JPH03134905A - 銅ペースト - Google Patents
銅ペーストInfo
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- JPH03134905A JPH03134905A JP27220789A JP27220789A JPH03134905A JP H03134905 A JPH03134905 A JP H03134905A JP 27220789 A JP27220789 A JP 27220789A JP 27220789 A JP27220789 A JP 27220789A JP H03134905 A JPH03134905 A JP H03134905A
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Landscapes
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はAJ2N基板及びAβ203基板用の銅ペース
トに係り、特に低温で焼成でき、しかも接着強度が高く
、且つ半田濡れ性がよく、半田端われも無く、マイグレ
ーションを起こさず、信頼性の高い銅ペーストに関し、
厚膜導体ペーストに好適である。
トに係り、特に低温で焼成でき、しかも接着強度が高く
、且つ半田濡れ性がよく、半田端われも無く、マイグレ
ーションを起こさず、信頼性の高い銅ペーストに関し、
厚膜導体ペーストに好適である。
[従来の技術]
従来より、回路基板の製造法において基板表面にメタラ
イズ層を形成する方法としては、通常Ag、Au、Pd
、Pt等の貴金属を使用し、パッドに使用する抵抗素子
、コンデンサ素子の端子部、相互配線用の導体パターン
の形成及び半導体素子のボンディング、導体、ペースト
の他、抵抗体、誘電体ペーストを印刷して焼成する方法
もある。
イズ層を形成する方法としては、通常Ag、Au、Pd
、Pt等の貴金属を使用し、パッドに使用する抵抗素子
、コンデンサ素子の端子部、相互配線用の導体パターン
の形成及び半導体素子のボンディング、導体、ペースト
の他、抵抗体、誘電体ペーストを印刷して焼成する方法
もある。
貴金属ペーストはAg、Ag−Pd、Ag−Pt、Ag
−Pt−Pd、Au等の貴金属を主としているので高価
であり、また特にAgを主体とするペーストは半田喰わ
れ、マイグレーションの恐れがあることから、AgにP
d、Ptなどを添加して特性の劣化を制御している。
−Pt−Pd、Au等の貴金属を主としているので高価
であり、また特にAgを主体とするペーストは半田喰わ
れ、マイグレーションの恐れがあることから、AgにP
d、Ptなどを添加して特性の劣化を制御している。
このため、安価で且つ半田喰われ、マイグレーションの
恐れのない銅ペーストの開発が試みられるようになり、
種々のタイプのものが提案されている。例えば、特開昭
53−49296号、特開昭56−93396号などが
ある。
恐れのない銅ペーストの開発が試みられるようになり、
種々のタイプのものが提案されている。例えば、特開昭
53−49296号、特開昭56−93396号などが
ある。
しかし、銅ペーストの場合、接着強度を高めるために9
00℃以上の高温で焼成しなければならず、高温焼成す
ると他の実装素子(例えば、ICチップなど)が熱障害
を受けてしまったり、あるいは装置構造上も900℃以
上になると面倒なことになる等の問題があった。。
00℃以上の高温で焼成しなければならず、高温焼成す
ると他の実装素子(例えば、ICチップなど)が熱障害
を受けてしまったり、あるいは装置構造上も900℃以
上になると面倒なことになる等の問題があった。。
本発明は上記従来技術の欠点を解消し、900℃以下の
低温で焼成しても接着力が高く、しかも半田濡れ性に優
れた安価で信頼性の高い銅ペーストを提供することを目
