JPH03143541A - マイクロ波使用の流動層処理装置 - Google Patents
マイクロ波使用の流動層処理装置Info
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- JPH03143541A JPH03143541A JP2158883A JP15888390A JPH03143541A JP H03143541 A JPH03143541 A JP H03143541A JP 2158883 A JP2158883 A JP 2158883A JP 15888390 A JP15888390 A JP 15888390A JP H03143541 A JPH03143541 A JP H03143541A
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Classifications
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- B01J8/42—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed subjected to electric current or to radiations this sub-group includes the fluidised bed subjected to electric or magnetic fields
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- F26B3/06—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air the gas or vapour flowing through the materials or objects to be dried
- F26B3/08—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air the gas or vapour flowing through the materials or objects to be dried so as to loosen them, e.g. to form a fluidised bed
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- F26B3/32—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by development of heat within the materials or objects to be dried, e.g. by fermentation or other microbiological action
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- F26B3/343—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by development of heat within the materials or objects to be dried, e.g. by fermentation or other microbiological action by using electrical effects in combination with convection
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、マイクロ波エネルギーの適用金利用する流動
層乾燥器、塗布機または凝集器のよ振 うな流動層処理装置に関する。マイクロ激発i器は流動
層処理装置と、マイクロ波エネルギーを流動化区域中へ
種々の方向に向けて、処理袋に内に流動化された粒子が
ランダムな方向に運動する複数の定在波モードが生じる
ように接続されている〇 〔従来の技術〕 バッチ式の流動層処理装置は先行技術において周知であ
る。かかる流動層処理装置は、種々の乾燥、塗布訟よひ
来集作業に対して使用される。流動層処理装置は、ガス
が処理される生成物km勤化するのを可能にするための
流動化ガス入口釦よひ流動化ガス出口上音する流動層容
器を有する。とくに、実験室作業に有用な、1つのかか
る流動層も埋装には、流動層容器かも理すべき生成物全
収容するための生成物全収容たは装填ボウル、生成物容
器の@後上方に配置された膨張室および膨張室の反対側
末端に接続されたフィルター室を有する\二・ブラット
″d(TM)処理装置である。生成物容器の底置下端に
は、流動化すべき生成物を支持するため生持 成物保オスクリーンが設けられていて、該スクリーンが
流動化ガスを、処理すべき生成物を流動化するために上
向きに向けさせるための空気入口を形成する。該ガスは
、容器を通って上向きに流れ、フィルター室の上部の流
動化ガス出口から出る。流動層は生成物容器3よび膨張
室内に形成される。フィルター室は吹上げられる粒子上
捕集するフィルター釦よひ作業中フィルターバッグを、
それに付着した粒子全除去するために振動筐たは振とつ
するための機椋的振動装置または他の装gLヲ有する。
層乾燥器、塗布機または凝集器のよ振 うな流動層処理装置に関する。マイクロ激発i器は流動
層処理装置と、マイクロ波エネルギーを流動化区域中へ
種々の方向に向けて、処理袋に内に流動化された粒子が
ランダムな方向に運動する複数の定在波モードが生じる
ように接続されている〇 〔従来の技術〕 バッチ式の流動層処理装置は先行技術において周知であ
る。かかる流動層処理装置は、種々の乾燥、塗布訟よひ
来集作業に対して使用される。流動層処理装置は、ガス
が処理される生成物km勤化するのを可能にするための
流動化ガス入口釦よひ流動化ガス出口上音する流動層容
器を有する。とくに、実験室作業に有用な、1つのかか
る流動層も埋装には、流動層容器かも理すべき生成物全
収容するための生成物全収容たは装填ボウル、生成物容
器の@後上方に配置された膨張室および膨張室の反対側
末端に接続されたフィルター室を有する\二・ブラット
″d(TM)処理装置である。生成物容器の底置下端に
は、流動化すべき生成物を支持するため生持 成物保オスクリーンが設けられていて、該スクリーンが
流動化ガスを、処理すべき生成物を流動化するために上
向きに向けさせるための空気入口を形成する。該ガスは
、容器を通って上向きに流れ、フィルター室の上部の流
動化ガス出口から出る。流動層は生成物容器3よび膨張
室内に形成される。フィルター室は吹上げられる粒子上
捕集するフィルター釦よひ作業中フィルターバッグを、
それに付着した粒子全除去するために振動筐たは振とつ
するための機椋的振動装置または他の装gLヲ有する。
生成物処理が完了した場合、処理装置のファンを止め、
生成物容器を膨張室から切離し、処理された生成物を取
出す。
生成物容器を膨張室から切離し、処理された生成物を取
出す。
流動層乾燥のような流動層処理は特定の欠点を有する。
流動化ガス、代表的には加熱された空気は、粒子表面か
ら水分を蒸発させるために使用される。乾燥時間は空気
流の大きさ唄よび粒状材料に吸収されたエネルギーの量
に依存する。乾燥の初期段階の間、粒子の表面から水分
は比較的迅速に蒸発する。しかし、表面水分が除去され
た後、乾燥時間は低下する。この乾燥の鋼2相の間、水
lfcは水分除去は毛管作用筐たは拡散作用による。こ
れは、水分の含量が減少するか、または換目すれば、乾
燥した表面から水分筐での距離が増加するため!すます
多量のエネルギー紮必要とする。
ら水分を蒸発させるために使用される。乾燥時間は空気
流の大きさ唄よび粒状材料に吸収されたエネルギーの量
に依存する。乾燥の初期段階の間、粒子の表面から水分
は比較的迅速に蒸発する。しかし、表面水分が除去され
た後、乾燥時間は低下する。この乾燥の鋼2相の間、水
lfcは水分除去は毛管作用筐たは拡散作用による。こ
れは、水分の含量が減少するか、または換目すれば、乾
燥した表面から水分筐での距離が増加するため!すます
多量のエネルギー紮必要とする。
通常熱の不良導体である生成物は、粒子表面から液体を
追出すために適切なレベルの熱伝達を維持するため1す
まず大きいエネルギー人力(高い温度)を必要とする。
追出すために適切なレベルの熱伝達を維持するため1す
まず大きいエネルギー人力(高い温度)を必要とする。
それで、流動層乾燥の後期段階では、比較的低い熱効率
のため乾燥速度が低下する。
のため乾燥速度が低下する。
流動層乾f#4機7七、マイクロ波エネルギー源と組合
せて使用することは公知である。たとえば米国特許第3
528179号ンよび同第4126945号参照。これ
