JPH03138600A - 放射線画像変換パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は輝尽性蛍光体を用いた放射線画像変換パネルに
関するものであり、さらに詳しくは長期間の使用に耐え
うる放射線画像変換パネルに関するものである。

〔発明の背景〕

病気診断などに用いるＸ線画像を作成する従来のハロゲ
ン化銀感光材料に代って蛍光体層がら直接画像を取出す
Ｘ線画像変換方法が工夫されている。

この方法は、例えば、米国特許３，８５９，５２７号及
び特開昭５５−１２１４４号に輝尽性蛍光体を用い可視
光線又は赤外線を輝尽励起光とした放射線画像変換方法
が示されており、輝尽性蛍光体層（以後輝尽層と略称）
を形成した放射線画像変換パネル（以後変換パネルと略
称）を使用するもので、この変換パネルの輝尽層に被写
体を透過した放射線を当てて被写体各部の放射線透過度
に対応する放射線エネルギーを蓄積させて潜像を形成し
、しかる後にこの輝尽層を輝尽励起光で走査することに
よって各部に蓄積された放射線エネルギーを放射させて
これを光に変換し、この光の強弱による光信号により画
像を得るものである。

この最終的な画像はハードコピーとして再生してもよい
し、ＣＲＴ上に再生してもよい。

この放射線画像変換方法において使用される変換パネル
は、放射線画像情報を蓄積した後輝尽励起光の走査によ
って蓄積エネルギーを解尽放出するので、走査径再度放
射線画像の蓄積を行うことができ、繰返し使用が可能で
ある。

そこで、前記変換パネルは、得られる放射線画像の画質
を劣化させることなく長期間あるいは多数回繰返しの使
用に耐える性能を有することが望ましい。そのためには
前記変換パネル中の輝尽層が外部からの物理的あるいは
化学的刺激から十分に保護される必要がある。

従来の変換パネルにおいては、上記の問題の解決を図る
ため、変換パネルの支持体上の輝尽層面を被覆する保護
層を設ける方法がとられてきた。

ここで保護層を設けた場合には、入射した輝尽励起光の
輝尽層表面での反射散乱光が保護層−空気界面で反射さ
れ、輝尽層へ再入射するため、保護層が厚いほど反射散
乱光はより遠くまで到達し、対象画素外の画像情報を混
入させる。従って一般的には有機高分子から成る薄い保
護層が用いられている。薄い保護層は変換パネルの鮮鋭
性をほとんど低下させないという利点がある。

しかしながら、常用される有機高分子から成る薄い保護
層はある程度の水分及び／または湿気に対し透過性であ
り、輝尽層が水分を吸収し、その結果、変換パネルの放
射線感度の低下あるいは輝尽励起光照射を受けるまでの
蓄積エネルギーの減衰が大きく、得られる放射線画像の
画質のばらつき及び／または劣化をもたらしていた。

例えば、厚さ１０μｍのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム（以下単にｒＰＥＴＪと略記する）の透湿度は約
６０（ｇ／　ｍ２・２４ｈｒ）であり、１日に単位面積
当たり６０ｇもの水分を透過する。膜厚ｌＯμｍの○Ｐ
Ｐ（延伸ポリプロピレン）でｌ：ｋ　約１５（ｇ／　ｍ
２・２４ｈｒ）である。保護層の透湿度としては１　（
ｇ／ｍ”・２４ｈｒ）以下であることが好ましく、これ
を実現するためには、ＰＥＴで約６００１１ｍ、○ＰＰ
で約１５０μｍの厚さが必要となる。

また、前述のような薄い保護層を有する従来の変換パネ
ルにおいては、保護層の表面硬度が小さいため搬送時に
おける搬送ローラ等の機械部分との接触により保護層表
面に傷を生じたり、また薄い保護層では耐衝撃性が不充
分なため輝尽層中に− 亀裂、折れを生じ易く、得られる放射線画像の画質が繰
返し使用回数の増大とともに劣化する欠点がある。一方
保護層を厚くすれば、薄いための欠陥は消去できるが、
前述のように鮮鋭性が低下する。この相反する事象を越
えて、鮮鋭性を損うことなく防湿性、強度、耐衝撃性の
面からの改良が望まれていた。

