JPH0314318B2 - - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は新規光学活性3,4−ビス−(ジフエ
ニルホスフイノ)−ビロリジンに関する。 従来の技術 ケミストリー タース(Chemistry Lette−
rs)1983年、第1203〜1206ページから式: 〔式中Arはフエニル基または4−メトキシフ
エニル基を表わし、Rはアルキル基またはω−ジ
メチルアミノアルキル基を表わす〕で示される光
学活性ピロリジン誘導体は公知である。このピロ
リジン誘導体は、デヒドロジペプチドの不斉水素
化用触媒として推奨されるロジウム錯体における
カイラル配位子として使用できる。しかし、α−
アセトアミドケイ皮酸の不斉水素化の際、この公
知のロジウム錯体の立体選択性はわずかにすぎ
ず、従つてまた低い光学収率しか達成されない。 問題点を解決するための手段 本発明の第1の対象は、一般式: 式中Phはフエニル基を表わし、Rは水素、ア
ルキル基、アリールアルキル基またはベンゾイル
基、t−ブチルオキシカルボニル基、式CH3−O
−(CH2−CH2−O)n−CH2−CO−(その際n
は0〜3の整数を表わす)の基または式R1−CO
−(その際R1は水素、メチル−、エチル−、n−
プロピル−、i−プロピル−、n−ブチル−、i
−ブチル−、第二ブチル−、第三ブチル基または
α−またはβ−ナフチル基を表わす)の基を表わ
す]で示される光学活性3,4−ビス−(ジフエ
ニルホスフイノ)−ピロリジンである。 基礎物質、つまり3,4−ビス−(ジフエニル
ホスフイノ)−ピロリジン自体は、光学活性酒石
酸をベンジルアミノと縮合させて1−ベンジル−
2,5−ジオキソ−3,4−ジヒドロキシピロリ
ジンにし、これを水素化リチウムアルミニウムを
用いて1−ベンジル−3,4−ジヒドロキシピロ
リジンに還元し、これから触媒水素化によりベン
ジル基を脱離し、得られる3,4−ジヒドロキシ
ピロリジンをジ−tert.ブチルジカルボネートを用
いて1−tert.ブチルオキシカルボニル−3,4−
ジヒドロキシピロリジンにアシル化し、これを無
水メチルスルホン酸を用いて1−tert.ブチルオキ
シカルボニル−3,4−ジメチルスルホニルピロ
リジンに変換し、これを氷酢酸溶液中の臭化水素
を用いて3,4−ジメチルスルホニルピロリジン
臭化水素酸塩に変え、最後にこれをアルカリ金属
ジフエニルホスフイドと反応させて3,4−ビス
−(ジフエニルホスフイノ)−ピロリジンにし、こ
れを塩酸塩として単離する方法で製造することが
できる。この多工程の合成の際(+)−酒石酸か
ら出発すると、(R,R)−3,4−ビス−(ジフ
エニルホスフイノ)−ピロリジンの塩酸塩が得ら
れ、(−)−酒石酸から出発すると、相当する方法
で(S,S)−3,4−ビス−(ジフエニルホスフ
イノ)−ピロリジンの塩酸塩が生じる。次いで必
要な場合には、塩酸塩から、アルカリ金属水酸化
物、アルカリ金属水素炭酸塩またはアルカリ金属
炭酸塩を用いる処理により相当する遊離塩基を得
ることができる。 引続き、遊離塩基を適当なアシル化剤、殊にカ
ルボン酸塩化物または−無水物を用いて自体公知
の方法で窒素原子においてアシル化することがで
きる。アシル誘導体のうちでは、式()中Rが
ベンゾイル基、tert.−ブチルオキシカルボニル基
または式:CH3−O−(CH2−CH2−O)n−
CH2−CO〔式中nは0〜3の整数を表わす〕の基
を表わすようなものが特に有利である。他の適当
なアシル基の例は、式R1−CO−〔式中R1は水素、
メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロ
ピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、第二ブチ
ル−または第三ブチル基またはα−またはβ−ナ
フチル基を表わす〕で示される基である。これは
有利にはアシル基であるが、適当なアシル基はこ
れに限定されていない。 アシル基は、容易に自体公知の方法で、たとえ
ば水素化リチウムアルミニウムを用いるカルボニ
ル基の水素化により、相当するアルキル−ないし
はアリールアルキル基に変えることができる。特
に有利なアルキル−ないしアリールアルキル誘導
体は、式()中Rがメチル基、エチル基または
ベンジル基を表わすようなものである。ピロリジ
ンの窒素原子における他の適当なアルキル−ない
しアリールアルキル置換基の例は、n−プロピル
基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル
基、n−ペンチル基、2−および3−メチルブチ
ル基、2,2−ジメチルプロピル基またはナフト
メチル基である。しかし他のアルキル−ないしは
アリールアルキル基も適当である。 このようにして得られる、式()の光学活性
化合物は、中心原子としてロジウムを含有する金
属錯体中のカイラル配位子として使用できる。 従つて、本発明の化合物は、式: 〔Rh(en)2A〕+X- () 〔式中(en)2はモノオレフインの2つの分子ま
たはジオレフインの1つの分子を表わし、Aは式
()の光学活性3,4−ビス−(ジフエニルホス
フイノ)−ピロリジンを表わし、X-はテトラフル
オロホウ酸陰イオン、ヘキサフルオロリン酸陰イ
オンまたは過塩素酸陰イオンを表わす〕で示され
るロジウム錯体中のカイラル配位子である。 式()のロジウム錯体に適したモノオレフイ
ンは、たとえばエチレンまたはシクロオクテンで
ある。適当なジオレフインは、たとえば1,3−
ブタジエン、1,5−シクロオクタジエンまたは
ノルボルナジエンである。分子が1,5−シクロ
オクタジエンを含有する式()のロジウム錯体
がとくに有利である。 ロジウム錯体は、式()の化合物と、式: 〔Rh(en)2Y〕2 () 〔式中(en)2は既述したものを表わし、Yは塩
素、臭素またはヨウ素を表わす〕で示されるロジ
ウム錯体およびテトラフルオロホウ酸、ヘキサフ
ルオロリン酸または過塩素酸のアルカリ金属塩ま
たは銀塩との反応により製造することができる。 式中(en)2が1分子の1,5−シクロオクタジ
エンを表わし、X-がテトラフルオロホウ酸陰イ
オンを表わす式()のロジウム錯体は、式
()の化合物を 式〔Rh(COD)2〕+BF4 - () 〔式中CODは1,5−シクロオクタジエンを
表わす〕のロジウム錯体と反応させることによつ
ても特に容易な方法で製造できる。 最後に、本発明の化合物は、触媒として式
()のロジウム錯体を使用する、光学活性α−
アシルアミノカルボン酸の製法で使用できる。 不斉水素化の原料としてはたとえば 一般式: のα−アシルアミノ−アクリル酸およびその誘導
体が使用できる。この式中、R1は水素、アルカ
リ金属または1〜4、特に1〜2の炭素原子を有
する低級アルキル基を表わし、R2は1〜4、特
に1〜2の炭素原子を有する低級アルキル基また
はフエニル基を表わす。R3およびR4は同じかま
たは異なつていてよく、水素、1〜10の炭素原子
を有する直鎖または分枝アルキル基、非置換フエ
ニル基または3−および/または4−位がヒドロ
キシル基、アルコキシ基またはアシルオキシ基に
より置換されたフエニル基または非置換かまたは
6−位がメチル基または塩素により置換されたイ
ンドーリル基を表わしていてよい。 不斉水素基により、上述のプロカイラル原料を
相当する光学活性α−アシルアミノカルボン酸に
変換し、これを自体公知の方法で相当するα−ア
ミノカルボン酸にケン化することができる。使用
されたロジウム錯体中に含有されている本発明に
よる、式の光学活性3,4−ビス−(ジフエニ
ルホスフイノ)−ピロリジンは、最初(+)−酒石
酸から製造した場合には、大過剰に光学活性α−
アシルアミノカルボン酸のL−エナンチオマーが
生じ、それとは異なり(−)−酒石酸から出発し
た場合には、大過剰にD−エナンチオマーが生じ
た。双方の場合に、所望のエナンチオマーは、光
学的にほぼ完全に純粋に得ることができる。 水素化は水素化に常用の溶剤たとえばアルコー
ルおよびエーテルまたはそれと脂肪族または芳香
族炭化水素または水との混合物中で行なわれる。
原料濃度は、0.001モル溶液から原料の飽和溶液
にまで達しうる。水素圧は常圧からほぼ80バール
の間にあり、反応温度は−20℃から+50℃の間で
あつてよい。特に、水素化は室温で実施する。式
()の化合物をカイラル配位子として含有する
ロジウム錯体は、有利に原料対触媒のモル比が
1:1〜50000:1、特に500:1〜15000:1の
範囲内にあるような量で使用される。 本発明による光学活性3,4−ビス−(ジフエ
ニルホスフイノ)−ピロリジンおよびこれをカイ
ラル配位子として含有するロジウム錯体の酸素に
対する敏感性のために、全反応を保護ガス雰囲気
中、たとえば窒素またはアルゴン下に実施し、そ
のつどの反応生成物も保護ガス下に保存するのが
有利である。その他に、水素化を嫌気性条件下に
実施するのも有利である。 本発明を次の実施例につき詳述するが、これに
限定されるものではない。 実施例 例 1 a 1−ベンジル−2,5−ジオキソ−3,4
−(R,R)−ジヒドロキシピロリジンの製造: L−酒石酸90g(0.6モル)にベンジルアミン
64.2g(0.6モル)を加え、撹拌しながら170℃に
加熱した。その際、反応水が蒸発した。約30分後
褐色の液体が固化し、これになお約20分間真空を
かけた。冷却した後、なお温かい晶泥をエタノー
ルで浸漬し、一晩中放置した。結晶を吸引濾過
し、エタノールで後洗浄し、エタノールから再結
晶した。 収量:126g(理論値の95%に相当)。 融点:196〜198℃(理論値:196℃)。 b 1−ベンジル−3,4−(S,S)−ジヒドロ
キシ−ピロリジンの製造: 水素化リチウムアルミニウム12g(0.32モル)
をKOH上で乾燥したジエチルエーテル500ml中に
窒素下に溶解した。この溶液に室温で、a)によ
り製造した1−ベンジル−2,5−ジオキソ−
3,4−(R,R)−ジヒドロキシ−ピロリジン15
g(0.068モル)を1度に添加した。35℃で2日
間撹拌した後−18℃に冷却し、および徐々に水12
mlを滴加した。その際激しく水素が発生した。引
続き、−10℃で3.75M−カ性ソーダ溶液12mlを滴
加し、最後に0℃で水25mlを滴加した。反応混合
物を撹拌しながら、室温に昇温させ、水酸化アル
ミニウムを濾別し、ソツクスレー抽出器中4日間
濾液を抽出した。 その後、エーテルを回転蒸発器中で蒸発し去
り、残渣を酢酸エステル50mlにとつた。−18℃に