らの系は、生成物中へ大きい程度に透過するマイクロ波
エネルギーの利点全利用しようとするものである。マイ
クロ波エネルギーは、処理すべき生成物の中心部に存在
する水分上表面に向って追出すのに役立つ。
せて使用することは公知である。たとえば米国特許第3
528179号ンよび同第4126945号参照。これ
らの系は、生成物中へ大きい程度に透過するマイクロ波
エネルギーの利点全利用しようとするものである。マイ
クロ波エネルギーは、処理すべき生成物の中心部に存在
する水分上表面に向って追出すのに役立つ。
−度表面に追出されると、流動化ガスが蒸発する表面水
分を除去する。
分を除去する。
マイクロ波エネルギーを利用する上述した先行技術では
、流動層容器は4波管の形、つ1ジ進行波アプリケータ
の形に形成されている。実質おに導波管の中心または導
波管・の中心線の僅か下方には、流動化すべき生成物乞
支持する生持 威物保通スクリーンが位置している。マイクロ波エネル
ギーは、との導波管の一端に適用され、マイクロ波は導
波管の長さに沿って生成物スクたマイクロ波エネルギー
七吸収す;bための負荷管上音する。
、流動層容器は4波管の形、つ1ジ進行波アプリケータ
の形に形成されている。実質おに導波管の中心または導
波管・の中心線の僅か下方には、流動化すべき生成物乞
支持する生持 威物保通スクリーンが位置している。マイクロ波エネル
ギーは、との導波管の一端に適用され、マイクロ波は導
波管の長さに沿って生成物スクたマイクロ波エネルギー
七吸収す;bための負荷管上音する。
全流動層容器を導波管として形成することが必要である
という上述した系の欠点は、すべてのマイクロ波が生成
物の通路に沿って伝搬され、生成物によって吸収されな
かった残留エネルギーはマイクロ波伝送路の末端で負荷
管によって吸収されるということである。こうして、反
射波は発生せず、定在波も存在しない。かかる構成は、
負荷によって吸収されなかったエネルギーが負荷管中で
失なわれるので不十分である。
という上述した系の欠点は、すべてのマイクロ波が生成
物の通路に沿って伝搬され、生成物によって吸収されな
かった残留エネルギーはマイクロ波伝送路の末端で負荷
管によって吸収されるということである。こうして、反
射波は発生せず、定在波も存在しない。かかる構成は、
負荷によって吸収されなかったエネルギーが負荷管中で
失なわれるので不十分である。
さらに、これら先行技術のタイプの進行波適用装置にお
いては処理下べき生成物は、最大電界の範囲円に位置し
、該電界は吸収を最大にするが、生成物は4彼管内の比
較的正確な位置にとど1らねばならないので、設計の融
通性を開眼心線の近くに位置し、それで該スクリーンの
近くの区域も導波管の部分として使用される。その結果
として、導波管に沿って伝搬するマイクロ波エネルギー
は、スクリーンの下方釦よびもちろん流動化される生成
物の下方で伝搬し、マイクロ波エネルギーの利用が不十
分になる。
いては処理下べき生成物は、最大電界の範囲円に位置し
、該電界は吸収を最大にするが、生成物は4彼管内の比
較的正確な位置にとど1らねばならないので、設計の融
通性を開眼心線の近くに位置し、それで該スクリーンの
近くの区域も導波管の部分として使用される。その結果
として、導波管に沿って伝搬するマイクロ波エネルギー
は、スクリーンの下方釦よびもちろん流動化される生成
物の下方で伝搬し、マイクロ波エネルギーの利用が不十
分になる。
通常のバッチ式流動層乾燥機を、熱空気に加えてマイク
ロ波の使用ができるように改造することは、1975年
5月、オンタリオ州ウォータールー大学にkける第10
回マイクロ波パワーシンポジウム議事録第297百〜第
299頁のレベツカ(Rzepecka )、MH,ハ
ミド(Hamid−) 、 M、A、およびマツコーネ
/l/ (MC−Connell ) 、 M、B、、
の論文”fイクロ波流動層乾燥機” に挙げられている
。この論文は循環円筒形乾燥室に関するもので、循環円
筒形空洞はマイクロ波エネルギー処理に3けるマルチモ
ード共鳴体として使用されたことを記している。
ロ波の使用ができるように改造することは、1975年
5月、オンタリオ州ウォータールー大学にkける第10
回マイクロ波パワーシンポジウム議事録第297百〜第
299頁のレベツカ(Rzepecka )、MH,ハ
ミド(Hamid−) 、 M、A、およびマツコーネ
/l/ (MC−Connell ) 、 M、B、、
の論文”fイクロ波流動層乾燥機” に挙げられている
。この論文は循環円筒形乾燥室に関するもので、循環円
筒形空洞はマイクロ波エネルギー処理に3けるマルチモ
ード共鳴体として使用されたことを記している。
マイクロ波エネルギー源に鵠する乾燥室の配置は記載さ
れていない。
れていない。
本発明は、多棟の処理すべき生成物を利用しうる、新規
マイクロ波使用の流動層処理系、殊にバッチ式処理系金
提供する。鉄系は、流動化ガス入口によび流動化ガス出
口上音する流動層はスクリーンを有する。流動層容器は
、該容器内部にマイクロ波エネルギーを与えるためのマ
イクロ波通路を生成物支持部材の上方に有し、流動層容
器の少なくとも一部は、種々の方向上音する反射マイク
ロ波が容器内部の流動化域を実質的に充満できるように
するためのマイクロ波空洞を形成する。生成物支持部材
は、マイクロ波エネルギーがスクリーンの下方に逃れる
のを阻止するマイクロ波防護スクリーンとして使用され
る。
マイクロ波使用の流動層処理系、殊にバッチ式処理系金
提供する。鉄系は、流動化ガス入口によび流動化ガス出
口上音する流動層はスクリーンを有する。流動層容器は
、該容器内部にマイクロ波エネルギーを与えるためのマ
イクロ波通路を生成物支持部材の上方に有し、流動層容
器の少なくとも一部は、種々の方向上音する反射マイク
ロ波が容器内部の流動化域を実質的に充満できるように
するためのマイクロ波空洞を形成する。生成物支持部材
は、マイクロ波エネルギーがスクリーンの下方に逃れる
のを阻止するマイクロ波防護スクリーンとして使用され
る。
振
発!器と容器との間のマイクロ波送出系は、振
発振器を流動層処理装置内の負荷に適合させ、こうして
流動層生成物によって吸収されるエネルギー′に最大に
1′るための同調器を有する。同調は種々の生成物につ
き最大にすることができ、こうして系に融通性を与える
。
流動層生成物によって吸収されるエネルギー′に最大に
1′るための同調器を有する。同調は種々の生成物につ
き最大にすることができ、こうして系に融通性を与える
。
本発明の1つの目的は、少なくとも流動層の形成する流
動層処理装置の部分が、反射したマイクロ波エネルギー
が流動層容器内で種々の方向を有し、該容器がマルチモ
ードの定在マイクロ波で充満されるマイクロ波空洞を形
成し、これを流動化された粒子が通過する、マイクa波
使用の流動層処理装置を提供することである。
動層処理装置の部分が、反射したマイクロ波エネルギー
が流動層容器内で種々の方向を有し、該容器がマルチモ
ードの定在マイクロ波で充満されるマイクロ波空洞を形
成し、これを流動化された粒子が通過する、マイクa波
使用の流動層処理装置を提供することである。
若干の死帯域ならびに過熱点が出現しうるが、マイクロ
波エネルギーは実質的にすべての空洞容積を占め、特殊
な位置に制限されない。
波エネルギーは実質的にすべての空洞容積を占め、特殊
な位置に制限されない。
本発明のもう1つの目的は、マイクロ波エネルギーを、
マイクロ波案内形態と考慮しない通常の流動層設計技術
により構成された周知流動層処理装置と結合して利用す
ることである。かかる設計は、存在する流動層処理袋!
′fcマイクロ波発生に適応するように容易に再び適合
させることができる。
マイクロ波案内形態と考慮しない通常の流動層設計技術
により構成された周知流動層処理装置と結合して利用す
ることである。かかる設計は、存在する流動層処理袋!
′fcマイクロ波発生に適応するように容易に再び適合
させることができる。
さらに、本発明の1つの目的は、流動層処理装置にマイ
クロ波エネルギーを有効に適用して、実質的にすべての
マイクロ波エネルギーが流動化′域に制限されるように
することである。
クロ波エネルギーを有効に適用して、実質的にすべての
マイクロ波エネルギーが流動化′域に制限されるように
することである。
本発明のさらに1つの目的は多種の生成物音処理しうる
バッチ式流動層処理装置にマイクロ波エネルギー金供給
することである。処理装置に適用されたマイクロ波エネ
ルギーは、処理される生成物により吸収t−最最大する
ことができる。
バッチ式流動層処理装置にマイクロ波エネルギー金供給
することである。処理装置に適用されたマイクロ波エネ
ルギーは、処理される生成物により吸収t−最最大する
ことができる。
これらおよび他の本発明の目的は、碕付加面金参照すれ
ば容易に明らかとなる。
ば容易に明らかとなる。