これら薄い保護層は、特開昭５９−４２５００号等に開
示されているように、保護層用塗布液を輝尽層上に直接
塗布して形成されるか、あるいはあらかじめ別途形成し
た保護層を輝尽層上に接着する方法により形成されてい
る。

また、変換パネル周縁の密閉には、例えば有機高分子溶
液中に変換パネルの周縁部のみを浸漬するか、あるいは
周縁部に有機高分子溶液を塗布して高分子膜を形成して
封止する方法、周縁部を封止剤により封止し、封止剤を
固定部材により外側から固定する方法（特開昭６１−２
３７０９９号）、周縁部が保護層の延長部分により被覆
された状態で封止する方法（特開昭６１−２３７１００
号）等が用いられている。

更に防湿性を上げるために、従来の保護層より厚めの防
湿効果の大きい保護層体を用い、支持体と保護層体の間
に輝尽層を囲んでスペーサを接着、挟在させること　（
特開平ｌ−１３１４９９号）が提案され、更に進んで前
記スペーサの外側に防湿材を兼ねる封止剤を充填して防
湿効果を高める方法（特願昭６３−１４１５２３号）が
提示されている。

このように厚みを有する保護層体で輝尽層を掩蔽しても
、保護層体と輝尽層の間に、保護層体よりも低屈折率の
層、例えば気体層や真空層を設ければ、たとえ保護層体
を厚くしても鮮鋭度の低下を小さく抑えることができる
。（特開平１−１３１４９８号） かつ該低屈折率層の厚みは薄くても効果は同じである。

前記開示された変換パネルの態様のスペーサ接着部分の
拡大断面図及び部分剥取破断図を第４図（ａ）及び（ｂ
）に示す。

図においてｌは支持体、２は保護層体、３はスペーサ、
１４３は支持体ｌとスペーサ３を接着剤４で接着した接
着剤層、２４３は保護層体、スペーサ間の接着剤層であ
る。５は周縁に充填された封止剤、６は輝尽層、７は低
屈折率層である。Ｗはスペーサの厚み幅、ｈは高さ、ｄ
は接着剤層の厚みである。また各スペーサの長さをＱｌ
、長さ（２ｉに接着を要する個所数を旧とすれば、輝尽
層周囲を囲み接着剤層外側の全長りは、Ｌ−Σｎ１１２
ｉで与えられる。

ここで接着剤層を拡散通過する水分の実効通路長をＷ（
−σＷ）とすれば、接着剤層の透湿度Ｔは、 どなる。

前記開示された形態の変換パネルにおいては、支持体、
保護層体及びスペーサ片は夫々独立した別体であり、支
持体−スペー→ノ゛片−保護層体及びスペーサ片間の接
合部を接着し、更にスペーサ外側周縁部に封止剤を充填
しても、変換パネルを苛酷な温湿条件に置く場合及び／
又は水分に弱い輝尽性蛍光体を用いる場合には、スペー
サの接着剤層を微量の水分が浸透、通過することにより
、輝尽層の性能が劣化する。

従って変換パネル内外間の水分の通路となる接着剤層の
所要個所を少くし、或は接着剤層の厚みｄを小さく、及
び／又は接着通路長さＷを大きくとり、透湿度Ｔを小さ
くすることか望まれる。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、外部からの化学刺戟、特に水分に対し
て充分に防護され、高感度、高鮮鋭性及び高粒状性を長
く保つ耐久性を有し、かつ良好な使用状態を維持する耐
用性の高い変換パネルの提供にある。

更に他の目的は、生産性の良好な前記目的性能の変換パ
ネルを提供することにある。

〔発明の構成及び作用効果〕

本発明の目的は、支持体に設けた輝尽性蛍光体層を、そ
の周囲を取囲むスペーサとその上を掩蔽する保護層体と
で密閉した放射線画像変換パネルにおいで、前記スペー
サが、支持体もしくは保護層体の一方に、或は支持体及
び保護層体の夫々に分割されて、一体形成されているこ
とを特徴とする放射線画像変換パネルによって達成され
る。