的とするものである。
低温で焼成しても接着力が高く、しかも半田濡れ性に優
れた安価で信頼性の高い銅ペーストを提供することを目
的とするものである。
[課題を解決するための手段]
前記目的を達成するため、本発明者は高純度のAj2N
に対しても900°C以下の低温での焼成により銅ペー
ストの接着強度を増大し得る様々な添加物について検討
した。その際、接着温度を下げ基板の熱膨張係数に近づ
け、しかも作業性、基板との濡れ性、焼成後の酸化雰囲
気中での安定性、熱安定性のほか、併せてシート抵抗等
も改善できる方策について鋭意研究を重ねた。
に対しても900°C以下の低温での焼成により銅ペー
ストの接着強度を増大し得る様々な添加物について検討
した。その際、接着温度を下げ基板の熱膨張係数に近づ
け、しかも作業性、基板との濡れ性、焼成後の酸化雰囲
気中での安定性、熱安定性のほか、併せてシート抵抗等
も改善できる方策について鋭意研究を重ねた。
その結果、銅粉末にガラスフリットを添加した固形成分
中のガラスフリットとして、特定組成のガラスフリット
を用いること、あるいはこれに更に酸化ルテニウム及び
酸化銀を添加することにより可能であることを見出し、
ここに本発明を成したものである6 すなわち、本発明に係る銅ペーストは、重量%でZnO
:5C)−75%、B2O3: 10〜30%、 S
102 : 5〜20%からなるガラス粉末2〜10%
、および残部は銅粉末からなる組成を有する固形成分6
0〜95%に対し、ビヒクル40〜5%を加えて混練し
、ペースト状にしたことを特徴とする銅ペーストであり
、また固形成分として酸化ルテニウムおよび酸化銀の少
なくとも1種が固形成分の0.5〜10%を含む銅ペー
ストであり、更にこれら銅ペーストのガラス成分にPb
Oをガラス成分中に最高15%まで含有させた銅ペース
トに関するものである。
中のガラスフリットとして、特定組成のガラスフリット
を用いること、あるいはこれに更に酸化ルテニウム及び
酸化銀を添加することにより可能であることを見出し、
ここに本発明を成したものである6 すなわち、本発明に係る銅ペーストは、重量%でZnO
:5C)−75%、B2O3: 10〜30%、 S
102 : 5〜20%からなるガラス粉末2〜10%
、および残部は銅粉末からなる組成を有する固形成分6
0〜95%に対し、ビヒクル40〜5%を加えて混練し
、ペースト状にしたことを特徴とする銅ペーストであり
、また固形成分として酸化ルテニウムおよび酸化銀の少
なくとも1種が固形成分の0.5〜10%を含む銅ペー
ストであり、更にこれら銅ペーストのガラス成分にPb
Oをガラス成分中に最高15%まで含有させた銅ペース
トに関するものである。
以下、本発明を更に詳細に説明する。
先ず、本発明における固形成分の限定理由を示す。
ガラス粉末は、銅粉末同士の焼成を促進させると共に基
板と銅ペーストとの密着性を促進する役割を有し、固形
成分全体に対して2〜10%添加するが、その組成は以
下に説明する通り、接着(接合)温度を下げて窒化アル
ミニウム基板との接着強度を充分にし且つ窒化アルミニ
ウム基板との濡れ性、反応性を考慮して決定したもので
ある。
板と銅ペーストとの密着性を促進する役割を有し、固形
成分全体に対して2〜10%添加するが、その組成は以
下に説明する通り、接着(接合)温度を下げて窒化アル
ミニウム基板との接着強度を充分にし且つ窒化アルミニ
ウム基板との濡れ性、反応性を考慮して決定したもので
ある。
ZnOは、ガラスの主成分であり軟化点を下げ、AJ2
N基板との濡れ性を改善する効果がある。しかし、50
%より少ないと上記効果が不充分であり、一方、75%
よりも多いと安定性が不充分となり、結晶化してしまっ
て変態に伴う亀裂が発生するので好ましくない。したが
って、ガラス粉末全体に対するZnO量は50〜75%
の範囲とする。