第1図に示したような、本発明の全マイクロ波使用の流
動層処理系は、一般に制御によび表示装置が結合された
流動層ユニット1、マイクロ波エネルギー全発振するた
めのマイクロ波発振器3釦よび流ll2I層ユニットに
マイクロ波を送出するためのマイクロ波送出系5を有す
る。園示され7’C%殊な系は、実験室用に寸法決めさ
れた流1lEIJ層ユニット1金利用するものであり、
それで作業台7に取付けて示されている。しかし、本弛
明は決して実験室環境に制限されるものではなく、実際
に本発明は周知であるように乾燥機、塗布機釦よび凝集
器を含むすべてのタイプのバッチ式流動層処理装置にお
けるマイクロ波の使用を包含する。本発明は、任意の基
体(食品、医薬または非食品基体)t−乾燥、粒化する
かまたはこれに水性tfcは非水性のフィルムまたは粉
末を適用するために装備されて)す;かつ加熱管たは非
加熱、状態調節lたは非状態調節された、空気または窒
素のような流動性ガスを流動層ユニットに送入釦よぴ排
出または再循環しうるバッチ式流動層処理装置にとくに
適している。
動層処理系は、一般に制御によび表示装置が結合された
流動層ユニット1、マイクロ波エネルギー全発振するた
めのマイクロ波発振器3釦よび流ll2I層ユニットに
マイクロ波を送出するためのマイクロ波送出系5を有す
る。園示され7’C%殊な系は、実験室用に寸法決めさ
れた流1lEIJ層ユニット1金利用するものであり、
それで作業台7に取付けて示されている。しかし、本弛
明は決して実験室環境に制限されるものではなく、実際
に本発明は周知であるように乾燥機、塗布機釦よび凝集
器を含むすべてのタイプのバッチ式流動層処理装置にお
けるマイクロ波の使用を包含する。本発明は、任意の基
体(食品、医薬または非食品基体)t−乾燥、粒化する
かまたはこれに水性tfcは非水性のフィルムまたは粉
末を適用するために装備されて)す;かつ加熱管たは非
加熱、状態調節lたは非状態調節された、空気または窒
素のような流動性ガスを流動層ユニットに送入釦よぴ排
出または再循環しうるバッチ式流動層処理装置にとくに
適している。
流動層ユニット1は、基本的実験室サイズ(約1kli
l)の流動層乾燥憬/造粒機であってもよい。かかるユ
ニットの1つは、ブラット・エア・テクニック社(Gl
att Air Techniques Inc、)に
より販売された1ユニ・ブラット(UniGlatt
) ’モデル44245であるが、流動層容器中へのマ
イクロ波エネルギーの導入に適応するように記載された
方法で変更されている。
l)の流動層乾燥憬/造粒機であってもよい。かかるユ
ニットの1つは、ブラット・エア・テクニック社(Gl
att Air Techniques Inc、)に
より販売された1ユニ・ブラット(UniGlatt
) ’モデル44245であるが、流動層容器中へのマ
イクロ波エネルギーの導入に適応するように記載された
方法で変更されている。
流動層ユニット1は流動層容器9しよび制御キャビネツ
)11’に有し、双方共その変更しない材料の流動層上
形成する、流動化ガス用ファン筐たはポンプ(図示せず
)t−有する。制御キャビネット11内で、入口空気金
加熱するための加熱コイル13ふ・よび加熱された入口
空気の温度を検出するための入口温度グローブ15があ
る。空気入口管17は、制御キャビネット11中へ突出
して釦り、空気は加熱された後、容器の底に供給される
。流動層容器の頂部から流出する空気のための排気管1
9が設けられており、該排気管19は下方へキャビネッ
ト11中へ延ひていて、ここで空気は排出されるか渣た
は入口空気と一緒に再循環させることができる。出口空
気温度を検出するための出口温度プローブ21が略示さ
れている。これらすべての特徴は、一般に流動層系に3
ける標準技術であシ、ここで詳述する必要はない。
)11’に有し、双方共その変更しない材料の流動層上
形成する、流動化ガス用ファン筐たはポンプ(図示せず
)t−有する。制御キャビネット11内で、入口空気金
加熱するための加熱コイル13ふ・よび加熱された入口
空気の温度を検出するための入口温度グローブ15があ
る。空気入口管17は、制御キャビネット11中へ突出
して釦り、空気は加熱された後、容器の底に供給される
。流動層容器の頂部から流出する空気のための排気管1
9が設けられており、該排気管19は下方へキャビネッ
ト11中へ延ひていて、ここで空気は排出されるか渣た
は入口空気と一緒に再循環させることができる。出口空
気温度を検出するための出口温度プローブ21が略示さ
れている。これらすべての特徴は、一般に流動層系に3
ける標準技術であシ、ここで詳述する必要はない。
流動層容器は5つの主要成分、即ち生成物容器または装
填ボウル23、膨張室25およびフィルター室27を有
する。生成物容器23はその底液下端に、生成物保持ス
クリーン29tl−有し、該スクリーンは本発明に釦い
て流動層容器からマイクロ波エネルギーが逃れるのヲ阻
止するための防護スクリーンとしても働く。生成物保持
スクリーン29は流動化すべき物質上支持または堡持し
かつ入口空気、つ1シ流動化空気が、それを貫通して上
向きに流れて、生成物を流動化するのを可能にするのに
十分な孔を有する。生成物容器23は膨張室25から6
j動であって、処理すべき生成物を装填することができ
かつ処理された生成物を流動化プロセスの終りに取除く
ことができる。流動化作業の間、流動層または流動化域
は生成物容器23を通して膨張室25中へ実質的に2/
3の距離にまで延びる。
填ボウル23、膨張室25およびフィルター室27を有
する。生成物容器23はその底液下端に、生成物保持ス
クリーン29tl−有し、該スクリーンは本発明に釦い
て流動層容器からマイクロ波エネルギーが逃れるのヲ阻
止するための防護スクリーンとしても働く。生成物保持
スクリーン29は流動化すべき物質上支持または堡持し
かつ入口空気、つ1シ流動化空気が、それを貫通して上
向きに流れて、生成物を流動化するのを可能にするのに
十分な孔を有する。生成物容器23は膨張室25から6
j動であって、処理すべき生成物を装填することができ
かつ処理された生成物を流動化プロセスの終りに取除く
ことができる。流動化作業の間、流動層または流動化域
は生成物容器23を通して膨張室25中へ実質的に2/
3の距離にまで延びる。
膨張室25の上方にはフィルタ室″!たはノ・ウジング
2Tがあり、フィルタ室はその内部に特定の軽量粒子が
流動層容器から排気ダクト中へ逃製 れるのを阻止する布Xフ、イルターpバッグ(図示せず
)を有し、望筐しくけフィルターバックを振動渣たは振
とうして同伴された生成物を流動層中へ戻すための機械
的振動装置(図示せず)または他の装f’を有する。排
気は排気管筐たは排気ダクト19を通ってフィルター室
から流出する。流動層技術は、上述した基本系に対し、
排気金入口へ再循環させてガスまたは空気が環境中へ逃
れることができないようにする閉回路糸を有する多数の
変更系が可能であり、さらに流動N=分分天大気圧以下
維持する真空型装置も動態である。
2Tがあり、フィルタ室はその内部に特定の軽量粒子が
流動層容器から排気ダクト中へ逃製 れるのを阻止する布Xフ、イルターpバッグ(図示せず
)を有し、望筐しくけフィルターバックを振動渣たは振
とうして同伴された生成物を流動層中へ戻すための機械
的振動装置(図示せず)または他の装f’を有する。排
気は排気管筐たは排気ダクト19を通ってフィルター室
から流出する。流動層技術は、上述した基本系に対し、
排気金入口へ再循環させてガスまたは空気が環境中へ逃
れることができないようにする閉回路糸を有する多数の
変更系が可能であり、さらに流動N=分分天大気圧以下
維持する真空型装置も動態である。
下記に記載するように、流動層容器の部分はマイクロ波
エネルキ゛−の共振空洞として動く。
エネルキ゛−の共振空洞として動く。
生成物容器23釦よび膨張室25は空洞を形成し、反射
のためステンレス鋼のような金属でなければならすかつ
相対的にアークフリーでなければならない、つ1シ平滑
であって、与えられたマイクロ波エネルギーから、アー
ク発生金惹起しうる1くれ(ないしはギブギブ)なしで
なければならない。つまり、マイクロ波エネルギーを受
取る空洞は電気的に連続、つ捷りアーク発生を惹起しう
る非導電性ギャップを有しない区域でなければならない
。埒うに、空洞はマイクロ波エネルギーが、環境上釦よ
び安全上の双方の理由のため、そこから逃れるのを阻止
しならびにアーク発生を阻止するように設計されていな
ければならない。たとえばマイクロ波エネルギーカ5膨
脹室25からフィルター室27中へ逃れることができた
場合、フィルター室内の種々の形の金属片がアーク発生
を惹起しうる。こうして、生成物容器23への入口およ
び膨張室25からフィルタ室27への出口に防護遮蔽が
必要である。さらに、5つの室の間のすべての結合部は
容器内部でのアーク発生全阻止するため最小になるよう
