-29 1989-05-29 Tab用テープ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13549289A JPH031552A (ja) 1989-05-29 1989-05-29 Tab用テープ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH031552A true JPH031552A (ja) 1991-01-08

Family

ID=15153002

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13549289A Pending JPH031552A (ja) 1989-05-29 1989-05-29 Tab用テープ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH031552A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0964605A2 (en) * 1998-06-09 1999-12-15 Nitto Denko Corporation Low-thermal expansion circuit board and multilayer circuit board
US8582080B2 (en) 2004-11-02 2013-11-12 Nikon Corporation Stage assembly with measurement system initialization, vibration compensation, low transmissibility, and lightweight fine stage

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0964605A2 (en) * 1998-06-09 1999-12-15 Nitto Denko Corporation Low-thermal expansion circuit board and multilayer circuit board
EP0964605A3 (en) * 1998-06-09 2001-08-22 Nitto Denko Corporation Low-thermal expansion circuit board and multilayer circuit board
US8582080B2 (en) 2004-11-02 2013-11-12 Nikon Corporation Stage assembly with measurement system initialization, vibration compensation, low transmissibility, and lightweight fine stage

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5486721A (en) Lead frame for integrated circuits
JPS6252464B2 (ja)
JPS599149A (ja) リ−ドフレ−ム材料
JP2000269398A (ja) 半導体デバイスのアルミニウム製リードフレームおよび製造方法
JP2714560B2 (ja) ダイレクトボンディング性の良好な銅合金
JPH031552A (ja) Tab用テープ
JPS6149450A (ja) 半導体用リ−ドフレ−ム
JPH02215140A (ja) 半導体素子用金合金細線及びその接合方法
JP2797846B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置のCu合金製リードフレーム材
KR100378489B1 (ko) 은 또는 은 합금도금을 이용한 반도체 패키지용 리드프레임 및 그 제조방법
JP2714561B2 (ja) ダイレクトボンディング性の良好な銅合金
JPH0210580B2 (ja)
JP2867203B2 (ja) リードフレーム用素材の製法
JPS6314832A (ja) メッキ密着性及びハンダ接合性に優れた電子機器用銅合金とその製造法
JPH08269597A (ja) 高強度リードフレーム材
JPS6244691B2 (ja)
JP3757539B2 (ja) 半導体装置用ステム
JPS63304654A (ja) リ−ドフレ−ム
JPH02170935A (ja) ダイレクトボンディング性の良好な銅合金
JPS6142941A (ja) 半導体用リ−ドフレ−ム
JP2523030B2 (ja) A▲l▼―Pb系共晶皮膜被覆リ―ドフレ―ム材料
JPS62133039A (ja) 鉄−ニツケル合金
JPH0238543A (ja) 半導体用リード素材
JPH0684533B2 (ja) リードフレームとその製造方法
KR0138263B1 (ko) 금 도금된 전자부품 팩키지의 제조방법