次に本発明における支持体、保護層体に一体形成される
スペーサの態様を図に例示して説明する。

第１図（ａ）は「口」の字形スペーサを支持体、保護層
体に一体形成して造付けた態様である。

この態様では支持体、保護層体のいづれか一方にのみ造
付けて他方を平板として合体させる態様と、その両方に
造付け、合体したときに互に同形のスペーサ面を突合せ
る態様及び両者のスペーサが互いに密接して嵌合し二重
スペーサを形成する態様をとることができる。一方にの
み造付けた態様及び突合せの態様では前記（１）式のＬ
が半減され、また二重スペーサの態様では更に加えて（
１）式のＷにスペーサの高さｈ分だけ追加され、透湿度
Ｔを低下させることができる。

第１図（ｂ）は支持体、保護層体のいづれかに、１”Ｕ
Ｊ字形スペーサ、他方に「Ｕ」の上端に整合する位置に
「−」の字形のスペーサを造付ける例である。この場合
りの半減効果はあるが、スペーサ同志の接合部の接着剤
層が２箇所増える分はＴの増大を招く。

第１図（Ｃ）は支持体、保護層体の夫々に、両者を合体
した時に互いに接合する「二」の字形スペーサを造付け
る態様であり、また同図（ｄ）はｒｌ−Ｊ字形とする例
である。更に同図（ｅ）、（ｆ）は前記（ａ）、（ｃ）
に示したスペーサを支持体、保護層体の端縁まで退け、
端縁を折立てた形にしたものである。

前記第１図の諸形態は、スペーサの設置位置、厚みを整
合させ、互いに嵌合した２重スペーサ構造とする等、そ
の他各種の変形を採りうるが、前記一体形成を加えた支
持体、保護層体を合体したとき、内空間が形成されて、
輝尽層が密閉できる態様であればよい。

またスペーサの高さｈを少くとも輝尽層の厚み以上にと
って、任意の低屈折率層を設置することができる。

尚スペーサの一体成形は、エツチング、機械加工、熔融
成形、熱間加工等の方法が用いられる。

パネル生産性においてスペーサの別途作成、接着位置合
わせ、接着工程等が省略あるいは簡略化され、パネルコ
スト、均等形状再現性（製品規格）及び強度面で大きく
寄与する。

本発明において用いられる保護層体又はスペーサを一体
成形した保護層体としては、輝尽層を掩蔽する面の透光
性がよく、かつ表裏面を平行性よく成形できるものが使
用される。保護層体は輝尽励起光及び輝尽発光を効率よ
く透過するために、広い波長範囲で高い光透過率を示す
ことが望ましく、光透過率は８０％以上が好ましい。

そのようなものとしては、例えば、石英、硼珪酸ガラス
、化学的強化ガラス等の板ガラスや、ＰＥＴ、延伸ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニル等ノ有機高分子化合物が挙
げられる。硼珪酸ガラスは３３０ｎｍ〜２．６μｍの波
長範囲で８０％以上の光透過率を示し、石英ガラスでは
さらに短波長においても高い光透過率を示す。

さらに、保護層体の輝尽層掩蔽面表面に、ＭｇＦ２等の
反射防止層を設けると、輝尽励起光及び輝尽発光を効率
よく透過するとともに、鮮鋭性の低下を小さくする効果
もあり好ましい。

また、保護層体の厚さは、５０μｍ〜５ｍｍであり、良
好な防湿性、鮮鋭性を得るためには、１００μｍ〜３ｍ
ｍが好ましい。

また、スペーサの材質は一体形成する支持体、保護層体
の材質と合せるが、その透湿度が３０ｇ／ｍ”・２４ｈ
ｒ以下であることが好ましい。この透湿度があまり大き
すぎる場合には、外部から侵入する水分により輝尽性蛍
光体が劣化するために好ましくない。

支持体又は保護層体と一体となったスペーサの高さは、
輝尽層の厚さ以上の高さであることが好ましく、スペー
サの幅は、主に、このスペーサと支持体及び保護層体と
の接着部分の防湿性（前記透湿度）に関連して決定され
るものであり、１〜３０ｍｍが好ましい。スペーサの幅
があまり小さすぎる場合にはスペーサの安定性、強度及
び防湿性の１ ２ 点から好ましくない。また、あまり大きすぎる場合には
必要以上に変換パネルが大型化するので好ましくない。