に調節可能が生じるように設計されていなければならな
い。
のためステンレス鋼のような金属でなければならすかつ
相対的にアークフリーでなければならない、つ1シ平滑
であって、与えられたマイクロ波エネルギーから、アー
ク発生金惹起しうる1くれ(ないしはギブギブ)なしで
なければならない。つまり、マイクロ波エネルギーを受
取る空洞は電気的に連続、つ捷りアーク発生を惹起しう
る非導電性ギャップを有しない区域でなければならない
。埒うに、空洞はマイクロ波エネルギーが、環境上釦よ
び安全上の双方の理由のため、そこから逃れるのを阻止
しならびにアーク発生を阻止するように設計されていな
ければならない。たとえばマイクロ波エネルギーカ5膨
脹室25からフィルター室27中へ逃れることができた
場合、フィルター室内の種々の形の金属片がアーク発生
を惹起しうる。こうして、生成物容器23への入口およ
び膨張室25からフィルタ室27への出口に防護遮蔽が
必要である。さらに、5つの室の間のすべての結合部は
容器内部でのアーク発生全阻止するため最小になるよう
に調節可能が生じるように設計されていなければならな
い。
さらに、実質的流動化の行なわれる容器空洞、少なくと
も膨張室25は、該膨張室中へ向けられたマイクロ波エ
ネルギーが、種々の角度で反射して、膨張室25t−実
質的にマイクロ波エネルギーで充満するのを可能にする
のに十分な大きさであることが重要である。極々に反射
したマイクロ波は、膨張室内でマルチモードの定在波を
形成する。これらのモードは、膨張室の内壁から前後に
はね返る種々に反射したマイクロ波によってつくられる
。これらのマイクロ波は若干の区域で互いに補強(振幅
の増加)シ、他の区域では互いに打消す。こうして、複
数の定在波がつくられる。空洞が大きいほど反射の機会
は多くなり、定在波パターンの確立する機会が大きくな
る。マイクロ波加熱に典型的である過熱点は生じるが、
たとえばマイクロ波オープンに通常でめるようなモード
攪拌機は必要でない。それというのも流動化すべき粒子
または生成物は、生成した定在波パターンを通してラン
ダムに動き、こうして流動層はマイクロ波エネルギーに
よシ均一に処理されるからである。
も膨張室25は、該膨張室中へ向けられたマイクロ波エ
ネルギーが、種々の角度で反射して、膨張室25t−実
質的にマイクロ波エネルギーで充満するのを可能にする
のに十分な大きさであることが重要である。極々に反射
したマイクロ波は、膨張室内でマルチモードの定在波を
形成する。これらのモードは、膨張室の内壁から前後に
はね返る種々に反射したマイクロ波によってつくられる
。これらのマイクロ波は若干の区域で互いに補強(振幅
の増加)シ、他の区域では互いに打消す。こうして、複
数の定在波がつくられる。空洞が大きいほど反射の機会
は多くなり、定在波パターンの確立する機会が大きくな
る。マイクロ波加熱に典型的である過熱点は生じるが、
たとえばマイクロ波オープンに通常でめるようなモード
攪拌機は必要でない。それというのも流動化すべき粒子
または生成物は、生成した定在波パターンを通してラン
ダムに動き、こうして流動層はマイクロ波エネルギーに
よシ均一に処理されるからである。
図面に示した特殊な構成にシいては、膨張室25釦よひ
生成物容器23は円錐形に形成されている。この円錐形
は、マイクロ波が室の壁で垂直にはね返るのを可能にし
、マイクロ波エネルギーが室を実質的に充満するのを助
ける。
生成物容器23は円錐形に形成されている。この円錐形
は、マイクロ波が室の壁で垂直にはね返るのを可能にし
、マイクロ波エネルギーが室を実質的に充満するのを助
ける。
フィルター室27は膨張室25に、2つの室の壕わりに
円周方向に延びる環状フランジ31゜33によって結合
されている。環状フランジは一緒にボルト締めされてい
る(噛示せず)。フランジ間には、マイクロ波が膨張室
25からフィルター室2T中へ逃れるのを阻止するため
のマイクロ波防護スクリーン35が締付けられている。
円周方向に延びる環状フランジ31゜33によって結合
されている。環状フランジは一緒にボルト締めされてい
る(噛示せず)。フランジ間には、マイクロ波が膨張室
25からフィルター室2T中へ逃れるのを阻止するため
のマイクロ波防護スクリーン35が締付けられている。
この防護スクリーン35は、流動化ガスの通過金許すの
に十分な孔37を有しなければならない。この場合、望
lしくは、実質的にスクリーンの791が十分な空気流
を可能にするために開いていなければならないことが確
認された。マイクロ波防護スクリーンは技術上周知であ
る。かかるスクリーン設計において周知であるように、
スクリーンの孔とスクリーンの犀さとの間には、マイク
ロ波の透過金時ぐための関係が存在する。防護スクリー
ンは、ステンレス鋼またはアルミニウムのような金属製
の、1平方インチ(約6.45 cm2)の六角形の孔
3Tヲ有スるノンウーブンのフレキシブルな金属材料か
らなる穿孔板39であってもよい。穿孔板の厚さは約1
/16インチ(約0.16m)である。
に十分な孔37を有しなければならない。この場合、望
lしくは、実質的にスクリーンの791が十分な空気流
を可能にするために開いていなければならないことが確
認された。マイクロ波防護スクリーンは技術上周知であ
る。かかるスクリーン設計において周知であるように、
スクリーンの孔とスクリーンの犀さとの間には、マイク
ロ波の透過金時ぐための関係が存在する。防護スクリー
ンは、ステンレス鋼またはアルミニウムのような金属製
の、1平方インチ(約6.45 cm2)の六角形の孔
3Tヲ有スるノンウーブンのフレキシブルな金属材料か
らなる穿孔板39であってもよい。穿孔板の厚さは約1
/16インチ(約0.16m)である。
孔37は十分なマイクロ波防護は可能であるが、膨張室
25からフィルター室27への十分な空気流は阻止しな
い。
25からフィルター室27への十分な空気流は阻止しな
い。
最小になるように調節可能を維持するため、つまり防護
スクリーンと室との結合部に釦いてアーク発生を惹起し
つるギャップを最小にするために、第3図に示したよう
な結合装置を使用することができる。環状の金属リング
41.43は反対側の防護スクリーン35をはさんで晦
接されている。
スクリーンと室との結合部に釦いてアーク発生を惹起し
つるギャップを最小にするために、第3図に示したよう
な結合装置を使用することができる。環状の金属リング
41.43は反対側の防護スクリーン35をはさんで晦
接されている。
これらのリング41.43は、膨脹室釦よびフランジと
同じ外径および内径上音する。リングはステンレス鋼ま
たはアルミニウムのような金属製である。それというの
もかかる金属部材はマイクロ波エネルギーを透過しない
からである。
同じ外径および内径上音する。リングはステンレス鋼ま
たはアルミニウムのような金属製である。それというの
もかかる金属部材はマイクロ波エネルギーを透過しない
からである。
従って、リングはスクリーン35を防護状態に保つのに
役立つ。金属リング45・47の相対する面にはガスケ
ット45.47が配置されている。フランジ33は、O
リングガスケット47を有するくぼみを有し、フィルタ
ー室27の側には長方形の環状ガスケット45があるー
これらのガスケット45.47は、銀めっきアルミニウ
ムのような金属粒子が最小になるように調節可能を得る
ために含浸されている圧縮可能なシリコーンガスケット
である。使用することのできる1つの特別なガスケット
材料は、チョメリクス(Chome−rics ; C
ho−8i1社の登録商標名)によって製造されている
。ガスケット45,47は、Cho−Bondとして公
知の特殊な金属含浸のシリコーンベース接着剤によって
所定位置に保持されている。
役立つ。金属リング45・47の相対する面にはガスケ
ット45.47が配置されている。フランジ33は、O
リングガスケット47を有するくぼみを有し、フィルタ
ー室27の側には長方形の環状ガスケット45があるー
これらのガスケット45.47は、銀めっきアルミニウ
ムのような金属粒子が最小になるように調節可能を得る
ために含浸されている圧縮可能なシリコーンガスケット
である。使用することのできる1つの特別なガスケット
材料は、チョメリクス(Chome−rics ; C
ho−8i1社の登録商標名)によって製造されている
。ガスケット45,47は、Cho−Bondとして公
知の特殊な金属含浸のシリコーンベース接着剤によって
所定位置に保持されている。
膨張室25は、公知方法で環状フランジ49゜51を介
して生成物容器23に結合されている。
して生成物容器23に結合されている。
フランジ49.51間の最小になるように調節可能を確
実にするために、それらの間にガスケット47と同じタ
イプの圧縮可能材料のoリングガスケットが結合されて
いる。膨張室は、0リング(−示せず)に適合する環状