冷却した後に沈殿した結晶を吸引濾過し、酢酸エ
ステル/リグロイン(1:1)で洗浄し、真空中
で乾燥した。収量:9.3g(理論値の71%)。融点
100℃。 〔α〕RT D=+32.4゜(C=4.31、CH3OH) 元素分析:C11H15NO2(193.25) C% H% N% 計算値: 68.36 7.82 7.25 実測値: 68.84 7.87 7.14 c 3,4−(S,S)−ジヒドロキシ−ピロリジ
ンの製造: b)により製造した1−ベンジル−3,4−
(S,S)−ジヒドロキシ−ピロリジン3.86g(20
ミリモル)をエタノール70ml中に溶解し、活性炭
上のパラジウム(10%Pd)0.5gを加えおよび1
バールの水素圧下に水素化した。理論的水素量の
吸収後、触媒を濾別し、濾液を真空中で蒸発乾凅
した。残渣を高度真空中で昇華した(浴温100℃、
圧力1.3・10-4ミリバール)。収量:1.93g(理論
値の94%)。融点:101〜103℃。 〔α〕RT D=+24.9゜(c=2.13、エタノール) 元素分析:C4H9NO2(103.12) C% H% % 計算値: 46.59 8.80 13.58 実測値: 46.84 9.11 13.58 d 1−tert.ブチルオキシカルボニル−3,4−
(S,S)−ジヒドロキシ−ピロリジンの製造: c)により製造した3,4−(S,S)−ジヒド
ロキシ−ピロリジン4.30g(41.7ミリモル)をエ
タノール80ml中に溶解し、0℃に冷却した。この
溶液にジ−tert.ブチル−ジカルボネート10.34g
(47.4ミリモル)を添加し、一晩中撹拌した。そ
の後1時間50℃に加熱し、引続き溶剤を真空中で
蒸留した。残渣を酢酸エステル71mlおよびトルオ
ール173ml中で加熱沸騰させ、次いで放冷した。−
20℃で12時間放置した後、析出した結晶を吸引濾
過し、トルオールで2回後洗浄し、乾燥した。収
量:7.30g(理論値の86%)。融点:163〜165℃。 〔α〕RT D=−21.9゜(c=3.065、CH3OH) 元素分析:C9H17NO4(203.24) C% H% N% 計算値: 53.19 8.43 6.89 実測値: 53.49 8.31 6.85 1H−NMR(CD3OD)δ(ppm):4.03,m,2H,
(2×CH−OH)3.20〜3.62,m,4H(2×CH
2)1.46,S,9H(3×CH 3) e 1−tert.ブチルオキシカルボニル−3,4−
(S,S)−ジメタンスルホニル−ピロリジンの製
造: d)により製造した1−tert.ブチルオキシカル
ボニル−3,4−(S,S)−ジヒドロキシ−ピロ
リジン12.18g(59.9ミリモル)を無水クロロホ
ルム150ml中に溶解した。この溶液に無水ピリジ
ン10.6ml(131ミリモル)を加え、−50℃に冷却し
た。次いで、無水メタンスルホン酸25g(143.5
ミリモル)を1回で添加し、すぐに−60℃に冷却
した。反応混合物を徐々に室温に昇温させ、24時
間後撹拌した。生じた帯褐色の懸濁液に塩化メチ
レン300mlを加え、それぞれH2O50mlおよび2N−
塩酸5mlの氷冷混合物で3回振出した。その後、
それぞれ50mlで2回洗浄し、MgSO4上で乾燥し
た。溶剤を真空中で蒸留し、残渣を高度真空中で
乾燥した。収量:粗生成物22.23g(理論値の100
%)、このものはなお痕跡のクロロホルムおよび
塩化メチレンを含有し、さらに精製することなし
に次の工程に使用した。 f 3,4−(S,S)−ジメタンスルホニル−ピ
ロリジン臭化水素酸塩の製造: e)により得られた粗1−tert.ブチルオキシカ
ルボニル−3,4−(S,S)−ジメタンスルホニ
ル−ピロリジン22.23g(59.9ミリモル)を軽い
加熱下に酢酸エステル250ml中に溶解した。少量
の不溶分を濾別し、酢酸エステル50mlで洗浄し
た。合した濾液を−10℃に冷却し、氷酢酸中の
HBr−溶液(40%HBr)18mlを加えた。30秒後、
白色の沈殿物が沈殿しはじめた。反応混合物を室
温で放置し、24時間に後撹拌した。その後、沈殿
物を吸引濾過し、窒素下に無水エーテルで3回洗
浄し、高度真空中で乾燥した。収量:19.11g
(理論値の94%)。 元素分析:C6H14BrNO6S2(340.22) C% H% N% S% 計算値: 21.18 4.15 4.12 18.85 実測値: 21.80 4.11 4.27 18.52 g 3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホス
フイノ)−ピロリジン塩酸塩の製造 ナトリウムジフエニルホスフイド・2ジオキサ
ン10.56g(27.5ミリモル)を無水ジメチルホル
ムアミド60ml中に溶解した。溶液を−35℃に冷却
しf)により製造した3,4−(S,S)−ジメタ
ンスルホニル−ピロリジン臭化水素酸塩2.6g
(7.6mモル)を1度に加えた。次いで、浴温を−
12℃に高めおよび15時間撹拌した。反応混合物を
室温に昇温させ、溶剤を浴温20℃で高度真空中で
除去した。赤色の残渣にガス抜きされた水50mlを
加え、水溶液をエーテル35mlで1回およびエーテ
ル15mlで2回抽出した。合したエーテル相に
0.8M−塩酸40mlを加え、15時間激しく撹拌した。
沈殿した塩酸塩を吸引濾過し、水およびエーテル
で後洗浄し、50℃で高度真空中で乾燥した。収
量:3.12g(理論値の80%)。融点:184〜186℃。 〔α〕RT D=+170゜(C=2.8、エタノール99%) 元素分析:C28H28ClNP2(475.94) C% H% N% 計算値: 70.66 5.93 2.94 実測値: 70.55 6.09 2.83 31P−NMR(CD3OD/CH3OH)δ(ppm):−
15.28,s, 1H−NMR(CD3OD)δ(ppm):7.6
〜7.1,m,20H4.1〜3.6,m,2H3.1,m,4H h 3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホス
フイノ)−ピロリジンの製造: g)により製造した3,4−(R,R)−ビス−
(ジフエニルホスフイノ)−ピロリジン塩酸塩
0.708g(1.49ミリモル)を窒素下に、KOH230mg
(4.1ミリモル)を含有する水20ml中1時間撹拌し
た。その後、エーテル各々20mlで3回抽出し、合
したエーテル相をMgSO4上で乾燥し、高度真空
中でエーテルを除去した。収量:0.644g(理論
値の98.3%)。 元素分析:C28H27NP2(439.48) C% H% N% 計算値: 76.52 6.19 3.19 実測値: 76.67 6.13 3.21 1H−NMR(CD2Cl)δ(ppm):7.08〜7.56,m,
20H(フエニル)3.12〜3.50,m,2H(P−C−
H)1.83(広幅),1H(N−H)2.73〜3.00,m,
4H(C−CH 2−N) 〔α〕RT D=+153゜(C=2.35、エタノール99%) 例 2: 〔(3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホス
フイノ)−ピロリジン)(COD)Rh〕BF4の製
造: 〔Rh(COD)2〕BF4574mg(1.45ミリモル)を無
水塩化メチレン5ml中に溶解した。溶液を−30℃
に冷却し、無水塩化メチレン20ml中の、例1h)
により製造した3,4−(R,R)−ビス−(ジフ
エニルホスフイノ)−ピロリジン638mg(1.45ミリ
モル)の溶液を加えた。−30℃で5分間撹拌した
後、冷却浴を除去し、室温に達した後、高度真空
中で約5mlに濃縮した。無水エーテル25mlの添加
により黄色の粉末としてロジウム錯体が沈殿し
た。収量:1.048g(理論値の98.03%)。 元素分析:C36H39NP2RhBF4(737.37) C% H% N% 計算値: 58.64 5.33 1.89 実測値: 58.67 5.51 1.86 31P−NMR(CD2Cl2/CH2Cl2)δ(ppm):
28.17,d1JRh-P=148Hz 例 3 例2により製造したロジウム錯体を用いる水素
化 a 磁気往復動撹拌機を備えた0.5の鋼製オー
トクレーブ中へ、α−アセトアミドケイ皮酸
51.3gを採取した。オートクレーブを密閉し、
排気した。その後ロジウム錯体23mgを無水メ
タノール250ml中の溶液としてオートクレーブ
中へ吸引した。H2で十分に洗浄した後、H2を
60バール圧力まで圧入し、オートクレーブを50
℃に加熱し、撹拌機を動かした。20時間後に
H2吸引は終了し、圧力は40バールに低下した。
オートクレーブを空にし、メタノールを蒸留し
た。触媒の除去のために、残渣をクロロホルム
で洗浄し、引続き乾燥した。変換率:100%、
N−アセチル−L−フエニルアラニンの収量:
51.2g(理論値の98.8%)融点169℃ 〔α〕RT D=+45.5゜(c=1,エタノール95%)
(基準値〔α〕RT D=+47.5゜における95.8%の光学
収率に相当)。 b a)と同様に、0.1の鋼製オートクレーブ
中で、α−アセトアミドケイ皮酸1.04gをロジ
ウム錯体6.3mgの存在で水素化した。 溶剤:メタノール30ml H2初圧:50バール 水素化温度:室温 水素化時間:15時間 変換率:100% 光学収率:97.5% 例 4 1−ベンゾイル−3,4−(R,R)−ビス−
(ジフエニルホスフイノ)−ピロリジンの製造: 例1g)により製造した3,4−(R,R)−ビ
ス−(ジフエニルホスフイノ−ピロリジン)塩醸
塩559mg(1.1ミリモル)を窒素下に水15ml中に懸
濁し、水10ml中の水酸化カリウム1.5g(27ミリ
モル)の溶液を加えた。遊離塩基をトルオール
各々25mlで2回抽出した。合した抽出物を硫酸マ
グネシウム上で乾燥した。濾過した後トリエチル
アミン1ml(7ミリモル)および引続き塩化ベン
ゾイル0.27ml(2.3ミリモル)を添加した。1時
間撹拌した後、水50mlを添加し、相を分離した。
有機相を0.5M−カ性ソーダ溶液、水、NaH2PO4
の10%水溶液および最後に再び水で洗浄した。ト
ルオール溶液をMgSO4上で乾燥し、10mlに濃縮
し、n−ヘキサンの添加により1−ベンゾイル−
3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホスフイ
ノ)−ピロリジンが沈殿した。これを吸引濾過し、
n−ヘキサンで洗浄し、高度真空中で乾燥した。
収量:527mg(理論値89%)。融点:180〜182℃