なお、スペーサと支持体又は保護層体との接着部分の透
湿度は、３０ｇ／　ｍ”・２４ｈｒ以下であることが好
ましい。

スペーサは、支持体と保護層体に密着しうろことが変換
パネルに防湿性を付与する点及び低屈折率層の層厚を一
定に保持する点から必要である。

ここでスペーサを支持体及び保護層体に密着させるには
、例えば接着剤等を用いるが、この接着剤をしては防湿
性を有するものが好ましい。具体的には、エポキシ系樹
脂、フェノール系樹脂、シアノアクリレート系樹脂、酢
酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ウレタン系樹脂、
アクリル系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹脂、オレフィ
ン系樹脂、クロロプレン系ゴム、ニトリル系ゴム等の有
機高分子系接着剤や、シリコーン系接着剤、アルミナ、
シリカ等を主成分とする無機系接着剤等が挙げられる。

これらのなかでも半導体や電子部品の封止に用いられる
エポキシ系樹脂やシリコーン系樹脂は耐湿性が優れてい
るので好ましく、特にエポキシ系接着剤は透湿度が低く
好適である。

なお、スペーサ追付は保護層体と支持体、又はスペーサ
追付は支持体と保護層体との接着部分の接着性を向上さ
せる目的で、スペーサ、支持体及び保護層体の他の層と
の接触面に下引き層を設けたり、粗面化処理を施すこと
もできる。

本発明により製造される変換パネルは、スペーサの外側
や変換パネルの周縁を封止部材でさらに封止すると、よ
り防湿効果が高まり好ましい。封止は、封止部材として
前記の接着剤を用いたり、低融点ガラス等の封止用ガラ
スを用いてガラス融着により封止したり、保護層体の延
長部で封止する等の方法が挙げられるが、特にガラス融
着は、気密性が優れているので好ましい。

本発明のパネルにおいては、輝尽層と前記保護層体の間
に保護層体よりも低屈折率の層を設けることが好ましい
。

この層が存在することにより、保護層を厚くし３ ても鮮鋭性の低下を小さくすることができる。

この低屈折率層はスペーサにより外部雰囲気から遮断さ
れた状態で存在するものであり、このように低屈折率層
を設けることにより保護層体の厚さを実質的により厚く
することができるために、変換パネルの防湿性及び耐久
性をいっそう向上させることができる。

そのような低屈折率層どしては、空気、窒素、アルゴン
等の不活性な気体からなる層及び真空層などの屈折率が
実質的に１である層；エタノール（屈折率１．３６）、
メタノール（屈折率１．３３）及びジエチルエーテル（
屈折率１．３５）等の液体からなる層にすることもでき
る。低屈折率層はこれ等以外にも、例えば、ＣａＦ２（
屈折率１．２３−１．２６）、Ｎａ、ＡＩＦａ（屈折率
１．３５）、ＭｇＦｚ　（屈折率１．３８）、５１０２
　（屈折率１．４６）等の物質からなる層にすることも
できる。

本発明により製造される変換パネルの低屈折率層として
は、気体層又は真空層であることが、鮮鋭性の低下を防
止する効果が高いことから好ましい。

低屈折率層の厚さは、０．０５μｍ〜３ｍｍまでが実用
的である。

低屈折率層に、鮮鋭性の低下を小さくするという効果を
十分に付与するためには低屈折率層が輝尽層ど密着状態
にあることが好ましい。従って、低屈折率層か液体層、
気体層及び真空層の場合にはそのままでよいか、低屈折
率層を上記のＣａＦ２、Ｎａ５ＡＩＦｉ、ＭｇＦ２．８
１０□などで保護層体の表面に形成した場合などには、
輝尽層と低屈折率層を例えば接着剤などにより密着させ
る。この場合には接着剤の屈折率は輝尽層の屈折率に近
似したものであることが好ましい。