くぼみを有する。みぞ内にがスケットt=固定するため
にも% Cho−Bond接着剤が使用される。
実にするために、それらの間にガスケット47と同じタ
イプの圧縮可能材料のoリングガスケットが結合されて
いる。膨張室は、0リング(−示せず)に適合する環状
くぼみを有する。みぞ内にがスケットt=固定するため
にも% Cho−Bond接着剤が使用される。
制御キャビネット11から入口ガスダクト53に接続し
ている、生成物容器23の底置下端も、ダクト53の7
ランジ57に結合せる環状7ランジ55を有する。生成
物保持スクリーン29は、ユニ・ブラット系(Uni−
Glattsystem )において代表的に使用され
た同じタイプのオランダwLvのメツンユ100のスク
リーンであってもよい。観察により、この特別なタイプ
のスクリーンはマイクロ波場によるアーク発生を惹起し
ないことが確かめられた。スクリーン29は、それを通
して生成物容器23中への実質的な空気流が可能である
ように設計されかつマイクロ波エネルギーの逃れるのを
阻止するためのマイクロ波防護スクリーンとして役立つ
ように寸法定めされている。もちろん、電気的アーク発
生が観察される場合には、上述したと同じ方法で阻止手
段ヲ講じることができる。
ている、生成物容器23の底置下端も、ダクト53の7
ランジ57に結合せる環状7ランジ55を有する。生成
物保持スクリーン29は、ユニ・ブラット系(Uni−
Glattsystem )において代表的に使用され
た同じタイプのオランダwLvのメツンユ100のスク
リーンであってもよい。観察により、この特別なタイプ
のスクリーンはマイクロ波場によるアーク発生を惹起し
ないことが確かめられた。スクリーン29は、それを通
して生成物容器23中への実質的な空気流が可能である
ように設計されかつマイクロ波エネルギーの逃れるのを
阻止するためのマイクロ波防護スクリーンとして役立つ
ように寸法定めされている。もちろん、電気的アーク発
生が観察される場合には、上述したと同じ方法で阻止手
段ヲ講じることができる。
つ筐り、導電性に含浸された材料の特殊なガスケットは
、最小になるように調節可能を維持するためにスクリー
ンに結合された金属製0リングを備えていてもよい。
、最小になるように調節可能を維持するためにスクリー
ンに結合された金属製0リングを備えていてもよい。
流動層容器にかいてしばしば使用されるように、作業員
が流動層プロセス金兄るのを可能にするために、膨張室
25にのぞき窓59が設けられている。代表的には、の
ぞき窓59は、膨張室の壁と金属製環状板61との間に
、はさまれてガラスを室壁の環状開口金環う位置に保持
する窓ガラスを包含する。流動層容器をマイクロ波エネ
ルギーを受取るように適合する場合にのぞき窓の使用全
維持するために、マイクロ波加熱または乾燥技術にかい
て周知であるように、マイクロ波エネルギーの逃失を阻
止するための防護スクリーンは窓に隣接して位置定めし
なければならない。上述したと同じ一般的寸法であって
もよい防護スクリーン63は、ガラス窓の直径、および
、窓を確保し、防護スクリーンをも確保する金属板61
の直径よりも若干大きい直径に裁断されている。こうし
て金属板61は防護スクリーンと接触して釦シ、該スク
リーンがまた最小になるように調節可能を維持するため
容器壁と接触している。シリコーンは望ましくは、気密
取付けを維持するため釦よびスクリーン63、金属製保
持リング61釦よび容器25の間の金属対金属の接触音
維持するためのシーラントとして使用される。
が流動層プロセス金兄るのを可能にするために、膨張室
25にのぞき窓59が設けられている。代表的には、の
ぞき窓59は、膨張室の壁と金属製環状板61との間に
、はさまれてガラスを室壁の環状開口金環う位置に保持
する窓ガラスを包含する。流動層容器をマイクロ波エネ
ルギーを受取るように適合する場合にのぞき窓の使用全
維持するために、マイクロ波加熱または乾燥技術にかい
て周知であるように、マイクロ波エネルギーの逃失を阻
止するための防護スクリーンは窓に隣接して位置定めし
なければならない。上述したと同じ一般的寸法であって
もよい防護スクリーン63は、ガラス窓の直径、および
、窓を確保し、防護スクリーンをも確保する金属板61
の直径よりも若干大きい直径に裁断されている。こうし
て金属板61は防護スクリーンと接触して釦シ、該スク
リーンがまた最小になるように調節可能を維持するため
容器壁と接触している。シリコーンは望ましくは、気密
取付けを維持するため釦よびスクリーン63、金属製保
持リング61釦よび容器25の間の金属対金属の接触音
維持するためのシーラントとして使用される。
マイクロ波通路65は、流動層容器の壁、望iL<はマ
イクロ波エネルギーの反射全最大にしかつ容器内のモー
ド数を増加するように膨張室25に設けられていなけれ
ばならない。膨張室25の壁には、フィルター室27へ
の距離の約2/3のところに環状間隙67が穿孔されて
いる。唯1つのマイクロ波通路65が示されているが、
膨張室25の全周壁にぐるりと互いに所定の角度で配#
Lされた複数の通路を設けることができることは明らか
である。膨張室25の外側には、下記に記載するマイク
ロ波送出系と接続するための適当な環状7ランジ71を
有するステンレス鋼管69が溶接されている。鉄管の内
部には固形のテフロン栓73が強固に位置定めされ、マ
イクロ波通路全閉塞している。テフロンは、その不活性
、機械加工性およびマイクロ波が小さいひずみで伝搬す
る可能性のために選択される。栓73は、膨張室25の
形訃よび湾曲度に適合する、環状輪郭のすベジ嵌めを得
るために2、固形のテフロンブロックからフライス切削
して公差をなくする。テフロン栓は膨張室内面で、膨張
室25の湾曲に適合する輪郭を有しかつ円筒形に金属管
69中へ十分な距離延ひている。金属管69t−貫通し
かつテフロンブロック73中へ孔(図示せず)が、テフ
ロン栓73の回転全阻止するためテフロンボルト(図示
せず)の差込みに適応するようにねじ立てされている。
イクロ波エネルギーの反射全最大にしかつ容器内のモー
ド数を増加するように膨張室25に設けられていなけれ
ばならない。膨張室25の壁には、フィルター室27へ
の距離の約2/3のところに環状間隙67が穿孔されて
いる。唯1つのマイクロ波通路65が示されているが、
膨張室25の全周壁にぐるりと互いに所定の角度で配#
Lされた複数の通路を設けることができることは明らか
である。膨張室25の外側には、下記に記載するマイク
ロ波送出系と接続するための適当な環状7ランジ71を
有するステンレス鋼管69が溶接されている。鉄管の内
部には固形のテフロン栓73が強固に位置定めされ、マ
イクロ波通路全閉塞している。テフロンは、その不活性
、機械加工性およびマイクロ波が小さいひずみで伝搬す
る可能性のために選択される。栓73は、膨張室25の
形訃よび湾曲度に適合する、環状輪郭のすベジ嵌めを得
るために2、固形のテフロンブロックからフライス切削
して公差をなくする。テフロン栓は膨張室内面で、膨張
室25の湾曲に適合する輪郭を有しかつ円筒形に金属管
69中へ十分な距離延ひている。金属管69t−貫通し
かつテフロンブロック73中へ孔(図示せず)が、テフ
ロン栓73の回転全阻止するためテフロンボルト(図示
せず)の差込みに適応するようにねじ立てされている。
該金属管の表面および結合部は、衛生的でアークフリー
の設計を得るために、きれいに研削されかつみがかれて
いなければならない。
の設計を得るために、きれいに研削されかつみがかれて
いなければならない。
流動化生成物の温度を監袂するために、膨脹室25の壁
を貫通して、プローブ、望壕しくはサーモカップルプロ
ーブ75が設けられている。
を貫通して、プローブ、望壕しくはサーモカップルプロ
ーブ75が設けられている。
(光フアイバーグローブのような他のタイプのプローブ
金使用することもできる)。使用するtとのできるかか
る1つのサーモカップルプロー7’は、円筒形のタイプ
にのバイメタルプローブ(Cole−Palmer E
lectronics社のモデル/l6N8439)で
ある。プローブ75は、外径1/8インチ(約3−1m
m)、長さ12インチ(約30.5crrL)テする。
金使用することもできる)。使用するtとのできるかか
る1つのサーモカップルプロー7’は、円筒形のタイプ
にのバイメタルプローブ(Cole−Palmer E
lectronics社のモデル/l6N8439)で
ある。プローブ75は、外径1/8インチ(約3−1m
m)、長さ12インチ(約30.5crrL)テする。
プローブ75は、デジタル温度計77のような続出し装
置に接続されていてもよい。プローブ75と温度計77
との間の接続ケーブル79は、極めて低いマイクロ波エ
ネルギー領域で生じうる混信を最小にするため金属テー
プで包まれていてもよい。