(高度真空中で溶融)。 元素分析:C33H31NOP2(543.59) C% H% N% 計算値: 77.34 5.75 2.58 実測値: 77.73 5.29 2.63 〔α〕RT D=+153゜(c=2.84,トルオール) 例 5 〔(1−ベンゾイル−3,4−(R,R)−ビス
−(ジフエニルホスフイノ)−ピロリジン)
(COD)Rh〕BF4の製造: [(Ph(COD)2]BF40.20g(0.5ミリモル)お
よび例4により製造した1−ベンゾイル−3,4
−(R,R)−ビス−(ジフエニルホスフイノ)−ピ
ロリジン0.272gを塩化メチレン25ml中で2時間
撹拌した。その後、真空中で2mlに濃縮し、−30
℃に冷却し、テトラヒドロフランおよびジエチル
エーテルから成る混合物(容量比1:2)を添加
した。黄色の沈殿物を室温で吸引濾過し、エーテ
ルで洗浄した。引続き、ロジウム錯体をメタノー
ルからエーテルで再沈した。収量:0.383g(理
論値の91%)。 元素分析:C43H43NOP2RhBF4(841.48) C% H% N% 計算値: 61.38 5.15 1.66 実測値: 61.94 5.06 1.56 例 6 例5により製造したロジウム錯体を用いる水素
化: 水素化を例3と同様に実施した。 a反応容器:0.5の鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
20.5g ロジウム錯体の使用量:46mg 溶剤:メタノール200ml H2初圧:20バール 水素化温度:25〜28℃ 水素化時間:2時間 変換率:100% 光学収率:97.5% b反応容器:0.5の鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
102.5g ロジウム錯体の使用量:50mg 溶剤:メタノール260ml H2初圧:55バール 水素化温度:22℃ 水素化時間:14時間 H2終圧:45バール 変換率:100% 光学収率:98.9% c反応容器:磁気撹拌機およびガス導入装置を有
する0,1−エルレンマイヤーフラスコ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
1.15g ロジウム錯体の使用量:29mg 溶剤:メタノール10ml H2圧:1バール(ガス計量器から) 水素化温度:50℃ 水素化時間:4時間 変換率:100% 光学収率:95.0% d反応容器:0.1−鋼オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
2.05g ロジウム錯体の使用量:1mg 溶剤:メタノール30ml H2初圧:47バール 水素化温度:室温 水素化時間:19時間 変換率:100% 光学収率:99.0% e反応容器:0.1−鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
3.25g ロジウム錯体の使用量:1.3mg 溶剤:メタノール25ml H2初圧:60バール 水素化温度:室温 水素化時間:20時間 変換率:98% 光学収率:96.0% f反応容器:0.1−鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
2.1g ロジウム錯体の使用量:9.9mg 溶剤:空気飽和されたメタノール25ml H2初圧:47バール 水素化温度:室温 水素化時間:0.5時間 変換率:100% 光学収率:98.0% g反応容器:磁気撹拌機およびガス供給装置を備
えた0.1のエルレンマイヤーフラスコ 使用された原料:α−ベンズアミドケイ皮酸
1.28g ロジウム錯体の使用量:17.8mg 溶剤:テトラヒドロフラン15ml H2圧:1バール(Gasometerから) 水素化温度:室温 水素化時間:40時間 生成物:N−ベンゾイル−L−フエニルアラニ
ン 変換率:100% 光学収率:94.4% h反応容器:0.1の鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミド−β−(4
−ヒドロキシフエニル)−アクリル酸1.1g ロジウム錯体の使用量:5.0mg 溶剤:メタノール50ml H2初圧:65バール 水素化温度:室温 水素化時間:24時間 生成物:N−アセチル−L−チロシン 変換率:100% 光学収率:97.0% i反応容器:0.1の鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミド−β−(3
−メトキシ−4−ヒドロキシフエニル)−アク
リル酸1.25g ロジウム錯体の使用量:5.0mg 溶剤:メタノール50ml H2初圧:65バール 水素化温度:室温 水素化時間:24時間 生成物:N−アセチル−L−(3−メトキシ−
4−ヒドロキシフエニル)−アラニン 変換率:100% 光学収率:100% j反応容器:0.1の鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミド−β−(4
−メトキシシフエニル)−アクリル酸1.1g ロジウム錯体の使用量:5.0mg 溶剤:メタノール50ml H2初圧:65バール 水素化温度:室温 水素化時間:15時間 生成物:N−アセチル−L−(4−メトキシフ
エニル)−アラニン 変換率:80% 光学収率:100%(変換率に対し修正) k反応容器:0.1の鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミド−β−(3,
4−メチレンジオキシフエニル)−アクリル酸
1.0mg ロジウム錯体の使用量:5.0mg 溶剤:メタノール50ml H2初圧:55バール 水素化温度:室温 水素化時間:15時間 生成物:N−アセチル−L−(3,4−メチレ
ンジオキシフエニル)−アラニン 変換率:100% 光学収率:93.0% 例 7 1−tert.ブチルオキシカルボニル−3,4−
(R,R)−ビス−(ジフエニルホスフイノ)−ピ
ロリジンの製造: 例1g)により製造した3,4−(R,R)−ビ
ス−(ジフエニルホスフイノ)−ピロリジン塩酸塩
0.78g(1.64ミリモル)をクロロホルム20ml中に
溶解した。次いで、窒素下に水20ml中の炭酸水素
ナトリウム0.23g(2.73ミリモル)および食塩
0.41g(7.01ミリモル)の溶液を添加した。ガス
発生の終了後、クロロホルム10ml中のジ−tert.ブ
チルジカルボネート0.40g(1.83ミリモル)溶液
を添加し、50℃で1.5時間撹拌した。室温に冷却
した後、さらに12時間撹拌した。引続き、有機相
を分離し、クロロホルムを蒸留した。残渣をジエ
チルエーテル10ml中にとり、メタノール10mlおよ
び水5mlから成る混合物の添加により、1−tert.
ブチルオキシカルボニル−3,4−(R,R)−ビ
ス−(ジフエニルホスフイノ)−ピロリジンが、ゲ
ル状の白色沈殿物として沈殿した。生成物を吸引
濾過し、高度真空中で乾燥した。 元素分析:C33H33NO2P2(539.58) C% H% N% 計算値: 73.45 6.53 2.59 実測値: 73.22 6.81 2.57 31P−NMR(CD2Cl2/CH2Cl2)δ(ppm):−
11.63、s 1H−NMR(d6−アセトン)δ(ppm):7.24〜
7.55,m,20H2.93〜4.04,若干のm,6H,環の
すべての陽子1.38,s,9H,−CH 3 IR:ν(c=0):1692cm-1 〔α〕RT D=+125゜(c=3.6,トルオール) 例 8 〔(1−tert.ブチルオキシカルボニル−3,4
−(R,R)−ビス−(ジフエニルホスフイノ−
ピロリジン)(COD)Rh〕BF4の製造: 無水塩化メチレン10ml中の〔Rh(COD)2〕
BF4249mg(0.16ミリモル)の溶液に、−20℃で、
例7により製造した1−tert.ブチルオキシカルボ
ニル−3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホ
スフイノ)−ピロリジン338mg(0.63ミリモル)を
添加し、反応混合物を室温で一晩中撹拌した。溶
剤を留去した後、生成物をメタノール5mlにと
り、ジエチルエーテル10mlの添加によりロジウム
錯体を沈殿させた。収量:456mg(理論値の89.4
%) 元素分析:C41H47NO2P2RhBF4(837.49) C% H% N% 計算値: 58.79 5.65 1.67 実測値: 58.55 5.67 1.53 31P−NMR(CD2Cl2/CH2Cl2)δ(ppm):33.231 JRh-P=149.9Hz 例 9 例8により製造したロジウム錯体を用いる水素
化: 水素化は例3のように実施した。 a反応容器:0.5−鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
51.3g ロジウム錯体の使用量:26.2mg 溶剤:メタノール250ml H2初圧:60バール 水素化温度:17℃ 水素化時間:17時間 H2終圧:40バール 変換率:100% 光学収率:97.7% b反応容器:0.1鋼製オートクレーブ 使用した原料:α−アセトアミドケイ皮酸1.03
g ロジウム錯体の使用量:4.0mg 溶剤:メタノール25ml H2初圧:50バール 水素化温度:室温 水素化時間:20時間 変換率:100% 光学収率:99.6% c反応容器:0.1−鋼製オートクレーブ 使用した原料:α−ベンズアミド−β−(3−
インドーリル)−アクリル酸1.44g ロジウム錯体の使用量:3.5mg 溶剤:メタノール25ml(基質は懸濁液で存在す
る) H2初圧:50バール 水素化温度:室温 水素化時間:20時間 生成物:N−ベンゾイル−L−トリプトフアン 変換率:100% 光学収率:81.0% d反応容器:0.1−鋼製オートクレーブ 使用した原料:α−アセトアミド−β−(3−
メトキシ−4−ヒドロキシフエニル)−アクリ
ル酸1.73g ロジウム錯体の使用量:5.8mg 溶剤:メタノール25ml H2初圧:50バール 水素化温度:室温 水素化時間:20時間 生成物:N−アセチル−L−(3−メトキシ−
4−ヒドロキシフエニル)−アラニン 変換率:100% 光学収率:97%より上 例 10 1−(β−メトキシエトキシアセチル)−3,4
−(R,R)−ビス−(ジフエニルホスフイノ)−
ピロリジンの製造 無水塩化メチレン20ml中の、例1g)により製
造した3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホ
スフイノ)−ピロリジン−塩酸塩0.65g(1.36mモ
ル)の溶液にピロリジン0.23ml(2.8ミリモル)