N基板との濡れ性を改善する効果がある。しかし、50
%より少ないと上記効果が不充分であり、一方、75%
よりも多いと安定性が不充分となり、結晶化してしまっ
て変態に伴う亀裂が発生するので好ましくない。したが
って、ガラス粉末全体に対するZnO量は50〜75%
の範囲とする。
B20.は、含有量が少ないとガラス化しにくくなるの
で、10%以上が必要である。しかし、30%を越える
と水分を吸着し易くなり、安定性に劣る。したがって、
ガラス粉末全体に対するB2O3量は10〜30%の範
囲とする。
で、10%以上が必要である。しかし、30%を越える
と水分を吸着し易くなり、安定性に劣る。したがって、
ガラス粉末全体に対するB2O3量は10〜30%の範
囲とする。
S i O2は、含有量が少ないとガラス化しにくくな
るので5%以上が必要である。しかし、20%を越える
と軟化点が上昇するので好ましくない。したがって、ガ
ラス粉末全体に対するS i O2量は5〜20%の範
囲とする。
るので5%以上が必要である。しかし、20%を越える
と軟化点が上昇するので好ましくない。したがって、ガ
ラス粉末全体に対するS i O2量は5〜20%の範
囲とする。
また、PbOはガラスの軟化点を下げるために必要に応
じて15%までガラス成分として添加が可能である。
じて15%までガラス成分として添加が可能である。
15%を越えると耐水性、耐酸性が悪くなり好ましくな
い。したがってガラス粉末全体に対するPbO量は15
%以下の範囲とする。
い。したがってガラス粉末全体に対するPbO量は15
%以下の範囲とする。
銅ペーストの焼成によって得られる生成膜の熱膨張係数
の調整は、ガラス成分の組成の変更により行なうが、特
にS i 02成分の増加は熱膨張係数を小さくする。
の調整は、ガラス成分の組成の変更により行なうが、特
にS i 02成分の増加は熱膨張係数を小さくする。
なお、固形成分としては」二記ガラス粉末の他に酸化ル
テニウム及び酸化銀粉末を適量で添加することが出来る
。
テニウム及び酸化銀粉末を適量で添加することが出来る
。
酸化ルテニウム及び酸化銀粉末は、焼成工程においてビ
ヒクル等に由来する熱分解残渣の除去に役立つ他、Al
2N基板との接着強度を向上させる効果があり、その添
加量は0.5〜10%である7 05%以下であるとその添加効果はほとんど認められな
い。また10%を越えて添加しても接着性は変化しない
が、いずれも高価な物質であり、それ以上添加してもメ
リットがない。また特に酸化ルテニウム添加の場合、1
0%を越えると半田濡れ性が高くなる傾向が認められた
。このため、それらの添加量は10%以下で添加すれば
足りる。
ヒクル等に由来する熱分解残渣の除去に役立つ他、Al
2N基板との接着強度を向上させる効果があり、その添
加量は0.5〜10%である7 05%以下であるとその添加効果はほとんど認められな
い。また10%を越えて添加しても接着性は変化しない
が、いずれも高価な物質であり、それ以上添加してもメ
リットがない。また特に酸化ルテニウム添加の場合、1
0%を越えると半田濡れ性が高くなる傾向が認められた
。このため、それらの添加量は10%以下で添加すれば
足りる。
もちろん固形成分の残部は実質的に銅粉末からなり、銅
粉末は特に半田濡れ性の向上、シート抵抗の低下の効果
がある。
粉末は特に半田濡れ性の向上、シート抵抗の低下の効果
がある。
以上の固形成分の濃度は、メタライズ面の緻密さに大き
な影響を及ぼすので、60〜95%とする必要がある。
な影響を及ぼすので、60〜95%とする必要がある。
60%未満ではメタライズ面に気孔が多く発生し、半田
濡れ性が悪(なり、シート抵抗も高くなる他、接着強度
も弱くなる。一方、95%を越えると混線が難しく、且
つ印刷性及び転写性が極度に悪くなるので好ましくない
。
濡れ性が悪(なり、シート抵抗も高くなる他、接着強度