置に接続されていてもよい。プローブ75と温度計77
との間の接続ケーブル79は、極めて低いマイクロ波エ
ネルギー領域で生じうる混信を最小にするため金属テー
プで包まれていてもよい。
サーモカップルプローブ75は、膨張室25の下方象限
に溶装されたステンレス鋼保護管81中へ挿入されて、
膨張室の内部に配置されている。膨張室25の外部で保
護管81の末端には、保a管81内でのサーモカップル
プローブ75の安全かつ正確な突入深さを生じる、ナ7
ヨナル・パイプ・スレッド(NPT )型圧縮嵌合のよ
うな常用の圧縮嵌合部83が存在する。
に溶装されたステンレス鋼保護管81中へ挿入されて、
膨張室の内部に配置されている。膨張室25の外部で保
護管81の末端には、保a管81内でのサーモカップル
プローブ75の安全かつ正確な突入深さを生じる、ナ7
ヨナル・パイプ・スレッド(NPT )型圧縮嵌合のよ
うな常用の圧縮嵌合部83が存在する。
周知のこのNTP圧縮嵌合部83は温度プローブ75の
不動化を生じるだけでなく、マイクロ波乾燥域内での必
要な最小になるように調節可能を確保する。グローブ乞
位置に確保するために、締付はナツト85が設けられて
いる。
不動化を生じるだけでなく、マイクロ波乾燥域内での必
要な最小になるように調節可能を確保する。グローブ乞
位置に確保するために、締付はナツト85が設けられて
いる。
保護管81のような金属シリンダーをマイクロ牧場へ挿
入すると管がマイクロ波エネルギーのアンテナもしくは
アンチアンテナとして働き、こうして潜在的に不正かつ
誤った温度の絖み全土じるか、あるいは悪い場合には、
プローブに接続されているデジタル温度計77に永久的
損傷金与えることは公知である。それで、サーモカップ
ルグローブ75は、正確な温度の読み全可能にするため
、実験により求められた正確な突入深さに位置定めされ
ていることが必要である。位置定めは、次のようにして
実験によシ定めることができる。生成物装填容器23中
に水11の負荷をかけ、100ワツトのマイクロ波エネ
ルギーを入力することにより、サーモカップルプローブ
75の位Rを、変動の少ないTの読みが得られる筐で深
さを変えて調節することができる。1真”の温度は、マ
イクロ波エネルギーなしの膨張室内の温度でおる。こう
して、はじめ□マイクロ波源なしで室内の直置全測定し
、マイクロ波エネルギーを適用し、同じ温度に達するま
でサーモカップルプローブ75の位[を調節する。
入すると管がマイクロ波エネルギーのアンテナもしくは
アンチアンテナとして働き、こうして潜在的に不正かつ
誤った温度の絖み全土じるか、あるいは悪い場合には、
プローブに接続されているデジタル温度計77に永久的
損傷金与えることは公知である。それで、サーモカップ
ルグローブ75は、正確な温度の読み全可能にするため
、実験により求められた正確な突入深さに位置定めされ
ていることが必要である。位置定めは、次のようにして
実験によシ定めることができる。生成物装填容器23中
に水11の負荷をかけ、100ワツトのマイクロ波エネ
ルギーを入力することにより、サーモカップルプローブ
75の位Rを、変動の少ないTの読みが得られる筐で深
さを変えて調節することができる。1真”の温度は、マ
イクロ波エネルギーなしの膨張室内の温度でおる。こう
して、はじめ□マイクロ波源なしで室内の直置全測定し
、マイクロ波エネルギーを適用し、同じ温度に達するま
でサーモカップルプローブ75の位[を調節する。
次にマイクロ波エネルギー源に関して、通常の設計のマ
イクロ波発振器3が示されている。
イクロ波発振器3が示されている。
ここに記載した特別な構成に3けるマイクロ波発振器は
アンンエーテツド・サイエンセス・リサーチ・ファクン
デー7ヨ7社(As5ociatedScience+
s Re5earch Foundation Inc
、、 )のモデル4iS 131であり、0〜約130
0ワツト筐での可変出力が得られるように設計されてい
る0発振器3により得られる周波数は、一定に2450
MHz (±15 MHz )である。根本的には、
一定筐たは可変のエネルギー出力を有する標準マイクロ
波発振器または発振器ンリーズ倉使用することができる
。可変エネルギー出力は多数の種々の方法で得ることが
できる。たとえば、可変エネルギー出力は、マイクロ波
発振器3内のマグネトロンに適用される電圧を変え、従
って発振器3の生じうる電力ワット数を変える可変抵抗
器によって得ることができる。可変エネルギーは、流動
層処理装置中への種々の全エネルギー人力金得るため選
択的に作動することのできる複数の一定および/または
可変エネルギーのマイクロ波発振器を使用することによ
り達成することもできる。複数のマイクロ波発振益金下
記に記載するような単一のマイクロ波送出系5に接続す
ることもできるし、別個のマイクロ波発振器金、別個の
マイクロ波通路に結合された別個の送出系と結合するこ
ともできる。
アンンエーテツド・サイエンセス・リサーチ・ファクン
デー7ヨ7社(As5ociatedScience+
s Re5earch Foundation Inc
、、 )のモデル4iS 131であり、0〜約130
0ワツト筐での可変出力が得られるように設計されてい
る0発振器3により得られる周波数は、一定に2450
MHz (±15 MHz )である。根本的には、
一定筐たは可変のエネルギー出力を有する標準マイクロ
波発振器または発振器ンリーズ倉使用することができる
。可変エネルギー出力は多数の種々の方法で得ることが
できる。たとえば、可変エネルギー出力は、マイクロ波
発振器3内のマグネトロンに適用される電圧を変え、従
って発振器3の生じうる電力ワット数を変える可変抵抗
器によって得ることができる。可変エネルギーは、流動
層処理装置中への種々の全エネルギー人力金得るため選
択的に作動することのできる複数の一定および/または
可変エネルギーのマイクロ波発振器を使用することによ
り達成することもできる。複数のマイクロ波発振益金下
記に記載するような単一のマイクロ波送出系5に接続す
ることもできるし、別個のマイクロ波発振器金、別個の
マイクロ波通路に結合された別個の送出系と結合するこ
ともできる。
マイクロ波発振器3によシ発振されたマイクロ波は、マ
イクロ波送出系5會経て流動層容器に適用される。マイ
クロ波送出系5は、筐ず二方向結合器91(たとえばA
s5ociated 5cien−ces Re5ea
rch Foundation 、 Inc、により製
造される)を有する。二方向結合器91は周知であり、
順方向および逆方向マイクロ波エネルギの容易かつ迅速
な監視が可能である。つ壕シ、二方向結合器は順方向パ
ワー つ1り膨張室25中へ与えられたパワー ならび
に逆方向パワー つ筺り流動層容器から反射して戻る未
使用エネルギーを検出する。逆方向エネルギーは、処理
される生成物によジ吸収されないエネルギーである。順
方向結合器93は、−60デシベルの減衰ヲ祷るために
装備することができ、逆方向結合器95は信号?1l−
−50デンベルだけ減衰するために装備することができ
る。減衰したマ・fクロ波エネルギーの検知および伝送
は、電力計(たとえば5tandard Hewlet
t−Pockara社の電力計モデル、46431c)
に接続された温度補償型サーミスタ唄よび同軸ケーブル
97によって行なうことができる。温度補償型サーミス
タ(ケーブル内)釦よび同軸ケーブル9Tは、ストルー
デース・エレクトロニクス(StruthersEle
ctronics )社の製品モデル/16oIL−3
60−2であってもよい。順方向結合器の目的は、流動
層処理装置中へのマイクロ波ワット数を正確に測定する
ことである。このものは、マイクロ波発振器6校正し、
妥当なものにするのにも使用される。逆方向結合器の第
一の機能は、流動化プロセス中の与えられた時間に反射
lたは未使用のマイクロ波エネルギー量を測定すること
である。反射したエネルギーは処理される材料の乾燥度
に比例することが見出された。つ筺シ、流動層プロセス
の初期段階の間、容器に供給された実質的にすべてのマ
イクロ波エネルギーが生成物によって吸収される。プロ
セスが継続し、生成物がよシ乾燥する場合、より少ない
エネルギーが吸収され、より多くのエネルギーがマイク
ロ波通路65、マイクロ改送出系5によって反射されて
戻シ、二方向結合器91および電力計99によって検出
される。逆方向パワーTh監視することによシ、材料の
乾燥を測定することかできる。つ准り、逆方向エネルギ
ーが高いほど、より多量のエネルギーが未吸収であり、
これは少ない湿分または水が生成物材料中に存在するこ
とを意味する。それで、乾燥プロできる。
イクロ波送出系5會経て流動層容器に適用される。マイ
クロ波送出系5は、筐ず二方向結合器91(たとえばA
s5ociated 5cien−ces Re5ea
rch Foundation 、 Inc、により製
