JPH03151353A

JPH03151353A - ベンジリデンアミノオキシアルカン酸アミド誘導体、その製造法及び除草剤

Info

Publication number: JPH03151353A
Application number: JP28995089A
Authority: JP
Inventors: Katsumasa Harada; 勝正原田; Yuji Akiyoshi; 穐吉　祐二; Takaaki Abe; 安部　敬章; Hiroshi Shiraishi; 泰士白石; Kaoru Yamamoto; 薫山本
Original assignee: Ube Industries Ltd
Current assignee: Ube Corp
Priority date: 1989-11-09
Filing date: 1989-11-09
Publication date: 1991-06-27
Anticipated expiration: 2013-04-28
Also published as: JP2745737B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は除草剤として有用なベンジリデンアミノオキシ
アルカン酸アミド誘導体、その製法及びその用途に関す
る。

（従来の技術）従来フェノキシアルカン酸アミド誘導体は除草剤として
多数知られているが、ベンジリデンアミノオキシアルカ
ン酸アミド誘導体については知られていない。

（発明が解決しようとする課題）本発明は、イネ科雑草及び広葉雑草に対し巾広い除草力
を示し、かつ、従来の除草剤では除草が困難である雑草
に高い除草活性を有する反面、稚苗水稲、コムギ、ダイ
ス、トウモロコシ等に薬害がな（、選択性の高い除草性
化合物を提供することを目的とする。

（課題を解決するための手段）本発明のベンジリデンアミノオキシアルカン酸アミド誘
導体は次式で示される。

式％式％（１）（ぜ中、Ｒ’は低級アルキル、低鶏アルコキシ、ハロゲ
ン、八日低級アルキル、八日低級アルコキシ、ハロ低級
アルキルチオ、ハロ低級アルキルスルホニル、シアノ及
びニトロより選れた１種又は２　ｆｆｆｉの置換基を有
していてもよいフェニル基、又は低級アルキルもしくは
ハロゲンの置換基を有していてもよいチエニル基もしく
はフリル基を表し、Ｒ２は低級アルキル基を表し、Ｒ３
は低級アルキル、ハロゲン、八日低級アルキル及び低級
アルコキシより選ばれた１種又は２種の置換基を有して
いてもよいフェニル基、シクロアルキル基、チエニル基
又はフリル基を表し、ｎはＯ又は１を表す）で示されるベンジリデンアミノオキシアルカン酸アミド
誘導体。

上記式中、フェニル基、チエニル基及びフリル基の置換
分としての低級アルキル基は、例えばメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル及びｔ−ブチルがあげ
られ、とくにメチルである。置換分としての低級アルコ
キシ基としては、例えばメトキシ及びエトキシがあげら
れ、とくにメトキシである。置換分としてのハロゲン原
子としては、例えばクロロ、ブロモ及びフルオロがあげ
られ、クロロ及びフルオロが好ましい、置換分のハロ低
級アルキル基としては、例えばトリフルオロメチル、ジ
フルオロメチル、１．ｌ−ジフルオロエチル、１．１．
２．２−テトラフルオロエチル及びペンタフルオロエチ
ルがあげられ、好ましくはトリフルオロメチルである。

置換基としてのハロ低級アルコキシ基としては、例えば
ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ及び１．１
．２−１−リフルオロ−２−クロロエトキシがあげられ
、好ましくはトリフルオロメトキシである。置換基とし
てのハロ低級アルキルチオ基としては、例えばトリフル
オロメチルチオ、ジフルオロクロロメチルチオ及びジフ
ルオロブロムメチルチオがあげられる。置換基としての
ハロ低級アルキルスルホニル基としては、例えばトリフ
ルオロメチルスルホニルがあげられる６Ｒ”の低級アル
キル基としては、例えばメチル及びエチルがあげられる
が、とくにエチルが好ましい。

上記式（Ｉ）中において好ましい化合物は、Ｒ’はクロ
ロ、フルオロ、メチル、メトキシ、トリフルオロメチル
、トリフルオロメトキシ、シアノ又はニトロが置換した
フェニル基であり、Ｒ２はエチルであり、Ｒ３はメチル
、ハロゲン又はトリフルオロメチルが置換していてもよ
いフェニル基又はチエニル基である。

式（Ｉ）に含まれる好ましい化合物は表Ｉのとおりであ
る。

式（Ｉ）の化合物は、以下に示す方法Ａ−Ｄのいずれか
の方法によって製造される。

Ａ法Ｒ’−ＣＨ＝　Ｎ　−ＯＨ＋（ＩＩ）１Ｘ−ＣＨ−Ｃ−ＮＨＩＣＨ２）、−Ｒ”　−（Ｉ）２（ＩＩＩ　）（式中　Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びｎは前述と同じ。