を添加した。−40℃に冷却した後、(β−メトキシ
エトキシ)−酢酸クロリド0.52g(3.4ミリモル)
を添加した。反応混合物を室温に昇温させ、週末
にかけて撹拌した。ジエチルエーテルの添加によ
り、1−(β−メトキシエトキシアセチル)−3,
4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホスフイノ)−
ピロリジンが油状物として生じ、これはジエチル
エーテル中での4日間撹拌した際に白色の粉末に
変化した。粗生成物を塩化メチレン溶解し、2N
−HClで抽出した。塩化メチレンを蒸留し、残渣
をエタノールにとり、水で沈殿させた。非常に吸
湿性の物質を、数日間高度真空中で乾燥した。収
率:理論値の75%。 元素分析:C33H35NO3P2・0.5H2O(564.61) C% H% N% 計算値: 70.20 6.43 2.48 実測値: 70.08 6.43 2.41 31P−NMR(CD2Cl2)δ(ppm):−10.17,s 1H−NMR(CD2Cl2)δ(ppm):7.13〜7.60,
m,20H,フエニル3.98,s,2H,>N−COCH
2−O−3.31,s,3H,−OCH 3,3.0−4.1,若干
のm,15H,フエニル以外の全てのプロトン 〔α〕RT D=+111±10゜(c=2.9,トルオール) 例 11 〔(1−(β−メトキシエトキシアセチル)−3,
4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホスフイノ)
−ピロリジン)(COD)Rh〕BF4の製造 無水塩化メチレン10ml中の〔Rh(COD)2〕
BF4398mg(0.96ミリモル)の溶液に、−30℃で、
例10により製造した1−(β−メトキシエトキシ
アセチル)−3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニ
ルホスフイノ)−ピロリジン561mg(1.00ミリモ
ル)を塩化メチレン10ml中の溶液として滴加し
た。室温で1晩中撹拌した後、塩化メチレンを高
度真空中で蒸留し、残渣をメタノール10ml中にと
り、ロジウム錯体をジエチルエーテルの添加によ
り沈殿させた。遠心分離した後、錯体をジエチル
エーテルで洗浄し、高度真空中で乾燥した。錯体
は 31P−NMR(および 1H−NMRにより特性を
調べた: 31P−NMR(CD2Cl2)δ(ppm):35.23,d,
JRh-P=149.1Hz,35.44,d,JRh-P=149.6Hz 1H−NMR(CD2Cl2)δ(ppm):7.60〜8.04,
m,フエニル5.2および4.6,広幅,CODのオレフ
イン性プロトン,3.85,s,>N−CO−CH 2−
O−,3.41,m,−O−CH 2−O−,3.17,s,−
O−CH 3,2.15〜3.85,若干のm,全ての環プロ
トンおよび非オレフイン性COD−プロトン 例 12 例11により製造したロジウム錯体を用いる水素
化: 水素化を例3と同様に実施した: a反応容器:0.5の鋼製オートクレーブ 使用した原料:α−アセトアミドケイ皮酸51.3
g ロジウム錯体の使用量:26.7mg 溶剤:メタノール250ml H2初圧:60バール 水素化温度:17℃ 水素化時間:17時間 H2終圧:40バール 変換率:100% 光学収率:96.8% b反応容器:0.1の鋼製オートクレーブ 使用した原料:α−アセトアミドケイ皮酸1.0
g ロジウム錯体の使用量:4.2mg 溶剤:メタノール25ml H2初圧:50バール 水素化温度:室温 水素化時間:20時間 変換率:100% 光学収率:98.7% 例 13 1−(β−メトキシエトキシエトキシエトキシ
アセチル)−3,4−(R,R)−ビス−(ジフエ
ニルホスフイノ)−ピロリジンの製造: 無水塩化メチレン20ml中の、例1g)により製
造した3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホ
スフイノ)−ピロリジン−ヒドロクロリド1.04g
(2.18ミリモル)の溶液に、ピロリジン0.35ml
(4.36ミリモル)を添加した。溶液を−35℃に冷
却し、(β−メトキシエトキシエトキシエトキシ)
−酢酸クロリド0.55g(2.22ミリモル)を添加し
た。室温に加熱し、一晩中撹拌した後、溶剤を蒸
留し、残渣をエタノール10mlにとり、n−ペンタ
ンにより1−(β−メトキシエトキシエトキシエ
トキシアセチル)−3,4−(R,R)−ビス−(ジ
フエニルホスフイノ)−ピロリジンを油状物とし
て析出させた。この油状物を分離し、新たにn−
ペンタンを加え、−40℃に撹拌し、最後に−25℃
で一週間放置した。粘稠な油状物の結晶化が行な
われなかつたので、n−ペンタンが注ぎ出し、残
渣を高度真空中で乾燥した。粗生成物を塩化メチ
レンに溶解し、2NHClで抽出した。塩化メチレ
ンを蒸留し、残渣をエタノールにとり、水で沈殿
させた。非常に吸湿性の物質を、数日間高度真空
中で乾燥した。収率:理論値の96%。生成物を
31P−NMRおよび 1H−NMRにより特性を調べ
た: 31P−NMR(CD2Cl2)δ(ppm):−10.17 1H−NMR(CD2Cl2)δ(ppm):7.10〜7.52,
m,20H,フエニル,3.99,s,2H,>N−CO−
CH 2−,3.59,狭幅,12H,−O−,CH 2−CH
2−O−,3.55,s,3H,−O−CH 3,2.99〜
4.19,m,フエニルを除く全てのプロトン 例 14 〔(1−(β−メトキシエトキシエトキシエトキ
シアセチル)−3,4−(R,R)−ビス−(ジフ
エニルホスフイノ)−ピロリジン)(COD)
Rh〕BF4の製造: 塩化メチレン10ml中の〔Rh(COD)2〕BF4362
mg(0.89ミリモル)の溶液に、塩化メチレン5ml
およびエタノール5ml中の例13により製造した1
−(β−メトキシエトキシエトキシエトキシアセ
チル)−3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホ
スフイノ)−ピロリジン524mg(0.84ミリモル)の
溶液を添加し、反応混合物を室温で1晩中撹拌し
た。その際少量の白色沈殿が生じ、これを濾別し
た。濾液からジエチルエーテルの添加によりロジ
ウム錯体を、沈殿させた。収率:理論値の79%。
錯体を 31P−NMRおよび 1H−NMRにより特性
を調べた: 31P−NMR(CD2Cl2)δ(ppm):33.59,d,JRh
−P=149.6Hz33.27,d,JRh-P=149.0Hz 1H−NMR(CD2Cl2)δ(ppm):7.43〜7.95,
m,フエニル,5.1および4.5,広幅,CODのオレ
フイン性プロトン、3.77,s,−CO−CH 2,
3.39,m,−O−CH 2−CH 2−O−,3.20,s,
−O−CH 3,1.68〜3.77,若干のm,全ての環プ
ロトンおよび非オレフイン性COD−プロトン 例 15 例14により製造したロジウム錯体を用いる水素
化: 水素化は例3と同様に実施した。 a反応容器:0.5の鋼製オートクレーブ 使用した原料:α−アセトアミドケイ皮酸51.3
g ロジウム錯体の使用量:29.4mg 溶剤:メタノール250ml H2初圧:60バール 水素化温度:50℃ 水素化時間:18時間 H2終圧:40バール 変換率:100% 光学収率:96.4% b反応容器:0.5の鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
51.3g ロジウム錯体の使用量:14.7mg 溶剤:メタノール250ml H2初圧:60バール 水素化温度:50℃ 水素化時間:24時間 H2終圧:40バール 変換率:89% 光学収率:98.4%(変換率に対し修正) c反応容器:0.1の鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
1.0g ロジウム錯体の使用量:3.4mg 溶剤:メタノール25ml H2初圧:50バール 水素化温度:室温 水素化時間:20時間 変換率:100% 光学収率:97.7% 例 16 1−ベンジル−3,4−(R,R)−ビス−(ジ
フエニルホスフイノ)−ピロリジンの製造 無水テトラヒドロフラン25ml中の、例4により
製造した1−ベンジル−3,4−(R,R)−ビス
−(ジフエニルホスフイノ)−ピロリジン544mg
(1mモル)の溶液を、無水テトラヒドロフラン25
ml中の水素化リチウムアルミニウム1g(0.025
ミリモル)の溶液に滴加し、反応混合物を一晩中
撹拌した。その後水1ml、3.75M−カ性ソーダ溶
液1mlおよび最後にさらに水3mlを滴加した。反
応混合物を濾過し、濾液から溶剤を真空中で留去
した。残渣をトルオールにとり、n−ペンタンの
添加によりN−ベンジル誘導体を沈殿させ、吸引
濾過しおよび乾燥した。収率:0.43g(理論値の
81%)。 元素分析:C35H33NP2(529.60) C% H% N% 計算値: 79.38 6.28 2.64 実測値: 79.61 6.35 2.59 例 17 〔(1−ベンジル−3,4−(R,R)−ビス−
(ジフエニルホスフイノ)−ピロリジン)
(COD)Rh〕BF4の製造: 塩化メチレン25ml中の、〔Rh(COD)2〕BF40.20
g(0.5mモル)および例16により製造した1−
ベンジル−3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニ
ルホスフイノ)−ピロリジン0.265g(0.5ミリモ
ル)の溶液を、2時間撹拌した。次いで、真空中
で2mlに濃縮し、ロジウム錯体をジエチルエーテ
ルの添加により沈殿させ、吸引濾過し、乾燥し
た。収量:0.376g(理論値の91%)。 元素分析:C43H45NP2RhBF4(827.5) C% H% N% 計算値: 62.41 5.48 1.69 実測値: 62.38 5.55 1.68 例 18 例17により製造したロジウム錯体を用いて例3
と同様にα−アセトアミドケイ皮酸を水素化し
た。 反応容器:0.1−鋼製オートクレーブ 原料の使用量:2.05g ロジウム錯体の使用量:4.1mg 溶剤:メタノール30ml H2初圧:47バール 水素化温度:室温 水素化時間:16時間 変換率:100% 光学収率:96.0%
ニルホスフイノ)−ビロリジンに関する。 従来の技術 ケミストリー タース(Chemistry Lette−
rs)1983年、第1203〜1206ページから式: 〔式中Arはフエニル基または4−メトキシフ