造される)を有する。二方向結合器91は周知であり、
順方向および逆方向マイクロ波エネルギの容易かつ迅速
な監視が可能である。つ壕シ、二方向結合器は順方向パ
ワー つ1り膨張室25中へ与えられたパワー ならび
に逆方向パワー つ筺り流動層容器から反射して戻る未
使用エネルギーを検出する。逆方向エネルギーは、処理
される生成物によジ吸収されないエネルギーである。順
方向結合器93は、−60デシベルの減衰ヲ祷るために
装備することができ、逆方向結合器95は信号?1l−
−50デンベルだけ減衰するために装備することができ
る。減衰したマ・fクロ波エネルギーの検知および伝送
は、電力計(たとえば5tandard Hewlet
t−Pockara社の電力計モデル、46431c)
に接続された温度補償型サーミスタ唄よび同軸ケーブル
97によって行なうことができる。温度補償型サーミス
タ(ケーブル内)釦よび同軸ケーブル9Tは、ストルー
デース・エレクトロニクス(StruthersEle
ctronics )社の製品モデル/16oIL−3
60−2であってもよい。順方向結合器の目的は、流動
層処理装置中へのマイクロ波ワット数を正確に測定する
ことである。このものは、マイクロ波発振器6校正し、
妥当なものにするのにも使用される。逆方向結合器の第
一の機能は、流動化プロセス中の与えられた時間に反射
lたは未使用のマイクロ波エネルギー量を測定すること
である。反射したエネルギーは処理される材料の乾燥度
に比例することが見出された。つ筺シ、流動層プロセス
の初期段階の間、容器に供給された実質的にすべてのマ
イクロ波エネルギーが生成物によって吸収される。プロ
セスが継続し、生成物がよシ乾燥する場合、より少ない
エネルギーが吸収され、より多くのエネルギーがマイク
ロ波通路65、マイクロ改送出系5によって反射されて
戻シ、二方向結合器91および電力計99によって検出
される。逆方向パワーTh監視することによシ、材料の
乾燥を測定することかできる。つ准り、逆方向エネルギ
ーが高いほど、より多量のエネルギーが未吸収であり、
これは少ない湿分または水が生成物材料中に存在するこ
とを意味する。それで、乾燥プロできる。
二方向結合器91には、フレキシブルな導波管101が
接続されている。使用することのできるかかるフレキシ
ブルな導波管101の1つは、アソンエーテツド・サイ
エンセス・リサーチ・ファウンデーション社(As5o
ciated 5ci−ences Re5earch
Foundation 、 Inc、 )の製品スタ
ンダード18フレキシブル導波管である。
接続されている。使用することのできるかかるフレキシ
ブルな導波管101の1つは、アソンエーテツド・サイ
エンセス・リサーチ・ファウンデーション社(As5o
ciated 5ci−ences Re5earch
Foundation 、 Inc、 )の製品スタ
ンダード18フレキシブル導波管である。
フレキシブル導波管101の使用は、マイクロ波発振器
3および流動層処理装置9會完全にレベリングする骨の
折れる仕事を省略することにより容易な設置tt可能に
するため望ましい。フレキシブルな導波管101は、同
調器、たとえば後記するスロット付同調器103に接続
されている。
3および流動層処理装置9會完全にレベリングする骨の
折れる仕事を省略することにより容易な設置tt可能に
するため望ましい。フレキシブルな導波管101は、同
調器、たとえば後記するスロット付同調器103に接続
されている。
フレキシブルな導波管101は多くの形態のものであっ
てもよくかつマイクロ波を流動層容器中への特別な方向
に方向定めするため900ねじりのようなねじpt−有
していてもよい。膨張室25に入るに先立ち導波管10
1の向きを変えることによって、膨張室25内でのマイ
クロ波の有、角反射の変化から生じる膨張室25内のエ
ネルギーモードを再位置定めすることが可能である。さ
らに、フレキシブルな導波管101訟よびスロット付同
調器103は、膨張型25中へマイクロ波の向きを変え
ること金可能にするため、マイクロ波通路に接続された
管69のフランジ71に関して回転可能であってもよい
。
てもよくかつマイクロ波を流動層容器中への特別な方向
に方向定めするため900ねじりのようなねじpt−有
していてもよい。膨張室25に入るに先立ち導波管10
1の向きを変えることによって、膨張室25内でのマイ
クロ波の有、角反射の変化から生じる膨張室25内のエ
ネルギーモードを再位置定めすることが可能である。さ
らに、フレキシブルな導波管101訟よびスロット付同
調器103は、膨張型25中へマイクロ波の向きを変え
ること金可能にするため、マイクロ波通路に接続された
管69のフランジ71に関して回転可能であってもよい
。
マイクロ波速山系の最終成分は、同調器であり、これは
スロット付同調器103(周知成分)であってもよい。
スロット付同調器103(周知成分)であってもよい。
本質的に、スロット付同調器103はスロットヲ有する
導波管であって、スロット内で真ちゅうのねじを動かし
てエネルギー1−膨張室25中へ反射させる。スロット
付同調器會特別な生成物装填に調節することによ紙材料
により吸収されるエネルギーの量を最大にすることがで
きる。換言すれば、スロット付同調器103は膨脹室2
5から反射される逆方向パワーを最小にするための調節
が可能である。
導波管であって、スロット内で真ちゅうのねじを動かし
てエネルギー1−膨張室25中へ反射させる。スロット
付同調器會特別な生成物装填に調節することによ紙材料
により吸収されるエネルギーの量を最大にすることがで
きる。換言すれば、スロット付同調器103は膨脹室2
5から反射される逆方向パワーを最小にするための調節
が可能である。
それで、同調器103は、マイクロ波パワー人力を流動
層処理装置内に存在する生成物負荷と適合させるために
使用される。これは、特別なタイプの生成物に対する処
理作業の実施の進行において実験により決定される。ス
ロット付同調器103の調節は、特別な生成物配合のた
めのそれぞれのプロセスに先立って行なわれる。
層処理装置内に存在する生成物負荷と適合させるために
使用される。これは、特別なタイプの生成物に対する処
理作業の実施の進行において実験により決定される。ス
ロット付同調器103の調節は、特別な生成物配合のた
めのそれぞれのプロセスに先立って行なわれる。
生成物容器23(ハ)に生成物M合の試験負荷が与えら
れ、それにマイクロ波エネルギーが適用され、同調器1
01力;電力計によって観察される反射エネルギーの量
を最小にするための最適位置に′A節される。
れ、それにマイクロ波エネルギーが適用され、同調器1
01力;電力計によって観察される反射エネルギーの量
を最小にするための最適位置に′A節される。
自由端が大気と連通している入口管1Tにより、流動麺
処理装置k通って上向きに流れる入口ガスまたは空気が
供給される。とくに試験目的のため、流動層処理装置中
へ送入される空気の体積音測定しうることがしばしば望
ましい。
処理装置k通って上向きに流れる入口ガスまたは空気が
供給される。とくに試験目的のため、流動層処理装置中
へ送入される空気の体積音測定しうることがしばしば望
ましい。
従って、入口空気管17は、空気量を周知方法でft3
7 min (約28.3 m3/ min )で測定
するため、電子の有翼アネモメーター(図示せず)乞有
する真直な長さのダクトでりっでもよい。
7 min (約28.3 m3/ min )で測定
するため、電子の有翼アネモメーター(図示せず)乞有
する真直な長さのダクトでりっでもよい。
上述したような変更された常用のバッチ式流動層処塊装
置にマイクロ技エネルギー全適用すると、乾燥時間の著
しい減少が得られる。利点は の1例ぞ第6(a)〜(d1図に示されている。上述し
たようなマイクロ波使用の流動層処理装置は4つの代表
的な製薬顆粒を乾燥するために使用された。乾燥実験は
、入口空気@度30’Cで、マイクロ波使用の有無で実
施した。顆粒のタイプは、製薬材料のスペクトルを乾燥
する力を証明するために慎重に選択した。処方A、Bb
よひCは、それぞれ低、中程度によひ高い吸湿性金量す
材料を表わす。処方りは非吸湿性顆粒上表わす。正確な
処方は次のとおりである:4つのマイクロ波パワー人力
を使用した。これらは、250,500.750釦よび
1000ワツトであった。第6(a)〜(d1図は、空
気入口温度50°CKkける各処方に対する乾燥時間の
開用 Mなしでは知ることができなかった。60℃のルヤーの
入力によ92〜4倍改良された。
置にマイクロ技エネルギー全適用すると、乾燥時間の著
しい減少が得られる。利点は の1例ぞ第6(a)〜(d1図に示されている。上述し
たようなマイクロ波使用の流動層処理装置は4つの代表
的な製薬顆粒を乾燥するために使用された。乾燥実験は