も弱くなる。一方、95%を越えると混線が難しく、且
つ印刷性及び転写性が極度に悪くなるので好ましくない
。
また、固形成分の粒度は銅ペーストの緒特性に影響を及
ぼすので、適切に管理することが望ましい。すなわち、
銅粉末の粒度は焼成後のメタライズ状態に大きな影響を
及ぼす。特に粒子が5μm以上になると接着強度が弱く
なるうえに、印刷性も悪くなる。更に、メタライズ面に
気孔が多くなる他、混線の際の分散性も悪くなる。また
、ガラス粉末、酸化ルテニウl1、酸化銀粉末の粒度も
同様の影響を及ぼし、5μm以上になるとペースト中の
分散が悪くなり、接着強度のバラツキが大きくなる。更
に、メタライズ面の平滑性も悪くなるため、半田濡れ性
も良くない。
ぼすので、適切に管理することが望ましい。すなわち、
銅粉末の粒度は焼成後のメタライズ状態に大きな影響を
及ぼす。特に粒子が5μm以上になると接着強度が弱く
なるうえに、印刷性も悪くなる。更に、メタライズ面に
気孔が多くなる他、混線の際の分散性も悪くなる。また
、ガラス粉末、酸化ルテニウl1、酸化銀粉末の粒度も
同様の影響を及ぼし、5μm以上になるとペースト中の
分散が悪くなり、接着強度のバラツキが大きくなる。更
に、メタライズ面の平滑性も悪くなるため、半田濡れ性
も良くない。
このような固形成分は、有機バインダー、有機溶剤等の
ビヒクル成分40〜5%に分散させて混練し、ペースト
にする。有機溶剤としては、テレピネオール。ブチルカ
ルピト−ル、テキサノル、ブチルカルピトールアセテー
トなどを使用でき、有機バインダーとしては、例えばエ
チルセルローズなどを使用できる。
ビヒクル成分40〜5%に分散させて混練し、ペースト
にする。有機溶剤としては、テレピネオール。ブチルカ
ルピト−ル、テキサノル、ブチルカルピトールアセテー
トなどを使用でき、有機バインダーとしては、例えばエ
チルセルローズなどを使用できる。
なお、かかる銅ペーストに使用する固形分は、組成のバ
ラツキをなくし、偏析を少なくし、良質とするいわゆる
メカニカルアロイ法を利用して製造することができる。
ラツキをなくし、偏析を少なくし、良質とするいわゆる
メカニカルアロイ法を利用して製造することができる。
この場合、まず各固形成分の粉末を播潰機、ボールミル
、アトライター等の微粉砕機を用いて高速、高エネルギ
ー下で所要時間混合撹拌して粉砕することにより、各成
分粉末が機械的に噛合結合したいわゆるメカニカルアロ
イ形態の複合粉末が得られる。ついで、この複合粉末に
、あるいはこのような複合粉末を少なくとも含む混合粉
末に前記ビヒクルを加えてペーストにすれば良い。
、アトライター等の微粉砕機を用いて高速、高エネルギ
ー下で所要時間混合撹拌して粉砕することにより、各成
分粉末が機械的に噛合結合したいわゆるメカニカルアロ
イ形態の複合粉末が得られる。ついで、この複合粉末に
、あるいはこのような複合粉末を少なくとも含む混合粉
末に前記ビヒクルを加えてペーストにすれば良い。
銅ペーストの焼成は、基板用の場合は600℃〜850
℃程度の低温で焼成しても3Kg以上の接着強度が得ら
れる。
℃程度の低温で焼成しても3Kg以上の接着強度が得ら
れる。
また、本発明の銅ペーストは窒化・アルミニウム及び酸
化アルミニウム基鈑だけでなく、ムライト基板やグレー
ズ基鈑にも応用できる。
化アルミニウム基鈑だけでなく、ムライト基板やグレー
ズ基鈑にも応用できる。
更に、サーミスターやコンデンサー及びバリスターの電
極としても使用可能である。但し、この場合はそれら素
子の劣化を防ぐために700℃以下の低温で焼成する必
要がある。
極としても使用可能である。但し、この場合はそれら素
子の劣化を防ぐために700℃以下の低温で焼成する必
要がある。
[実施例]
次に、本発明の実施例を示す。
(実施例1)
第1表に示す各粉末を準備し、ビヒクルとしてテキサノ
ールを使用し、バインダーとしてエチルセルローズを使