エニル基を表わし、Rはアルキル基またはω−ジ
メチルアミノアルキル基を表わす〕で示される光
学活性ピロリジン誘導体は公知である。このピロ
リジン誘導体は、デヒドロジペプチドの不斉水素
化用触媒として推奨されるロジウム錯体における
カイラル配位子として使用できる。しかし、α−
アセトアミドケイ皮酸の不斉水素化の際、この公
知のロジウム錯体の立体選択性はわずかにすぎ
ず、従つてまた低い光学収率しか達成されない。 問題点を解決するための手段 本発明の第1の対象は、一般式: 式中Phはフエニル基を表わし、Rは水素、ア
ルキル基、アリールアルキル基またはベンゾイル
基、t−ブチルオキシカルボニル基、式CH3−O
−(CH2−CH2−O)n−CH2−CO−(その際n
は0〜3の整数を表わす)の基または式R1−CO
−(その際R1は水素、メチル−、エチル−、n−
プロピル−、i−プロピル−、n−ブチル−、i
−ブチル−、第二ブチル−、第三ブチル基または
α−またはβ−ナフチル基を表わす)の基を表わ
す]で示される光学活性3,4−ビス−(ジフエ
ニルホスフイノ)−ピロリジンである。 基礎物質、つまり3,4−ビス−(ジフエニル
ホスフイノ)−ピロリジン自体は、光学活性酒石
酸をベンジルアミノと縮合させて1−ベンジル−
2,5−ジオキソ−3,4−ジヒドロキシピロリ
ジンにし、これを水素化リチウムアルミニウムを
用いて1−ベンジル−3,4−ジヒドロキシピロ
リジンに還元し、これから触媒水素化によりベン
ジル基を脱離し、得られる3,4−ジヒドロキシ
ピロリジンをジ−tert.ブチルジカルボネートを用
いて1−tert.ブチルオキシカルボニル−3,4−
ジヒドロキシピロリジンにアシル化し、これを無
水メチルスルホン酸を用いて1−tert.ブチルオキ
シカルボニル−3,4−ジメチルスルホニルピロ
リジンに変換し、これを氷酢酸溶液中の臭化水素
を用いて3,4−ジメチルスルホニルピロリジン
臭化水素酸塩に変え、最後にこれをアルカリ金属
ジフエニルホスフイドと反応させて3,4−ビス
−(ジフエニルホスフイノ)−ピロリジンにし、こ
れを塩酸塩として単離する方法で製造することが
できる。この多工程の合成の際(+)−酒石酸か
ら出発すると、(R,R)−3,4−ビス−(ジフ
エニルホスフイノ)−ピロリジンの塩酸塩が得ら
れ、(−)−酒石酸から出発すると、相当する方法
で(S,S)−3,4−ビス−(ジフエニルホスフ
イノ)−ピロリジンの塩酸塩が生じる。次いで必
要な場合には、塩酸塩から、アルカリ金属水酸化
物、アルカリ金属水素炭酸塩またはアルカリ金属
炭酸塩を用いる処理により相当する遊離塩基を得
ることができる。 引続き、遊離塩基を適当なアシル化剤、殊にカ
ルボン酸塩化物または−無水物を用いて自体公知
の方法で窒素原子においてアシル化することがで
きる。アシル誘導体のうちでは、式()中Rが
ベンゾイル基、tert.−ブチルオキシカルボニル基
または式:CH3−O−(CH2−CH2−O)n−
CH2−CO〔式中nは0〜3の整数を表わす〕の基
を表わすようなものが特に有利である。他の適当
なアシル基の例は、式R1−CO−〔式中R1は水素、
メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロ
ピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、第二ブチ
ル−または第三ブチル基またはα−またはβ−ナ
フチル基を表わす〕で示される基である。これは
有利にはアシル基であるが、適当なアシル基はこ
れに限定されていない。 アシル基は、容易に自体公知の方法で、たとえ
ば水素化リチウムアルミニウムを用いるカルボニ
ル基の水素化により、相当するアルキル−ないし
はアリールアルキル基に変えることができる。特
に有利なアルキル−ないしアリールアルキル誘導
体は、式()中Rがメチル基、エチル基または
ベンジル基を表わすようなものである。ピロリジ
ンの窒素原子における他の適当なアルキル−ない
しアリールアルキル置換基の例は、n−プロピル
基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル
基、n−ペンチル基、2−および3−メチルブチ
ル基、2,2−ジメチルプロピル基またはナフト
メチル基である。しかし他のアルキル−ないしは
アリールアルキル基も適当である。 このようにして得られる、式()の光学活性
化合物は、中心原子としてロジウムを含有する金
属錯体中のカイラル配位子として使用できる。 従つて、本発明の化合物は、式: 〔Rh(en)2A〕+X- () 〔式中(en)2はモノオレフインの2つの分子ま
たはジオレフインの1つの分子を表わし、Aは式
()の光学活性3,4−ビス−(ジフエニルホス
フイノ)−ピロリジンを表わし、X-はテトラフル
オロホウ酸陰イオン、ヘキサフルオロリン酸陰イ
オンまたは過塩素酸陰イオンを表わす〕で示され
るロジウム錯体中のカイラル配位子である。 式()のロジウム錯体に適したモノオレフイ
ンは、たとえばエチレンまたはシクロオクテンで
ある。適当なジオレフインは、たとえば1,3−
ブタジエン、1,5−シクロオクタジエンまたは
ノルボルナジエンである。分子が1,5−シクロ
オクタジエンを含有する式()のロジウム錯体
がとくに有利である。 ロジウム錯体は、式()の化合物と、式: 〔Rh(en)2Y〕2 () 〔式中(en)2は既述したものを表わし、Yは塩
素、臭素またはヨウ素を表わす〕で示されるロジ
ウム錯体およびテトラフルオロホウ酸、ヘキサフ
ルオロリン酸または過塩素酸のアルカリ金属塩ま
たは銀塩との反応により製造することができる。 式中(en)2が1分子の1,5−シクロオクタジ
エンを表わし、X-がテトラフルオロホウ酸陰イ
オンを表わす式()のロジウム錯体は、式
()の化合物を 式〔Rh(COD)2〕+BF4 - () 〔式中CODは1,5−シクロオクタジエンを
表わす〕のロジウム錯体と反応させることによつ
ても特に容易な方法で製造できる。 最後に、本発明の化合物は、触媒として式
()のロジウム錯体を使用する、光学活性α−
アシルアミノカルボン酸の製法で使用できる。 不斉水素化の原料としてはたとえば 一般式: のα−アシルアミノ−アクリル酸およびその誘導
体が使用できる。この式中、R1は水素、アルカ
リ金属または1〜4、特に1〜2の炭素原子を有
する低級アルキル基を表わし、R2は1〜4、特
に1〜2の炭素原子を有する低級アルキル基また
はフエニル基を表わす。R3およびR4は同じかま
たは異なつていてよく、水素、1〜10の炭素原子
を有する直鎖または分枝アルキル基、非置換フエ
ニル基または3−および/または4−位がヒドロ
キシル基、アルコキシ基またはアシルオキシ基に
より置換されたフエニル基または非置換かまたは
6−位がメチル基または塩素により置換されたイ
ンドーリル基を表わしていてよい。 不斉水素基により、上述のプロカイラル原料を
相当する光学活性α−アシルアミノカルボン酸に
変換し、これを自体公知の方法で相当するα−ア
ミノカルボン酸にケン化することができる。使用
されたロジウム錯体中に含有されている本発明に
よる、式の光学活性3,4−ビス−(ジフエニ
ルホスフイノ)−ピロリジンは、最初(+)−酒石
酸から製造した場合には、大過剰に光学活性α−
アシルアミノカルボン酸のL−エナンチオマーが
生じ、それとは異なり(−)−酒石酸から出発し
た場合には、大過剰にD−エナンチオマーが生じ
た。双方の場合に、所望のエナンチオマーは、光
学的にほぼ完全に純粋に得ることができる。 水素化は水素化に常用の溶剤たとえばアルコー
ルおよびエーテルまたはそれと脂肪族または芳香
族炭化水素または水との混合物中で行なわれる。
原料濃度は、0.001モル溶液から原料の飽和溶液
にまで達しうる。水素圧は常圧からほぼ80バール
の間にあり、反応温度は−20℃から+50℃の間で
あつてよい。特に、水素化は室温で実施する。式
()の化合物をカイラル配位子として含有する
ロジウム錯体は、有利に原料対触媒のモル比が
1:1〜50000:1、特に500:1〜15000:1の
範囲内にあるような量で使用される。 本発明による光学活性3,4−ビス−(ジフエ
ニルホスフイノ)−ピロリジンおよびこれをカイ
ラル配位子として含有するロジウム錯体の酸素に
対する敏感性のために、全反応を保護ガス雰囲気
中、たとえば窒素またはアルゴン下に実施し、そ
のつどの反応生成物も保護ガス下に保存するのが
有利である。その他に、水素化を嫌気性条件下に
実施するのも有利である。 本発明を次の実施例につき詳述するが、これに
限定されるものではない。 実施例 例 1 a 1−ベンジル−2,5−ジオキソ−3,4
−(R,R)−ジヒドロキシピロリジンの製造: L−酒石酸90g(0.6モル)にベンジルアミン
64.2g(0.6モル)を加え、撹拌しながら170℃に
加熱した。その際、反応水が蒸発した。約30分後
褐色の液体が固化し、これになお約20分間真空を
かけた。冷却した後、なお温かい晶泥をエタノー
ルで浸漬し、一晩中放置した。結晶を吸引濾過
し、エタノールで後洗浄し、エタノールから再結
晶した。 収量:126g(理論値の95%に相当)。 融点:196〜198℃(理論値:196℃)。 b 1−ベンジル−3,4−(S,S)−ジヒドロ
キシ−ピロリジンの製造: 水素化リチウムアルミニウム12g(0.32モル)
をKOH上で乾燥したジエチルエーテル500ml中に
窒素下に溶解した。この溶液に室温で、a)によ
り製造した1−ベンジル−2,5−ジオキソ−
3,4−(R,R)−ジヒドロキシ−ピロリジン15
g(0.068モル)を1度に添加した。35℃で2日
間撹拌した後−18℃に冷却し、および徐々に水12
mlを滴加した。その際激しく水素が発生した。引
続き、−10℃で3.75M−カ性ソーダ溶液12mlを滴
加し、最後に0℃で水25mlを滴加した。反応混合
物を撹拌しながら、室温に昇温させ、水酸化アル
ミニウムを濾別し、ソツクスレー抽出器中4日間
濾液を抽出した。 その後、エーテルを回転蒸発器中で蒸発し去
り、残渣を酢酸エステル50mlにとつた。−18℃に
冷却した後に沈殿した結晶を吸引濾過し、酢酸エ
ステル/リグロイン(1:1)で洗浄し、真空中
で乾燥した。収量:9.3g(理論値の71%)。融点
100℃。 〔α〕RT D=+32.4゜(C=4.31、CH3OH) 元素分析:C11H15NO2(193.25) C% H% N% 計算値: 68.36 7.82 7.25 実測値: 68.84 7.87 7.14 c 3,4−(S,S)−ジヒドロキシ−ピロリジ