本発明において用いる輝尽性蛍光体は、最初の光もしく
は高エネルギー放射線が照射された後に光的、熱的、機
械的、化学的または電気的等の刺激（輝尽励起）により
、最初の光もしくは高エネルギー放射線の照射量に対応
した輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用的な面から好
ましくは５００ｎｍ以上の輝尽励起光によって輝尽発光
を示す蛍光体である。該輝尽性蛍光体としては、例えば
特開昭５ ６ ４８−８０４８７号に記載されている。Ｂａ５Ｊ　：Ａ
ＸＮ特開昭４８−８０４８９号に記載されている。Ｓｒ
ＳＯ４：ＡＸ、特開昭５３−３９２７７号のＬｉＪａ０
７：Ｃｕ、Ａｇ等、特開昭５４−４７８８３号のＬｉｚ
Ｏ・（Ｂ２０２）　ｘ：ｃｕ及びＬｉ２Ｏ・（Ｂ２０２
）　ｘ：Ｃｕ。

Ａｇ等、米国特許３，８５９，５２７号のＳｒＳ：Ｃｅ
、Ｓ＋＋＋、　ＳｒＳ：ＥｕＳｍ、　ＬａｚＯｚＳ：Ｅ
ｕ、Ｓｍ及び（Ｚｕ、Ｃｄ）Ｓ：Ｍｎで表される蛍光体
が挙げられる。

また、特開昭５５−１２１４２号に記載さ、れているＺ
ｎＳ　：Ｃｕ　、　Ｐｂ蛍光体、一般式ＢａＯ・ｘＡＱ
ｚ０３　：Ｅｕで表されるアルミン酸バリウム蛍光体、
及び一般式Ｍ］］１Ｏ−ｘＳｉＯ２：Ａで表されるアル
カリ土類金属珪酸塩系蛍光体が挙げられる。また、特開
昭５５−１２１４３号に記載されている一般式 ％式％： で表されるアルカリ土類弗化ハロゲン化物蛍光体、特開
昭５５−１２１４４号に記載されている一般式％式％： で表され蛍光体、特開昭５５−１２１４５号に記載され
ている一般式 ％式％： で表される蛍光体、特開昭５５−８４３８９号に記載さ
れている一般式 ％式％ で表される蛍光体、特開昭５５−１６００７８号に記載
されている一般式 ％式％： で表される希土類元素付活２価金属フルオルハライド蛍
光体、一般式ＺｎＳ：　Ａ　、　ＣｄＳ：　Ａ　、　（
Ｚｎ、　Ｃｄ）Ｓ　：Ａ　、　ＺｎＳ：Ａ　、Ｘ及びＣ
ｄＳ：Ａ、Ｘで表される蛍光体、特開昭５９−３８２７
８号に記載されている下記いずれかの一般式 ％式％： ： で表される蛍光体、下記いずれかの一般式ｎＲｅＸ３　
嘩ｍＡＸ　’　２：ｘＥｕｎＲｅＸ、　ＴｍＡＸ　’　
２：ｘＥｕ、　ｙＳｍで表される蛍光体、及び下記一般
式 ％式％： で表されるアルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特
にアルカリハライド蛍光体は、蒸着、スバツタリング等
の方法で輝尽層を形成させやすく好ましい。

しかし、本発明に係る変換パネルに用いられる輝尽性蛍
光体は、前述の蛍光体に限られるものではなく、放射線
を照射した後輝尽励起光を照射した場合に輝尽発光を示
す蛍光体であればいかなる蛍光体であってもよい。

本発明の変換パネルは前記の輝尽性蛍光体の少なくとも
一種類を含む一つ若しくは二つ以上の輝尽層から成る輝
尽層群であってもよい。また、それぞれの輝尽層に含ま
れる輝尽性蛍光体は同一であってもよいが異なっていて
もよい。

本発明の輝尽層は塗布方法、気相成長方法のいづれによ
ってもよい。

本発明のパネルの輝尽層の層厚は、目的とする変換パネ
ルの放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類によって
異なるが、結着剤を含有しない場合ＩＯμｍ−１０００
μｍの範囲、さらに好ましくは２０μｍ〜８００μｍの
範囲から選ばれるのが好ましく、結着剤を含有する場合
で２０μｍ−１０００μｍの範囲、さらに好ましくけ５
０μｍ〜５００μｍの範囲から選はれるのが好ましい。