Ｘはハロゲン原子を表す）上記の方法は、オキシム化合物（ＩＩ）と２−ハロゲノ
アルカン酸アミド（Ｉｌｌ　）とを、適当な溶媒中、塩
基の存在下に反応させることによって行われる。溶媒と
しては、反応に関与しないものであれば特に限定はなく
１例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン等のケトン類ニジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド等の双極性非プロトン溶媒：テトラヒ
ドロフラン等のエーテル類があげられる。塩基としては
、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等が用いられる６反応
は２０〜１５０℃で１〜１０時間攪拌することによりほ
ぼ完結する。

Ｂ法１Ｒ”ＣＨ＝　Ｎ　−０−ＣＨ−Ｃ−Ｙ　　　　＋Ｒ；（ｒＶ）ＮＨ２（ＣＨ２１ｎ−Ｒ”　　　−（Ｉ　）（Ｖ）（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ１及びｎは前述と同じ。

Ｙはハロゲン原子を表す）上記の方法は、酸ハライド（ＩＶ）とアミン（Ｖ）とを
、適当な溶媒中、塩基の存在下に反応させることによっ
て行われる。溶媒としては、反応に関与しないものであ
れば特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、１．４−
ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類：ｎ−
ヘキサン等の脂肪族炭化水素：クロロホルム、塩化メチ
レン等のハロゲン化炭化水素が用いられる。

塩基としては、アミン（Ｖ）がその役割をするが、ピリ
ジン、トリエチルアミン等を用いてもよい。反応は０〜
５０℃で１〜５時間撹拌することによりほぼ完結する。

Ｃ法Ｒ’−Ｃ）（Ｏ＋（ｖｒ）１ＮＨ２−０−ＣＨ−Ｃ−ＮＨ−（ＣＨ２）ｌ、−Ｒ３→
（Ｉ）２（■）（式中、Ｒ′−１Ｒ２、Ｒ３及びｎは前述と同じ）上記
の方法は、アルデヒド（Ｖｌ）とアミノオキシアルカン
酸アミド（ｖｎ）とを、無溶媒又は溶媒の存在下で反応
させることにより行われる。溶媒としては反応に関与し
ないものであれば特に限定はなく、例えばメタノール、
エタノール等のアルコール類ニジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、１．４−ジオキサン等のエーテル類：
ｎ−へキサン等の脂肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素等が用いられる０反応は
０〜５０℃で１〜５時間撹拌することによりほぼ完結す
る。

Ｄ法ＮＨ＊−（ＣＨｚ）、、−Ｒ”　　　−（１）（ＩＸ）（式中、Ｒ１、Ｒ”　　Ｒ’及びｎは前述と同じ。

Ｚは低級アルキル基を表す）上記の方法は、エステル（■）とアミン（ＩＸ）とを、
適当な溶媒中、塩基の存在下で反応させることにより行
われる。溶媒としては反応に関与しないものであれば特
に限定はなく、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素：メタノール、エタノール等のアルコール類
が用いられる。

塩基としてはナトリウムメトキシドのようなアルコール
のアルカリ金属塩が用いられる。反応は１０〜１００℃
で１〜２０時間撹拌することによりほぼ完結する。

（実施例）以下に本発明の化合物の製造例を示す。

実施例１　（合成法Ａ）Ｎ−ベンジル−２−（３−クロロベンジリデンアミノオ
キシ）ブタン酸アミド（化合物番号４０）の合成ｍ−クロロベンズアルドオキシム１．７ｇ（０，Ｏｌ　
１ｍｏｌ　）及びＮ−ベンジル−２−ブロモブタン酸ア
ミド２．６ｇ　（０，Ｏｌｍｏｌ　）をアセトン３０１
１！１１に溶解し、無水炭酸カリウム１．５１ｇ　（０
，０１１ｍｏｌ　）を加え、４時間加熱還流した。反応
終了後、反応液を水に加え、遊離した油状物を酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチルを水洗、硫酸マグネシウムに
て乾燥後、減圧留去し得られた残渣をカラムクロマトグ
ラフィー（ワコーゲルＣ−２００、トルエン：酢酸エチ
ル＝４　：　１ｆｆｌ出）にて精製することにより、ｍ
ｐ７５〜７８℃の目的物２．３ｇ　（収率６９％）を得
た。