ンの製造: b)により製造した1−ベンジル−3,4−
(S,S)−ジヒドロキシ−ピロリジン3.86g(20
ミリモル)をエタノール70ml中に溶解し、活性炭
上のパラジウム(10%Pd)0.5gを加えおよび1
バールの水素圧下に水素化した。理論的水素量の
吸収後、触媒を濾別し、濾液を真空中で蒸発乾凅
した。残渣を高度真空中で昇華した(浴温100℃、
圧力1.3・10-4ミリバール)。収量:1.93g(理論
値の94%)。融点:101〜103℃。 〔α〕RT D=+24.9゜(c=2.13、エタノール) 元素分析:C4H9NO2(103.12) C% H% % 計算値: 46.59 8.80 13.58 実測値: 46.84 9.11 13.58 d 1−tert.ブチルオキシカルボニル−3,4−
(S,S)−ジヒドロキシ−ピロリジンの製造: c)により製造した3,4−(S,S)−ジヒド
ロキシ−ピロリジン4.30g(41.7ミリモル)をエ
タノール80ml中に溶解し、0℃に冷却した。この
溶液にジ−tert.ブチル−ジカルボネート10.34g
(47.4ミリモル)を添加し、一晩中撹拌した。そ
の後1時間50℃に加熱し、引続き溶剤を真空中で
蒸留した。残渣を酢酸エステル71mlおよびトルオ
ール173ml中で加熱沸騰させ、次いで放冷した。−
20℃で12時間放置した後、析出した結晶を吸引濾
過し、トルオールで2回後洗浄し、乾燥した。収
量:7.30g(理論値の86%)。融点:163〜165℃。 〔α〕RT D=−21.9゜(c=3.065、CH3OH) 元素分析:C9H17NO4(203.24) C% H% N% 計算値: 53.19 8.43 6.89 実測値: 53.49 8.31 6.85 1H−NMR(CD3OD)δ(ppm):4.03,m,2H,
(2×CH−OH)3.20〜3.62,m,4H(2×CH
2)1.46,S,9H(3×CH 3) e 1−tert.ブチルオキシカルボニル−3,4−
(S,S)−ジメタンスルホニル−ピロリジンの製
造: d)により製造した1−tert.ブチルオキシカル
ボニル−3,4−(S,S)−ジヒドロキシ−ピロ
リジン12.18g(59.9ミリモル)を無水クロロホ
ルム150ml中に溶解した。この溶液に無水ピリジ
ン10.6ml(131ミリモル)を加え、−50℃に冷却し
た。次いで、無水メタンスルホン酸25g(143.5
ミリモル)を1回で添加し、すぐに−60℃に冷却
した。反応混合物を徐々に室温に昇温させ、24時
間後撹拌した。生じた帯褐色の懸濁液に塩化メチ
レン300mlを加え、それぞれH2O50mlおよび2N−
塩酸5mlの氷冷混合物で3回振出した。その後、
それぞれ50mlで2回洗浄し、MgSO4上で乾燥し
た。溶剤を真空中で蒸留し、残渣を高度真空中で
乾燥した。収量:粗生成物22.23g(理論値の100
%)、このものはなお痕跡のクロロホルムおよび
塩化メチレンを含有し、さらに精製することなし
に次の工程に使用した。 f 3,4−(S,S)−ジメタンスルホニル−ピ
ロリジン臭化水素酸塩の製造: e)により得られた粗1−tert.ブチルオキシカ
ルボニル−3,4−(S,S)−ジメタンスルホニ
ル−ピロリジン22.23g(59.9ミリモル)を軽い
加熱下に酢酸エステル250ml中に溶解した。少量
の不溶分を濾別し、酢酸エステル50mlで洗浄し
た。合した濾液を−10℃に冷却し、氷酢酸中の
HBr−溶液(40%HBr)18mlを加えた。30秒後、
白色の沈殿物が沈殿しはじめた。反応混合物を室
温で放置し、24時間に後撹拌した。その後、沈殿
物を吸引濾過し、窒素下に無水エーテルで3回洗
浄し、高度真空中で乾燥した。収量:19.11g
(理論値の94%)。 元素分析:C6H14BrNO6S2(340.22) C% H% N% S% 計算値: 21.18 4.15 4.12 18.85 実測値: 21.80 4.11 4.27 18.52 g 3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホス
フイノ)−ピロリジン塩酸塩の製造 ナトリウムジフエニルホスフイド・2ジオキサ
ン10.56g(27.5ミリモル)を無水ジメチルホル
ムアミド60ml中に溶解した。溶液を−35℃に冷却
しf)により製造した3,4−(S,S)−ジメタ
ンスルホニル−ピロリジン臭化水素酸塩2.6g
(7.6mモル)を1度に加えた。次いで、浴温を−
12℃に高めおよび15時間撹拌した。反応混合物を
室温に昇温させ、溶剤を浴温20℃で高度真空中で
除去した。赤色の残渣にガス抜きされた水50mlを
加え、水溶液をエーテル35mlで1回およびエーテ
ル15mlで2回抽出した。合したエーテル相に
0.8M−塩酸40mlを加え、15時間激しく撹拌した。
沈殿した塩酸塩を吸引濾過し、水およびエーテル
で後洗浄し、50℃で高度真空中で乾燥した。収
量:3.12g(理論値の80%)。融点:184〜186℃。 〔α〕RT D=+170゜(C=2.8、エタノール99%) 元素分析:C28H28ClNP2(475.94) C% H% N% 計算値: 70.66 5.93 2.94 実測値: 70.55 6.09 2.83 31P−NMR(CD3OD/CH3OH)δ(ppm):−
15.28,s, 1H−NMR(CD3OD)δ(ppm):7.6
〜7.1,m,20H4.1〜3.6,m,2H3.1,m,4H h 3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホス
フイノ)−ピロリジンの製造: g)により製造した3,4−(R,R)−ビス−
(ジフエニルホスフイノ)−ピロリジン塩酸塩
0.708g(1.49ミリモル)を窒素下に、KOH230mg
(4.1ミリモル)を含有する水20ml中1時間撹拌し
た。その後、エーテル各々20mlで3回抽出し、合
したエーテル相をMgSO4上で乾燥し、高度真空
中でエーテルを除去した。収量:0.644g(理論
値の98.3%)。 元素分析:C28H27NP2(439.48) C% H% N% 計算値: 76.52 6.19 3.19 実測値: 76.67 6.13 3.21 1H−NMR(CD2Cl)δ(ppm):7.08〜7.56,m,
20H(フエニル)3.12〜3.50,m,2H(P−C−
H)1.83(広幅),1H(N−H)2.73〜3.00,m,
4H(C−CH 2−N) 〔α〕RT D=+153゜(C=2.35、エタノール99%) 例 2: 〔(3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホス
フイノ)−ピロリジン)(COD)Rh〕BF4の製
造: 〔Rh(COD)2〕BF4574mg(1.45ミリモル)を無
水塩化メチレン5ml中に溶解した。溶液を−30℃
に冷却し、無水塩化メチレン20ml中の、例1h)
により製造した3,4−(R,R)−ビス−(ジフ
エニルホスフイノ)−ピロリジン638mg(1.45ミリ
モル)の溶液を加えた。−30℃で5分間撹拌した
後、冷却浴を除去し、室温に達した後、高度真空
中で約5mlに濃縮した。無水エーテル25mlの添加
により黄色の粉末としてロジウム錯体が沈殿し
た。収量:1.048g(理論値の98.03%)。 元素分析:C36H39NP2RhBF4(737.37) C% H% N% 計算値: 58.64 5.33 1.89 実測値: 58.67 5.51 1.86 31P−NMR(CD2Cl2/CH2Cl2)δ(ppm):
28.17,d1JRh-P=148Hz 例 3 例2により製造したロジウム錯体を用いる水素
化 a 磁気往復動撹拌機を備えた0.5の鋼製オー
トクレーブ中へ、α−アセトアミドケイ皮酸
51.3gを採取した。オートクレーブを密閉し、
排気した。その後ロジウム錯体23mgを無水メ
タノール250ml中の溶液としてオートクレーブ
中へ吸引した。H2で十分に洗浄した後、H2を
60バール圧力まで圧入し、オートクレーブを50
℃に加熱し、撹拌機を動かした。20時間後に
H2吸引は終了し、圧力は40バールに低下した。
オートクレーブを空にし、メタノールを蒸留し
た。触媒の除去のために、残渣をクロロホルム
で洗浄し、引続き乾燥した。変換率:100%、
N−アセチル−L−フエニルアラニンの収量:
51.2g(理論値の98.8%)融点169℃ 〔α〕RT D=+45.5゜(c=1,エタノール95%)
(基準値〔α〕RT D=+47.5゜における95.8%の光学
収率に相当)。 b a)と同様に、0.1の鋼製オートクレーブ
中で、α−アセトアミドケイ皮酸1.04gをロジ
ウム錯体6.3mgの存在で水素化した。 溶剤:メタノール30ml H2初圧:50バール 水素化温度:室温 水素化時間:15時間 変換率:100% 光学収率:97.5% 例 4 1−ベンゾイル−3,4−(R,R)−ビス−
(ジフエニルホスフイノ)−ピロリジンの製造: 例1g)により製造した3,4−(R,R)−ビ
ス−(ジフエニルホスフイノ−ピロリジン)塩醸
塩559mg(1.1ミリモル)を窒素下に水15ml中に懸
濁し、水10ml中の水酸化カリウム1.5g(27ミリ
モル)の溶液を加えた。遊離塩基をトルオール
各々25mlで2回抽出した。合した抽出物を硫酸マ
グネシウム上で乾燥した。濾過した後トリエチル
アミン1ml(7ミリモル)および引続き塩化ベン
ゾイル0.27ml(2.3ミリモル)を添加した。1時
間撹拌した後、水50mlを添加し、相を分離した。
有機相を0.5M−カ性ソーダ溶液、水、NaH2PO4
の10%水溶液および最後に再び水で洗浄した。ト
ルオール溶液をMgSO4上で乾燥し、10mlに濃縮
し、n−ヘキサンの添加により1−ベンゾイル−
3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホスフイ
ノ)−ピロリジンが沈殿した。これを吸引濾過し、
n−ヘキサンで洗浄し、高度真空中で乾燥した。
収量:527mg(理論値89%)。融点:180〜182℃
(高度真空中で溶融)。 元素分析:C33H31NOP2(543.59) C% H% N% 計算値: 77.34 5.75 2.58 実測値: 77.73 5.29 2.63 〔α〕RT D=+153゜(c=2.84,トルオール) 例 5 〔(1−ベンゾイル−3,4−(R,R)−ビス
−(ジフエニルホスフイノ)−ピロリジン)
(COD)Rh〕BF4の製造: [(Ph(COD)2]BF40.20g(0.5ミリモル)お
よび例4により製造した1−ベンゾイル−3,4