本発明の変換パネルの支持体としては各種高分子材料、
ガラス、セラミックス、金属等が用いられる。

高分子材料としては例えばセルロースアセテートフィル
ム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカ
ーボネート等のフィルムがあげられる。金属としては、
アルミニウム、鉄、銅、クロム等の金属シートまたは金
属板或は該金属酸化物の被覆層を有する金属シートまた
は金属板が挙げられる。ガラスとしては化学的強化ガラ
スや結晶化ガラスなどがあげられる。またセラミックス
としてはアルミナやジルコニアの焼結板などがあげられ
る。

また、これらの支持体の層厚は用いる支持体の材質等に
よって異なるが、一般的には８０μｍ〜５ｍｍであり、
取り扱い上の点が、さらに好ましくは２００μｍ〜３ｍ
ｍである。

９ ０ これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性蛍
光体層との接着性を向上させる目的でマット面としても
よい。また、支持体の表面は凹凸面としてもよいし、個
々に独立した微小タイル状板を密に配置した表面構造と
してもよい。

さらに、これら支持体上には、輝尽層との接着性を向上
させる目的で輝尽層が設けられる面に下引層を設けても
よいし、必要に応じて光反射層、光吸収層等を設けても
よい。

本発明の変換パネル第３図に概略的に示される放射線画
像変換方法に用いられる。

すなわち、第３図において、４１は放射線発生装置、４
２は被写体、４３は本発明に係る変換パネル、４４は輝
尽励起光源、４５は該変換パネルより放射された輝尽蛍
光を検出する光電変換装置、４６は４５で検出された信
号を画像として再生する装置、４７は再生された画像を
表示する装置、４８は輝尽励起光と輝尽蛍光とを分離し
、輝尽蛍光のみを透過させるフィルタである。尚４５以
降は４３からの光情報を何らかの形で画像として再生で
きるものであればよく、上記に限定されるものではない
。

第３図に示されるように、放射線発生装置４１からの放
射線は被写体４２を通して変換パネル４３に入射する。

この入射した放射線はパネル４３の輝尽層に吸収され、
そのエネルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像が形
成される。

次にこの蓄積像を輝尽励起光源４４からの輝尽励起光で
励起して輝尽発光として放出せしめる。

放射される輝尽発光の強弱は蓄積された放射線エネルギ
ー量に比例するので、この光信号を例えば光電子増倍管
等の光電変換装置４５で光電変換し、画像再生装置４６
によって画像として再生し画像表示装置４７によって表
示することにより、被写体の放射線透過像を観察するこ
とができる。

〔実施例〕

次に本発明を実施例によって説明する。

実施例１ 高さ３００μｍ１幅５ｍｍのスペーサを一体形成した１
　、０ｍｍ厚の結晶化ガラス支持体（４００ｍｍ　ｘ　
５００ｍｍ）を、エレクトロンビーム法（ＥＢ法）によ
る蒸着装置中に設置した。次いで、水冷した坩堝にアル
カリハライド蛍光体（ＲｂＢｒ；Ｏ，０Ｏ０６Ｔｌ）を
入れ、プレスして坩堝の形状に成形した。

続いて、蒸着装置内を排気し、５　Ｘ　１Ｏ−６Ｔｏｒ
ｒの真空度とした。次に、支持体を４０〜４５°Ｃに保
持しながら、ＥＢガンに電力を供給して輝尽性蛍光体を
蒸発させた。

目的とする輝尽層を得るために膜厚モニタにより蒸着速
度が１０５人／ｍｉｎとなるようにコントロールした。

また、電子ビームは坩堝の輝尽性蛍光体表面をラスター
状にスキャンさせた。

輝尽層の層厚が３００μｍとなったところで蒸着を終了
させた。輝尽層の蒸着領域はステンレス板のマスクを用
いて３７０ｍｍＸ　４７０ｍｍとした。

さらにこの上に１．０ｍｍ厚のガラスの保護層体を載置
した後、このものを８０°Ｃで１時間加熱して乾燥させ
、周緋部をエポキシ樹脂系接着剤（Ａ　Ｖ　１３８＋　
ＨＶ　９９８．日本チバガイギー（株）製）を用いて封
止し、第２図（ａ）に示したような変換パネルを製造し
た。１３は支持体ｌに造付けられたスペサである。