実施例２（合成法Ｂ）Ｎ−（２，５−ジフルオロベンジル）−２−（３−トリ
フルオロメチルベンジリデンアミノオキシ）ブタン酸ア
ミド（化合物番号６４）の合成トルエン２０−に２．５−ジフルオロベンジルアミン２
．９ｇ　（０，０２ｍｏｌ　）とトリエチルアミン２．
２ｇ　（０，２２ｍｏｌ　）を加え、５℃に冷却後３−
トリフルオロメチルベンジリデンアミノオキシブタン酸
クロライド６．０ｇ　（０，０２ｍｏｌ　）を滴下した
。滴下終了後室温で２時間撹拌した後、反応液を水洗し
、トルエン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、トルエンを
減圧留去して得られた残渣を実施例１と同様に処理し、
屈折率ｎ、ｊ”１．５０６９の目的物７．０ｇ　（収率
８９％）を得た。

実施例３（合成法Ｃ）Ｎ−（２，４−ジフルオロフェニル）−２−（３−ニト
ロベンジリデンアミノオキシ）ブタン酸アミド（化合物
番号１５６）の合成ｍ−ニトロベンズアルデヒド１．５
１ｇ（０，Ｏｌｍｏｌ）にＮ−（２，４−ジフルオロフ
ェニル）−２−アミノオキシブタン酸アミド２．３ｇ　
（０，Ｏ１ｍｏｌ　）をエタノール２０−にｔ８解し、
６０°Ｃにて２時間反応させた。反応終了後、エタノー
ルを減圧留去し、残渣をカラムクロマトグラフィー（ワ
コーゲルＣ−２００、トルエン：酢酸エチル＝４：１溶
出）にて精製することにより、白色粉末でｍｐ８７〜８
８℃の目的物３．０ｇ　（収率８３％）を得た。

実施例４（合成法Ｄ）Ｎ−ベンジル−２−（３−１−リフルオロメチルベンジ
リデンアミノオキシ）ブタン酸アミド（化合物番号５８
）の合成２−（３−）−リフルオロメチルベンジリデンアミノオ
キシ）ブタン酸エチル３．０ｇ　（０，Ｏｌｍｏｌ　）
とベンジルアミン１．　　ｉ　ｇ　（ｏ、　　□　１ｍ
ｏｌ）とを、メタノール１５−に溶解した後、ナトリウ
ムメトキサイド（２８％メタノール溶液）１．０ｇ　（
０，００５ｍｏｌ　）を加え、５０℃にて５時間攪拌し
た。撹拌終了後水を加え遊離した油状物を酢酸エチルに
て抽出した。酢酸エチル層を水洗、硫酸マグネシウムに
て乾燥後減圧留去し、得られた残渣を実施例１と同様に
処理し、屈折率ｎｏ”’１　、５３２１の目的物２．９
ｇ（収率７９％）を得た。

本発明の化合物（Ｉ）を除草剤として用いるには、担体
および必要に応じて他の補助剤と混合して、除草剤とし
て通常用いられる製剤形態、例えば粉剤、細粒剤、粒剤
、水和剤、乳剤、懸濁剤。

ペースト、錠剤、エアゾール、燻煙剤など任意の剤形に
して使用することができる。

これらの担体としては、カオリン、クレー、タルク、雲
母、ケイソウ土、バーミキュライト、石こう、炭酸力ル
シュウム、ドロマイト、マグネシウム石灰、リン石灰、
ゼオライト、無水ケイ酸、合成ケイ酸カルシウム等の無
機物：木粉、デンプン、セルロース等の植物性物質；液
体担体としては、ケロシン、鉱油、トルエン、キシレン
、エチルベンゼン、クメン、メチルナフタリン、四塩化
炭素、クロロホルム、ジオキサン、テトラヒドロフラン
、シクロヘキサン、イソホロン、ｎ−ヘキサノール、シ
クロヘキサノール、エチレングリコールフェニルエーテ
ル、ジメチルホルムアミド等があげられる。

乳化、分散、湿潤、拡展、有効成分の安定化などの目的
で、非イオン系、陰イオン系、陽イオン系、両性イオン
系界面活性剤から選択される１〜数種類を補助剤として
混合することができる。

さらに、殺菌剤、殺虫剤およびその他の農薬、尿素、硫
安、リン安、カリ塩及びその他の肥料物質、土壌改良剤
等を適宜混合して使用することができる。また、他の除
草剤と適宜混合して使用することもできる。

次に、本発明における除草剤の製剤例をあげる。なお、
部は重量部を意味する。

製剤例１Ｎ−ベンジル−２−（３−トリフルオロメチルベンジリ
デンアミノオキシ）ブタン酸アミド（化合物番号５８の
化合物）８部、ベントナイト３０部、タルク５９部、ネ
オペレックスパウダー商品名：花王アトラス（株）１部
及びゲニンスルホン酸ソーダ２部とを均一に混合し１次
いで少量の水を添加し混練りした後、造粒、乾燥して粒
剤を得た。