−(R,R)−ビス−(ジフエニルホスフイノ)−ピ
ロリジン0.272gを塩化メチレン25ml中で2時間
撹拌した。その後、真空中で2mlに濃縮し、−30
℃に冷却し、テトラヒドロフランおよびジエチル
エーテルから成る混合物(容量比1:2)を添加
した。黄色の沈殿物を室温で吸引濾過し、エーテ
ルで洗浄した。引続き、ロジウム錯体をメタノー
ルからエーテルで再沈した。収量:0.383g(理
論値の91%)。 元素分析:C43H43NOP2RhBF4(841.48) C% H% N% 計算値: 61.38 5.15 1.66 実測値: 61.94 5.06 1.56 例 6 例5により製造したロジウム錯体を用いる水素
化: 水素化を例3と同様に実施した。 a反応容器:0.5の鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
20.5g ロジウム錯体の使用量:46mg 溶剤:メタノール200ml H2初圧:20バール 水素化温度:25〜28℃ 水素化時間:2時間 変換率:100% 光学収率:97.5% b反応容器:0.5の鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
102.5g ロジウム錯体の使用量:50mg 溶剤:メタノール260ml H2初圧:55バール 水素化温度:22℃ 水素化時間:14時間 H2終圧:45バール 変換率:100% 光学収率:98.9% c反応容器:磁気撹拌機およびガス導入装置を有
する0,1−エルレンマイヤーフラスコ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
1.15g ロジウム錯体の使用量:29mg 溶剤:メタノール10ml H2圧:1バール(ガス計量器から) 水素化温度:50℃ 水素化時間:4時間 変換率:100% 光学収率:95.0% d反応容器:0.1−鋼オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
2.05g ロジウム錯体の使用量:1mg 溶剤:メタノール30ml H2初圧:47バール 水素化温度:室温 水素化時間:19時間 変換率:100% 光学収率:99.0% e反応容器:0.1−鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
3.25g ロジウム錯体の使用量:1.3mg 溶剤:メタノール25ml H2初圧:60バール 水素化温度:室温 水素化時間:20時間 変換率:98% 光学収率:96.0% f反応容器:0.1−鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
2.1g ロジウム錯体の使用量:9.9mg 溶剤:空気飽和されたメタノール25ml H2初圧:47バール 水素化温度:室温 水素化時間:0.5時間 変換率:100% 光学収率:98.0% g反応容器:磁気撹拌機およびガス供給装置を備
えた0.1のエルレンマイヤーフラスコ 使用された原料:α−ベンズアミドケイ皮酸
1.28g ロジウム錯体の使用量:17.8mg 溶剤:テトラヒドロフラン15ml H2圧:1バール(Gasometerから) 水素化温度:室温 水素化時間:40時間 生成物:N−ベンゾイル−L−フエニルアラニ
ン 変換率:100% 光学収率:94.4% h反応容器:0.1の鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミド−β−(4
−ヒドロキシフエニル)−アクリル酸1.1g ロジウム錯体の使用量:5.0mg 溶剤:メタノール50ml H2初圧:65バール 水素化温度:室温 水素化時間:24時間 生成物:N−アセチル−L−チロシン 変換率:100% 光学収率:97.0% i反応容器:0.1の鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミド−β−(3
−メトキシ−4−ヒドロキシフエニル)−アク
リル酸1.25g ロジウム錯体の使用量:5.0mg 溶剤:メタノール50ml H2初圧:65バール 水素化温度:室温 水素化時間:24時間 生成物:N−アセチル−L−(3−メトキシ−
4−ヒドロキシフエニル)−アラニン 変換率:100% 光学収率:100% j反応容器:0.1の鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミド−β−(4
−メトキシシフエニル)−アクリル酸1.1g ロジウム錯体の使用量:5.0mg 溶剤:メタノール50ml H2初圧:65バール 水素化温度:室温 水素化時間:15時間 生成物:N−アセチル−L−(4−メトキシフ
エニル)−アラニン 変換率:80% 光学収率:100%(変換率に対し修正) k反応容器:0.1の鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミド−β−(3,
4−メチレンジオキシフエニル)−アクリル酸
1.0mg ロジウム錯体の使用量:5.0mg 溶剤:メタノール50ml H2初圧:55バール 水素化温度:室温 水素化時間:15時間 生成物:N−アセチル−L−(3,4−メチレ
ンジオキシフエニル)−アラニン 変換率:100% 光学収率:93.0% 例 7 1−tert.ブチルオキシカルボニル−3,4−
(R,R)−ビス−(ジフエニルホスフイノ)−ピ
ロリジンの製造: 例1g)により製造した3,4−(R,R)−ビ
ス−(ジフエニルホスフイノ)−ピロリジン塩酸塩
0.78g(1.64ミリモル)をクロロホルム20ml中に
溶解した。次いで、窒素下に水20ml中の炭酸水素
ナトリウム0.23g(2.73ミリモル)および食塩
0.41g(7.01ミリモル)の溶液を添加した。ガス
発生の終了後、クロロホルム10ml中のジ−tert.ブ
チルジカルボネート0.40g(1.83ミリモル)溶液
を添加し、50℃で1.5時間撹拌した。室温に冷却
した後、さらに12時間撹拌した。引続き、有機相
を分離し、クロロホルムを蒸留した。残渣をジエ
チルエーテル10ml中にとり、メタノール10mlおよ
び水5mlから成る混合物の添加により、1−tert.
ブチルオキシカルボニル−3,4−(R,R)−ビ
ス−(ジフエニルホスフイノ)−ピロリジンが、ゲ
ル状の白色沈殿物として沈殿した。生成物を吸引
濾過し、高度真空中で乾燥した。 元素分析:C33H33NO2P2(539.58) C% H% N% 計算値: 73.45 6.53 2.59 実測値: 73.22 6.81 2.57 31P−NMR(CD2Cl2/CH2Cl2)δ(ppm):−
11.63、s 1H−NMR(d6−アセトン)δ(ppm):7.24〜
7.55,m,20H2.93〜4.04,若干のm,6H,環の
すべての陽子1.38,s,9H,−CH 3 IR:ν(c=0):1692cm-1 〔α〕RT D=+125゜(c=3.6,トルオール) 例 8 〔(1−tert.ブチルオキシカルボニル−3,4
−(R,R)−ビス−(ジフエニルホスフイノ−
ピロリジン)(COD)Rh〕BF4の製造: 無水塩化メチレン10ml中の〔Rh(COD)2〕
BF4249mg(0.16ミリモル)の溶液に、−20℃で、
例7により製造した1−tert.ブチルオキシカルボ
ニル−3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホ
スフイノ)−ピロリジン338mg(0.63ミリモル)を
添加し、反応混合物を室温で一晩中撹拌した。溶
剤を留去した後、生成物をメタノール5mlにと
り、ジエチルエーテル10mlの添加によりロジウム
錯体を沈殿させた。収量:456mg(理論値の89.4
%) 元素分析:C41H47NO2P2RhBF4(837.49) C% H% N% 計算値: 58.79 5.65 1.67 実測値: 58.55 5.67 1.53 31P−NMR(CD2Cl2/CH2Cl2)δ(ppm):33.231 JRh-P=149.9Hz 例 9 例8により製造したロジウム錯体を用いる水素
化: 水素化は例3のように実施した。 a反応容器:0.5−鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
51.3g ロジウム錯体の使用量:26.2mg 溶剤:メタノール250ml H2初圧:60バール 水素化温度:17℃ 水素化時間:17時間 H2終圧:40バール 変換率:100% 光学収率:97.7% b反応容器:0.1鋼製オートクレーブ 使用した原料:α−アセトアミドケイ皮酸1.03
g ロジウム錯体の使用量:4.0mg 溶剤:メタノール25ml H2初圧:50バール 水素化温度:室温 水素化時間:20時間 変換率:100% 光学収率:99.6% c反応容器:0.1−鋼製オートクレーブ 使用した原料:α−ベンズアミド−β−(3−
インドーリル)−アクリル酸1.44g ロジウム錯体の使用量:3.5mg 溶剤:メタノール25ml(基質は懸濁液で存在す
る) H2初圧:50バール 水素化温度:室温 水素化時間:20時間 生成物:N−ベンゾイル−L−トリプトフアン 変換率:100% 光学収率:81.0% d反応容器:0.1−鋼製オートクレーブ 使用した原料:α−アセトアミド−β−(3−
メトキシ−4−ヒドロキシフエニル)−アクリ
ル酸1.73g ロジウム錯体の使用量:5.8mg 溶剤:メタノール25ml H2初圧:50バール 水素化温度:室温 水素化時間:20時間 生成物:N−アセチル−L−(3−メトキシ−
4−ヒドロキシフエニル)−アラニン 変換率:100% 光学収率:97%より上 例 10 1−(β−メトキシエトキシアセチル)−3,4
−(R,R)−ビス−(ジフエニルホスフイノ)−
ピロリジンの製造 無水塩化メチレン20ml中の、例1g)により製
造した3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホ
スフイノ)−ピロリジン−塩酸塩0.65g(1.36mモ
ル)の溶液にピロリジン0.23ml(2.8ミリモル)
を添加した。−40℃に冷却した後、(β−メトキシ
エトキシ)−酢酸クロリド0.52g(3.4ミリモル)
を添加した。反応混合物を室温に昇温させ、週末
にかけて撹拌した。ジエチルエーテルの添加によ
り、1−(β−メトキシエトキシアセチル)−3,
4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホスフイノ)−