既出の符号は前記と同義である。

実施例２ スペーサを支持体ではなく、保護層体に一体成形した以
外は実施例１と同様とした（第２図（ｂ））。

２３は保護層体に造付けられたスペーサである。

実施例３ ２．５ｍｍ幅の互に嵌合するスペーサを支持体と保護層
体の各々とに一体成形し、二重スペーサ構造とし、水分
の通路長Ｗを長くした以外は実施例１と同様とした（第
２図（Ｃ））。

３４３はスペーサ間の接着剤層である。

実施例４ 輝尽層上に７００μｍ厚さの空気層が設けられる様にス
ペーサの高さを１ｍｍとした以外は実施例１と同様にし
た（第２図（ｄ））。

実施例５ 第２図（ｅ）に示す変形パネルを作成した。支持体ｌに
は第１図（Ｃ）の形態を与え、保護層体２の相対する端
縁をコの字形に折込み変形スペー２３− ４− サ２３とし支持体１の鞘体を形成し、支持体と変形スペ
ーサ２３との接着剤層１４３は折込んだスペーサ面と支
持体裏面との接面に設けた。更に封止部材５で封止した
。保護層体スペーサ２３の厚みを１ｍｍとした。パネル
端縁から輝尽層端までの距離が短くなり、マンモ撮影用
に好適である。

比較例（１） スペーサを独立別体とし、第４図に示す従来の態様とし
た以外は実施例１と同様にした。

かくして得られた変換パネルについて、次の特性を調べ
、結果を表１に示した。

相対感度 封止後２時間経過の変換パネルの相対感度を次のように
して調べた。

管電圧８０ＫＶｐのＸ線をｌｏｍＲ照射し、を秒後に半
導体レーザ光（７８０ｎｍ）で輝尽励起し、輝尽性蛍光
体層から放射される輝尽発光を光検出器（光電子倍増管
）で光電変換し、この信号の電圧値Ｖ（、。

を求めた。比較例（１）の変換パネルについて同様にし
て得られた信号の電圧値をＶＯ（１＋とし、Ｖ　（５１
／　ｖｏ（６１をもって相対感度とした。

感度残存率 封止後６０℃、相対湿度９０％の条件で、６，１２゜１
８及び２４ケ月経過後の感度残存率を、鮮鋭性 空間周波数１１２ｐ／ｍｍにおけるＭＴＦ　（変調伝達
関数　％）を求め、変換パネルの鮮鋭性を評価本発明の
パネルは比較例（１）のパネルに比べて感度残存率が高
い。特に実施例３は、水分の拡散通過する通路長が最も
長いため特に良い。また実施例３は、接着面が水平と垂
直方向に分散しているため構造的に、例えば温度変化な
どによる接着剤の収縮による接着面の剥離が起き難く、
耐久性も良好である。

〔考案の効果〕

本発明のパネルにおいては、接着剤層の外部に露呈した
面積（ＬＸｄ）が少いので、微量水分の蛍光体層への侵
入防止に効果的であり、特に水分の影響を受けやすい蛍
光体を用いる場合にも長期に亘って湿度に対する安全性
が高い。

また、スペーサと設ける工程がないので、生産性の高い
パネルの製造が可能となった。

【図面の簡単な説明】

第１図は一体形成されるスペーサの態様例を示す平面図
である。 第２図は実施例の変換パネルの断面図である。 第３図は本発明の変換パネルの使用説明図であ２９− ８− る。 第４図は従来の変換パネルのスペーサ接着部分の拡大断
面図及び部分剥取破断面図である。 ■・・・支持体　　　　　　　２・・・保護層体１３・
・・支持体追付はスペーサ ２３・・・保護層体追付スペーサ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 支持体に設けた輝尽性蛍光体層を、その周囲を取囲むス
   ペーサとその上を掩蔽する保護層体とで密閉した放射線
   画像変換パネルにおいて、前記スペーサが、支持体もし
   くは保護層体の一方に、或は支持体及び保護層体の夫々
   に分割されて、一体形成されていることを特徴とする放
   射線画像変換パネル。