製剤例２Ｎ−（２−クロロベンジル）−２−（３−トリフルオロ
メチルベンジリデンアミノオキシ）ブタン酸アミド（化
合物番号６０の化合物）５０部、カオリン４８部、及び
ネオペレックスパウダー２部とを均一に混合し、次いで
粉砕して水和剤を得た。

製剤例３Ｎ−（２−クロロベンジル）−２−（３−メチルベンジ
リデンアミノオキシ）ブタン酸アミド（化合物番号１３
の化合物）３０部、キシレン６０部、ジメチルホルムア
ミド５部及びトキサノン（商品名：三洋化成工業（株）
）５部とを均一に混合して、溶解して乳剤を得た。

製剤例４Ｎ−ベンジル−２−（３−１−リフルオロメチルベンジ
リデンアミノオキシ）ブタン酸アミド（化合物番号６０
の化合物）５部、タルク５０部及びカオリン４５部とを
均一に混合し、粉剤を得た。

本発明の除草剤は、水田及び畑作の発芽前土壌処理剤と
して、水稲、大豆、トウモロコシ、コムギには薬害がな
く選択的な効果を期待することができ、あるいはまた茎
葉処理剤としても有効である。使用薬量はａ当り５〜１
００ｇを用いることができる。

次に、本発明における除草剤の試験例をあげる。

試験例１　（水田除草試験）１１５０００アールのワグネルポットに宇部土壌（沖積
埴壌土）を充填し、ノビエ、コナギ、マツバイ及びホク
ルイの種子又は塊茎を植え、１．８〜２葉期の水稲稚苗
を移植し、水を加え水深３ｃｍの湛水状態とした。ノビ
エ１葉期に各薬剤をピペットで有効成分が２０　ｇ　／
　ａになるように滴下処理、平均気温２５℃のガラス室
で管理した。薬剤処理後３週間目に各供試化合物の除草
効果を調査した。その結果を表−２に示す。

なお、表−２中の除草効果は下記の基準によった。

５：完全枯死　４：大官　３：中寄　２：小書１：僅少
害　　−Ｏ：無害（正常発育）表−２水田除草試験　０３６７８ ■ ００２４５８９０１２６３ｌ５５５５６４ｌ５５５５６８ｌ５５５５７２ｌ５５５５７３ ■ ５５５５７５１５５５５８０１５５５５８１１５５５５９３１５５５５９４ｌ５５５５１０１０５５５５１　０２２５５５５１０３２５５５５１４１０５５５５１　４２ｌ５５５５１５２０５５５５１５１０５５５５試験例２（畑作土壌処理試験）１　／４　０　０　０アールのワグネルポットに宇部土
壌（洪積土壌）を充填し、トウモロコシ，ダイズ、コム
ギ、メヒシバ、ノビエ、イヌビュ，シロザ、スベリヒュ
、ギシギシの各種子を播種し、覆土後各薬剤を土壌表層
に有効成分が２　０　ｇ　／　ａになるように均一に加
圧噴霧し、平均気温２５℃のガラス室で管理した．薬剤
処理後３週間目に各供試化合物の除草効果を調査した。

その結果を表−３に示す．なお、表−３中の除草効果は下記の基準によった。

５：完全枯死　４：大害　３：中害　２：小害ｌ：僅少
害　　Ｏ：無害（正常発育）表−３畑作土壌処理試験３ｌ１２６２７３０３７４ｌ４２５４５５５７５８５９６０６１６２６３６４番号ズ６５０６６１７２　　０７３０７５　　１８００８１　　１９３０９４０１０１　　１ｌ０２１１０３ｌ１４１０ｌ４２０ｌ５１１ｌ５２１ギエバユザユ１４５５５５０５５５５５０５５５５５０５５５５５１　５５５５５０５５５５５１４５５５５０５５５５５０５５５５５１　５５５５５１　５５５５５２５５５５５０４５５５５０３５５５５１　４５５５５０５５５５５試験例３〔畑作茎葉処理試験）１／５０００アールのワグネルポットに火山灰土壌を充
填し、メヒシバ、ノビエ、シロザ、イヌビュ及びオナモ
ミの植物を　　　の時期まで育成した．各供試化合物の水和剤を展着剤ネオエスリン（商品名：
クミアイ化学■製）５００ｐ１）Ｉｌ１を含む水で２　
０　０　０　ｐｐｍに稀釈したのち，茎葉に加圧噴霧し
、平均気温２５℃のガラス室で管理した。