ピロリジンが油状物として生じ、これはジエチル
エーテル中での4日間撹拌した際に白色の粉末に
変化した。粗生成物を塩化メチレン溶解し、2N
−HClで抽出した。塩化メチレンを蒸留し、残渣
をエタノールにとり、水で沈殿させた。非常に吸
湿性の物質を、数日間高度真空中で乾燥した。収
率:理論値の75%。 元素分析:C33H35NO3P2・0.5H2O(564.61) C% H% N% 計算値: 70.20 6.43 2.48 実測値: 70.08 6.43 2.41 31P−NMR(CD2Cl2)δ(ppm):−10.17,s 1H−NMR(CD2Cl2)δ(ppm):7.13〜7.60,
m,20H,フエニル3.98,s,2H,>N−COCH
2−O−3.31,s,3H,−OCH 3,3.0−4.1,若干
のm,15H,フエニル以外の全てのプロトン 〔α〕RT D=+111±10゜(c=2.9,トルオール) 例 11 〔(1−(β−メトキシエトキシアセチル)−3,
4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホスフイノ)
−ピロリジン)(COD)Rh〕BF4の製造 無水塩化メチレン10ml中の〔Rh(COD)2〕
BF4398mg(0.96ミリモル)の溶液に、−30℃で、
例10により製造した1−(β−メトキシエトキシ
アセチル)−3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニ
ルホスフイノ)−ピロリジン561mg(1.00ミリモ
ル)を塩化メチレン10ml中の溶液として滴加し
た。室温で1晩中撹拌した後、塩化メチレンを高
度真空中で蒸留し、残渣をメタノール10ml中にと
り、ロジウム錯体をジエチルエーテルの添加によ
り沈殿させた。遠心分離した後、錯体をジエチル
エーテルで洗浄し、高度真空中で乾燥した。錯体
は 31P−NMR(および 1H−NMRにより特性を
調べた: 31P−NMR(CD2Cl2)δ(ppm):35.23,d,
JRh-P=149.1Hz,35.44,d,JRh-P=149.6Hz 1H−NMR(CD2Cl2)δ(ppm):7.60〜8.04,
m,フエニル5.2および4.6,広幅,CODのオレフ
イン性プロトン,3.85,s,>N−CO−CH 2−
O−,3.41,m,−O−CH 2−O−,3.17,s,−
O−CH 3,2.15〜3.85,若干のm,全ての環プロ
トンおよび非オレフイン性COD−プロトン 例 12 例11により製造したロジウム錯体を用いる水素
化: 水素化を例3と同様に実施した: a反応容器:0.5の鋼製オートクレーブ 使用した原料:α−アセトアミドケイ皮酸51.3
g ロジウム錯体の使用量:26.7mg 溶剤:メタノール250ml H2初圧:60バール 水素化温度:17℃ 水素化時間:17時間 H2終圧:40バール 変換率:100% 光学収率:96.8% b反応容器:0.1の鋼製オートクレーブ 使用した原料:α−アセトアミドケイ皮酸1.0
g ロジウム錯体の使用量:4.2mg 溶剤:メタノール25ml H2初圧:50バール 水素化温度:室温 水素化時間:20時間 変換率:100% 光学収率:98.7% 例 13 1−(β−メトキシエトキシエトキシエトキシ
アセチル)−3,4−(R,R)−ビス−(ジフエ
ニルホスフイノ)−ピロリジンの製造: 無水塩化メチレン20ml中の、例1g)により製
造した3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホ
スフイノ)−ピロリジン−ヒドロクロリド1.04g
(2.18ミリモル)の溶液に、ピロリジン0.35ml
(4.36ミリモル)を添加した。溶液を−35℃に冷
却し、(β−メトキシエトキシエトキシエトキシ)
−酢酸クロリド0.55g(2.22ミリモル)を添加し
た。室温に加熱し、一晩中撹拌した後、溶剤を蒸
留し、残渣をエタノール10mlにとり、n−ペンタ
ンにより1−(β−メトキシエトキシエトキシエ
トキシアセチル)−3,4−(R,R)−ビス−(ジ
フエニルホスフイノ)−ピロリジンを油状物とし
て析出させた。この油状物を分離し、新たにn−
ペンタンを加え、−40℃に撹拌し、最後に−25℃
で一週間放置した。粘稠な油状物の結晶化が行な
われなかつたので、n−ペンタンが注ぎ出し、残
渣を高度真空中で乾燥した。粗生成物を塩化メチ
レンに溶解し、2NHClで抽出した。塩化メチレ
ンを蒸留し、残渣をエタノールにとり、水で沈殿
させた。非常に吸湿性の物質を、数日間高度真空
中で乾燥した。収率:理論値の96%。生成物を
31P−NMRおよび 1H−NMRにより特性を調べ
た: 31P−NMR(CD2Cl2)δ(ppm):−10.17 1H−NMR(CD2Cl2)δ(ppm):7.10〜7.52,
m,20H,フエニル,3.99,s,2H,>N−CO−
CH 2−,3.59,狭幅,12H,−O−,CH 2−CH
2−O−,3.55,s,3H,−O−CH 3,2.99〜
4.19,m,フエニルを除く全てのプロトン 例 14 〔(1−(β−メトキシエトキシエトキシエトキ
シアセチル)−3,4−(R,R)−ビス−(ジフ
エニルホスフイノ)−ピロリジン)(COD)
Rh〕BF4の製造: 塩化メチレン10ml中の〔Rh(COD)2〕BF4362
mg(0.89ミリモル)の溶液に、塩化メチレン5ml
およびエタノール5ml中の例13により製造した1
−(β−メトキシエトキシエトキシエトキシアセ
チル)−3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニルホ
スフイノ)−ピロリジン524mg(0.84ミリモル)の
溶液を添加し、反応混合物を室温で1晩中撹拌し
た。その際少量の白色沈殿が生じ、これを濾別し
た。濾液からジエチルエーテルの添加によりロジ
ウム錯体を、沈殿させた。収率:理論値の79%。
錯体を 31P−NMRおよび 1H−NMRにより特性
を調べた: 31P−NMR(CD2Cl2)δ(ppm):33.59,d,JRh
−P=149.6Hz33.27,d,JRh-P=149.0Hz 1H−NMR(CD2Cl2)δ(ppm):7.43〜7.95,
m,フエニル,5.1および4.5,広幅,CODのオレ
フイン性プロトン、3.77,s,−CO−CH 2,
3.39,m,−O−CH 2−CH 2−O−,3.20,s,
−O−CH 3,1.68〜3.77,若干のm,全ての環プ
ロトンおよび非オレフイン性COD−プロトン 例 15 例14により製造したロジウム錯体を用いる水素
化: 水素化は例3と同様に実施した。 a反応容器:0.5の鋼製オートクレーブ 使用した原料:α−アセトアミドケイ皮酸51.3
g ロジウム錯体の使用量:29.4mg 溶剤:メタノール250ml H2初圧:60バール 水素化温度:50℃ 水素化時間:18時間 H2終圧:40バール 変換率:100% 光学収率:96.4% b反応容器:0.5の鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
51.3g ロジウム錯体の使用量:14.7mg 溶剤:メタノール250ml H2初圧:60バール 水素化温度:50℃ 水素化時間:24時間 H2終圧:40バール 変換率:89% 光学収率:98.4%(変換率に対し修正) c反応容器:0.1の鋼製オートクレーブ 使用された原料:α−アセトアミドケイ皮酸
1.0g ロジウム錯体の使用量:3.4mg 溶剤:メタノール25ml H2初圧:50バール 水素化温度:室温 水素化時間:20時間 変換率:100% 光学収率:97.7% 例 16 1−ベンジル−3,4−(R,R)−ビス−(ジ
フエニルホスフイノ)−ピロリジンの製造 無水テトラヒドロフラン25ml中の、例4により
製造した1−ベンジル−3,4−(R,R)−ビス
−(ジフエニルホスフイノ)−ピロリジン544mg
(1mモル)の溶液を、無水テトラヒドロフラン25
ml中の水素化リチウムアルミニウム1g(0.025
ミリモル)の溶液に滴加し、反応混合物を一晩中
撹拌した。その後水1ml、3.75M−カ性ソーダ溶
液1mlおよび最後にさらに水3mlを滴加した。反
応混合物を濾過し、濾液から溶剤を真空中で留去
した。残渣をトルオールにとり、n−ペンタンの
添加によりN−ベンジル誘導体を沈殿させ、吸引
濾過しおよび乾燥した。収率:0.43g(理論値の
81%)。 元素分析:C35H33NP2(529.60) C% H% N% 計算値: 79.38 6.28 2.64 実測値: 79.61 6.35 2.59 例 17 〔(1−ベンジル−3,4−(R,R)−ビス−
(ジフエニルホスフイノ)−ピロリジン)
(COD)Rh〕BF4の製造: 塩化メチレン25ml中の、〔Rh(COD)2〕BF40.20
g(0.5mモル)および例16により製造した1−
ベンジル−3,4−(R,R)−ビス−(ジフエニ
ルホスフイノ)−ピロリジン0.265g(0.5ミリモ
ル)の溶液を、2時間撹拌した。次いで、真空中
で2mlに濃縮し、ロジウム錯体をジエチルエーテ
ルの添加により沈殿させ、吸引濾過し、乾燥し
た。収量:0.376g(理論値の91%)。 元素分析:C43H45NP2RhBF4(827.5) C% H% N% 計算値: 62.41 5.48 1.69 実測値: 62.38 5.55 1.68 例 18 例17により製造したロジウム錯体を用いて例3
と同様にα−アセトアミドケイ皮酸を水素化し
た。 反応容器:0.1−鋼製オートクレーブ 原料の使用量:2.05g ロジウム錯体の使用量:4.1mg 溶剤:メタノール30ml H2初圧:47バール 水素化温度:室温 水素化時間:16時間 変換率:100% 光学収率:96.0%
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 [式中Phはフエニル基を表わし、Rは水素、
アルキル基、アリールアルキル基またはベンゾイ
ル基、t−ブチルオキシカルボニル基、式CH3−
O−(CH2−CH2−O)n−CH2−CO−(その際
nは0〜3の整数を表わす)の基または式R1−
CO−(その際R1は水素、メチル−、エチル−、
n−プロピル−、i−プロピル−、n−ブチル
−、i−ブチル−、第二ブチル−、第三ブチル基
またはα−またはβ−ナフチル基を表わす)の基
を表わす]で示される、光学活性3,4−ビス−
(ジフエニルホスフイノ)−ピロリジン。
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