用して、所定のソリッド(固形成分)濃度となるように
配合し混練してペーストを得た。
ールを使用し、バインダーとしてエチルセルローズを使
用して、所定のソリッド(固形成分)濃度となるように
配合し混練してペーストを得た。
銅粉末は、水素気流中で200°Cで還元処理したもの
を用いた。ビヒクルと粉末との混線には3本ロール・ミ
ルを使用した。ペーストの粘度は、印刷可能な粘度20
0〜250kcpsになるように、特にビヒクル中のエ
チルセルローズにより調整した。
を用いた。ビヒクルと粉末との混線には3本ロール・ミ
ルを使用した。ペーストの粘度は、印刷可能な粘度20
0〜250kcpsになるように、特にビヒクル中のエ
チルセルローズにより調整した。
得られたペーストを用い、高純度の窒化アルミニウム及
び純度96%のアルミナ基板の片面に標準パターンを印
刷した。印刷後のレベリングは15分間とし、乾燥は1
20℃×15分間とした。焼成には厚膜焼成炉を使用し
、窒素雰囲気中で焼成した。焼成条件は60分プロファ
イル、ピーク温度は第1表に示した各温度×10分間と
した。焼成膜厚は14〜18μmであった。
び純度96%のアルミナ基板の片面に標準パターンを印
刷した。印刷後のレベリングは15分間とし、乾燥は1
20℃×15分間とした。焼成には厚膜焼成炉を使用し
、窒素雰囲気中で焼成した。焼成条件は60分プロファ
イル、ピーク温度は第1表に示した各温度×10分間と
した。焼成膜厚は14〜18μmであった。
第1表に特性値(接着強度、半田濡れ性及びシート抵抗
)の評価結果を併記する。
)の評価結果を併記する。
なお、接着強度の測定には、第1図に示すよう1
に、得られた基板1のパターン印刷面2に2 m mロ
バラド3を接着し、これに0.8mmφの錫メツキ銅ワ
イヤ4を取りつけ、90°ビール法にて剥離強度を測定
した。接着強度が3Kg以上の場合を良好とした。
バラド3を接着し、これに0.8mmφの錫メツキ銅ワ
イヤ4を取りつけ、90°ビール法にて剥離強度を測定
した。接着強度が3Kg以上の場合を良好とした。
半田濡れ性は、2mm口パッドを使用し、6/4半田を
溶かし、220℃に温度制御しである半田槽にデイツプ
させ、各パッドの濡れ面積を測定して評価した。濡れ面
積が95%以上の場合に0印、90〜95%の場合にO
印を付してそれぞれ良好と評価し、90%以下の場合に
その程度に応じてΔ印、更にx印を付して不合格と評価
した。
溶かし、220℃に温度制御しである半田槽にデイツプ
させ、各パッドの濡れ面積を測定して評価した。濡れ面
積が95%以上の場合に0印、90〜95%の場合にO
印を付してそれぞれ良好と評価し、90%以下の場合に
その程度に応じてΔ印、更にx印を付して不合格と評価
した。
第1表より、いずれも焼成温度が低温でも高い接着強度
が得られ、半田濡れ性が良好であり、シート抵抗も満足
できる値である。
が得られ、半田濡れ性が良好であり、シート抵抗も満足
できる値である。
実施例1に用いたガラス組成は次の通り。
A : 67.95 ZnO−22,02820
,−10,033in2B : 59.692nO−2
2,02820,−10,035i02−8.26 P
b0C: 54.98 ZnO−25,38,O,−5
,433iO,−14,56Pb0D + 72.
99 Zn0(2,008203−15,013tO
□2 (実施例2) 第2表に示す各粉末を準備し、実施例1の場合と同様に
して、ビヒクルとしてテキザノールを使用し、バインダ
ーとしてエチルセルローズを使用して、所定のソリッド
(固形成分)濃度となるように配合し混練してペースト
を得た。
,−10,033in2B : 59.692nO−2
2,02820,−10,035i02−8.26 P
b0C: 54.98 ZnO−25,38,O,−5
,433iO,−14,56Pb0D + 72.