、入口空気@度30’Cで、マイクロ波使用の有無で実
施した。顆粒のタイプは、製薬材料のスペクトルを乾燥
する力を証明するために慎重に選択した。処方A、Bb
よひCは、それぞれ低、中程度によひ高い吸湿性金量す
材料を表わす。処方りは非吸湿性顆粒上表わす。正確な
処方は次のとおりである:4つのマイクロ波パワー人力
を使用した。これらは、250,500.750釦よび
1000ワツトであった。第6(a)〜(d1図は、空
気入口温度50°CKkける各処方に対する乾燥時間の
開用 Mなしでは知ることができなかった。60℃のルヤーの
入力によ92〜4倍改良された。
マイクロ波入力の有無により乾燥しfc顆粒間の物理的
相違上検出するために、走査電子顕微鏡を使用した。結
果は、顆粒形態、たとえば粒径、細孔容積、表面積lた
は一般的な物理的性質に何の変化も示さなかった。従っ
て、マイクロ波の使用は、通常、の流動層技術上用いて
乾燥する製薬顆粒の表わす性質を著しく変化しないとい
う論理的結論に達することができた。
相違上検出するために、走査電子顕微鏡を使用した。結
果は、顆粒形態、たとえば粒径、細孔容積、表面積lた
は一般的な物理的性質に何の変化も示さなかった。従っ
て、マイクロ波の使用は、通常、の流動層技術上用いて
乾燥する製薬顆粒の表わす性質を著しく変化しないとい
う論理的結論に達することができた。
添付図面は本発明の実施例で示すもので、第1図は全マ
イクロ波使用の流動層処理系の概略断面図であり、 第2図は第1図の系を部分的上面図で示す平面図であり
、 第3図は膨張室とフィルター室との間の結合部の断面図
であり、 第↓図はマイクロ波通路部分の断面図であり、第5図は
膨張室内の温度グローブを示す概略第6図は、空気入口
温度30’Cでの種々のマイクロ波エネルギー人力にお
ける4つの生成物処方A−Dに対する水分/時間線図で
あり、第6(a)図は処方Aに対する水分/時間線図、
第6(b)図は処方Bに対する水分7時間線図第6(c
)図は処方Cに対する水分/時間線図であり、第6(d
)図は処方りに対する水分/時間線図である。 1・・・流動層ユニット 3・・・マイクロ波発振器5
・・・マイクロ波送出系 7・・・作業台 9・・・流
動層容器 11・・・制御キャビネット 13・・・加
熱コイル 15・・・入口温度プローブ 17・・・空
気入口管 19・・・排気管 21・・・出口温度プロ
ーブ 23・・・生成物容器 25・・・膨張室 2T
・・・フィルター室 29・・・生成物保持スクリーン
31.33・・・フランジ 35・・・防護スクリーン
37・・・六角形孔 39・・・穿孔板 41.43・
・・金属リング 45,47・・・ガスケット 49゜
51・・・7ランジ 53・・・ダクト 55・・・フ
ランジ 57・・・フランジ 59・・・のぞき窓 6
1・・・金属板 63・・・防護スクリーン 65・・
・マイクロ波通路 67・・・循環間陳 69・・・ス
テンレス鋼管 71・・・フランジ 73・・・テフロ
ン栓75・・・サーモカップルグローブ 7T・・・デ
ジタル温度計 79・・・扱続ケーブル 81・・・保
護管83・・・圧縮嵌合部 91・・・二方向結合器
93・・・順方向結合器 95・・・逆方向結合器 9
7・・・同軸ケーブル 99・・・電力計 101・・
・導波管103・・・スロット付同調器 第4閃 手 続 補 正 書(自発)
イクロ波使用の流動層処理系の概略断面図であり、 第2図は第1図の系を部分的上面図で示す平面図であり
、 第3図は膨張室とフィルター室との間の結合部の断面図
であり、 第↓図はマイクロ波通路部分の断面図であり、第5図は
膨張室内の温度グローブを示す概略第6図は、空気入口
温度30’Cでの種々のマイクロ波エネルギー人力にお
ける4つの生成物処方A−Dに対する水分/時間線図で
あり、第6(a)図は処方Aに対する水分/時間線図、
第6(b)図は処方Bに対する水分7時間線図第6(c
)図は処方Cに対する水分/時間線図であり、第6(d
)図は処方りに対する水分/時間線図である。 1・・・流動層ユニット 3・・・マイクロ波発振器5
・・・マイクロ波送出系 7・・・作業台 9・・・流
動層容器 11・・・制御キャビネット 13・・・加
熱コイル 15・・・入口温度プローブ 17・・・空
気入口管 19・・・排気管 21・・・出口温度プロ
ーブ 23・・・生成物容器 25・・・膨張室 2T
・・・フィルター室 29・・・生成物保持スクリーン
31.33・・・フランジ 35・・・防護スクリーン
37・・・六角形孔 39・・・穿孔板 41.43・
・・金属リング 45,47・・・ガスケット 49゜
51・・・7ランジ 53・・・ダクト 55・・・フ
ランジ 57・・・フランジ 59・・・のぞき窓 6
1・・・金属板 63・・・防護スクリーン 65・・
・マイクロ波通路 67・・・循環間陳 69・・・ス
テンレス鋼管 71・・・フランジ 73・・・テフロ
ン栓75・・・サーモカップルグローブ 7T・・・デ
ジタル温度計 79・・・扱続ケーブル 81・・・保
護管83・・・圧縮嵌合部 91・・・二方向結合器
93・・・順方向結合器 95・・・逆方向結合器 9
7・・・同軸ケーブル 99・・・電力計 101・・
・導波管103・・・スロット付同調器 第4閃 手 続 補 正 書(自発)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、流動化ガス入口、流動化ガス出口を有する流動層容
器、流動化すべき生成物を支持するための、該流動化ガ
ス入口に隣接して位置定めされた生成物支持装置および
マイクロ波通路を有するマイクロ波使用の流動層処理装
置において、生成物支持装置上方の流動層容器の少なく
とも一部は、種々の方向に反射したマイクロ波を流動化
区域内で生成するのを可能にするためのマイクロ波空洞
を形成し;かつマイクロ波エネルギーを、上記マイクロ
波通路を経て流動層容器中へ供給するためのマイクロ波
発振器は流動化された生成物により吸収されるマイクロ
波エネルギーを最大にするための同調器を有することを
特徴とするマイクロ波使用の流動層処理装置。 2、マイクロ波通路が、流動層容器から吸収されずに反
射したマイクロ波エネルギーの通路を提供する、請求項
1記載のマイクロ波使用の流動層処理装置。 3、同調器が流動化される多種の生成物に対しマイクロ
波エネルギーを調節する装置を有する、請求項1記載の
マイクロ波使用の流動層処理装置。 4、マイクロ波発振器が流動層容器から吸収されずに反
射するマイクロ波エネルギーを測定する装置を有し、同
調器は反射するマイクロ波エネルギーが最小になるよう
に調節可能である、請求項2記載の流動層処理装置。 5、マイクロ波空洞を形成する流動層容器の部分が電気
的連続である、請求項1記載のマイクロ波使用の流動層
処理装置。 6、流動層容器が、該流動層容器部分からマイクロ波エ
ネルギーの逃れるのを阻止するための遮蔽装置を有する
、請求項5記載のマイクロ波使用の流動層処理装置。 7、膨脹室、膨脹室の一端に位置定めされた、流動化ガ
ス入口を有する生成物容器および膨脹室の他端に位置定
めされた、流動化ガス出口を有するフィルター室を有し
、膨脹室および生成物容器は電気的連続を形成し、かつ
該膨脹室は種々の方向に反射したマイクロ波が膨脹室内
で生成しうるように寸法定めされており;膨脹室の他端
には、マイクロ波エネルギーがフィルター室中へ逃れる
のを阻止するためのマイクロ波防護用遮蔽装置が位置定
めされており;生成物容器の流動化ガス入口には、流動
化される生成物を保持するためおよび生成物容器からマ
イクロ波エネルギーが逃れるのを阻止するための生成物
保持/遮蔽装置が位置定めされており;少なくとも膨脹
室の内部にマイクロ波場をつくるために、膨脹室の近く
で、流動層容器内部に種々の方向のマイクロ波の生成を
可能にするためのマイクロ波発振器が流動層容器と接続
されている、ことを特徴とするマイクロ波使用の流動層
処理装置。 8、マイクロ波発振器が、マイクロ波を発生するマイク
ロ波発振器およびマイクロ波発振器から流動層容器へマ
イクロ波を伝送するための伝送装置を有する請求項7記
載の流動層処理装置。 9、伝送装置が導波管と、流動層容器に向けて伝送され
た順方向エネルギーおよび流動層容器から反射して戻る
逆方向マイクロ波エネルギーを監視するための二方向結
合器とを有する、請求項8記載の流動層処理装置。 10、二方向結合器が、逆方向マイクロ波エネルギーを
測定するための計器と接続されている、請求項9記載の
流動層処理装置。 11、導波管がフレキシブルな導波管である、請求項9
記載の流動層処理装置。 12、伝送装置がさらに、流動層容器に与えられた順方
向マイクロ波エネルギーを最大にするための同調器を有
する、請求項9記載の流動層処理装置。
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