薬剤処理後３週間目に各供試化合物の除草効果を調査し
た．その結果を表−４に示す．なお，表−４中の除草効
果は下記の基準によった．５：完全枯死　４：大害　３：中害　２：小害１：僅少
害　　Ｏ：無害（正常発育）表−４畑作茎葉処理試験３０３４５５５４ ■ ３５４５５４２３４５５５５５４５５５５５８５５５５５５９５５５５５６０５５５５５６１５５５５５６２５５５５５６４４５５５５６５５５５５５６６４５５５５６８４５５５５７２５５５５５７３４５５５５７５４４５５５８０４５５５５８１４４４５５９３４４５５５９４　　　４〜　　　　４　　　　　５　　　　　５　
　　　　５１０１　　　　３　　　　　４　　　　　５
　　　　　５　　　　　５１０２　　　　４　　　　　
　４　　　　　４　　　　　５　　　　　　５ｌ０３　
　　４　　・　　５　　　　　５　　　　　５　　　　
　５１５１　　　　３　　　　　　４　　　　　　４　
　　　　５　　　　　　５１５２　　　　３　　　　　
　４　　　　　４　　　　　５　　　　　５（発明の効
果）本発明の化合物は、上記表−２に示すように、水田発芽
前土壌処理除草剤として使用した場合、水稲苗には薬害
がなくて各種雑草に薬効を示し、表−３に示すように、
畑作発芽前土壌処理ではダイズ、トウモロコシ、コムギ
には薬害がなく選択性を示し、他の禾本科及び広葉雑草
に卓効を示した。

また表−４に示すように、畑作茎葉処理でも種々の雑草に卓効を示した。

Claims

【特許請求の範囲】１、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）（式中、Ｒ＾１は低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ
ゲン、ハロ低級アルキル、ハロ低級アルコキシ、ハロ低
級アルキルチオ、ハロ低級アルキルスルホニル、シアノ
及びニトロより選れた１種又は２種の置換基を有してい
てもよいフェニル基、又は低級アルキルもしくはハロゲ
ンの置換基を有していてもよいチエニル基もしくはフリ
ル基を表し、Ｒ＾２は低級アルキル基を表し、Ｒ＾３は
低級アルキル、ハロゲン、ハロ低級アルキル及び低級ア
ルコキシより選ばれた１種又は２種の置換基を有してい
てもよいフェニル基、シクロアルキル基、チエニル基又
はフリル基を表し、ｎは０又は１を表す）で示されるベンジリデンアミノオキシアルカン酸アミド
誘導体。２、式Ｒ＾１−ＣＨ＝Ｎ−ＯＨ（II）（式中、Ｒ＾１は請求項１に記載と同じ）で示されるオキシム化合物と式▲数式、化学式、表等があります▼（III）（式中、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びｎは請求項１に記載と同じ
、Ｘはハロゲン原子を表す）で示される２−ハロゲノアルカン酸アミドとを、反応さ
せることを特徴とする請求項１記載の式（ I ）のベン
ジリデンアミノオキシアルカン酸アミド誘導体の製造法
。３、式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１及びＲ＾２は請求項１に記載と同じ、Ｙ
はハロゲン原子を表す）で示されるベンジリデンアミノオキシアルカン酸ハライ
ドと、式ＮＨ＿２−（ＣＨ＿２）＿ｎ−Ｒ＾３（式中、Ｒ＾３及びｎは請求項１に記載と同じ）で示さ
れるアミンとを反応させることを特徴とする請求項１記
載の式（ I ）のベンジリデンアミノオキシアルカン酸
アミド誘導体の製法。４、式Ｒ＾１−ＣＨＯ（式中、Ｒ＾１は請求項１に記載と同じ）で示されるアルデヒドと、式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びｎは請求項１に記載と同じ
）で示されるアミノオキシアルカン酸アミドとを反応させ
ることを特徴とする請求項１記載の式（ I ）のベンジ
リデンアミノオキシアルカン酸アミド誘導体の製法。５、式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１及びＲ＾２は請求項１に記載と同じ。Ｚは低級アルキル基を表す）で示されるベンジリデンアミノオキシアルカン酸エステ
ルと、式ＮＨ＿２−（ＣＨ＿２）＿ｎ−Ｒ＾３（式中、
Ｒ＾３及びｎは請求項１に記載と同じ）で示されるアミ
ンとを反応させることを特徴とする請求項１記載の式（
I ）のベンジリデンアミノオキシアルカン酸アミド誘
導体の製法。６、請求項１記載の式（ I ）のベンジリデンアミノオ
キシアルカン酸アミド誘導体を有効成分とする除草剤。