99 Zn0(2,008203−15,013tO
□2 (実施例2) 第2表に示す各粉末を準備し、実施例1の場合と同様に
して、ビヒクルとしてテキザノールを使用し、バインダ
ーとしてエチルセルローズを使用して、所定のソリッド
(固形成分)濃度となるように配合し混練してペースト
を得た。
得られたペーストを用い、サーミスター(lJn。
Con−N1O−CuO系)に塗布し、120℃×15
分間の乾燥を行なった後、600″CX1.0分間、6
0分プロファイルの条件で厚膜焼成炉を用いて焼成した
。
分間の乾燥を行なった後、600″CX1.0分間、6
0分プロファイルの条件で厚膜焼成炉を用いて焼成した
。
第2表にはサーミスターの特性値を併記する。
第2表よりサーミスターの抵抗値はAg/Pd系ペース
トを用いた時と同様の値を示した。
トを用いた時と同様の値を示した。
このことより、本発明より得られた銅ペーストは安価で
しかも半田濡れ性、耐半田喰われ性に優れた電極として
使用できることが分かった6(以下余白) 4 (実施例3) 実施例I No、7の配合の銅ペースト及び比較のた
め実施例1に準じて固形分としてPb044%−B20
326%−3i0.30%のガラスフリット5%二酸化
ルテニウム3%:残り銅粉末からなる銅ペーストを作成
した。
しかも半田濡れ性、耐半田喰われ性に優れた電極として
使用できることが分かった6(以下余白) 4 (実施例3) 実施例I No、7の配合の銅ペースト及び比較のた
め実施例1に準じて固形分としてPb044%−B20
326%−3i0.30%のガラスフリット5%二酸化
ルテニウム3%:残り銅粉末からなる銅ペーストを作成
した。
エージング試験は、実施例1の接着強度の測定と同じく
第1図に示すようにワイヤーを取り付けた後、150℃
のオーブン中に保持し、所定時間経過後接着強度を測定
した。
第1図に示すようにワイヤーを取り付けた後、150℃
のオーブン中に保持し、所定時間経過後接着強度を測定
した。
また、恒温恒温試験は、ワイヤー取り付は後40℃、相
対湿度95%の・層温恒湿槽中に所定時間保持した後、
接着強度を測定した。
対湿度95%の・層温恒湿槽中に所定時間保持した後、
接着強度を測定した。
結果は第3表に示すが、本発明の銅ペーストは高温での
使用、多湿中での使用においても劣化が起こらないこと
が判る。
使用、多湿中での使用においても劣化が起こらないこと
が判る。
(以下余白)
[発明の効果]
本発明の銅ペーストは、実施例にも示すごとく焼成温度
が600℃の如く低くとも充分な接着強度が得られるた
め、実装するIC等の素子に対する低い耐熱温度の要求
がある場合でも使用が可能であり、また接着装置も簡易
となる。さらに、銅系のペーストであるため、半田喰わ
れ、マイグレーションもなく、通常のへβ203基板は
もちろんのこと、特にAj2N基板のごとき濡れにくい
基板に対する濡れ性にも優れており、広い適用範囲を有
している。
が600℃の如く低くとも充分な接着強度が得られるた
め、実装するIC等の素子に対する低い耐熱温度の要求
がある場合でも使用が可能であり、また接着装置も簡易
となる。さらに、銅系のペーストであるため、半田喰わ
れ、マイグレーションもなく、通常のへβ203基板は
もちろんのこと、特にAj2N基板のごとき濡れにくい
基板に対する濡れ性にも優れており、広い適用範囲を有
している。
使用するガラスはZnO−B2O3−5iOz系である
から、従来使用されていたpbo−B、O,−3iO□
系のものより耐水性、耐湿性に優れており、このような
フリットを含有しているので、焼成後は耐酸化性もあり
、低温焼成可能なための作業性の向上、ガラス質を選択
しであるので信頼性も高い、極めて有用性の高い銅ペー
ストである。
から、従来使用されていたpbo−B、O,−3iO□
系のものより耐水性、耐湿性に優れており、このような
フリットを含有しているので、焼成後は耐酸化性もあり
、低温焼成可能なための作業性の向上、ガラス質を選択
しであるので信頼性も高い、極めて有用性の高い銅ペー
ストである。
第1図は、
Claims (4)
- (1)重量%でZnO:50〜75%,B2O_3:1
0〜30%,SiO2:5〜20%からなるガラス粉末
2〜10%:および残部銅粉末からなる組成を有する固
形成分60〜95%に対し、ビヒクル40〜5%を加え
て混練し、ペースト状にしたことを特徴とする銅ペース
ト。 - (2)請求項(1)におけるガラス成分が、前記成分に
更にPbOが最高15%を含有することからなる銅ペー
スト。 - (3)重量%でZnO:50〜75%,B_2O_3:
10〜30%,SiO_2:5〜20%からなるガラス
粉末2〜10%:更に酸化ルテニウムおよび酸化銀の少
なくとも1種:0.5〜10%を含み、残部が銅粉末か
らなる組成を有する固形成分60〜95%に対し、ビヒ
クル40〜5%を加えて混練し、ペースト状にしたこと
を特徴とする銅ペースト。 - (4)請求項(3)におけるガラス成分が、前記成分に
更にPbOが最高15%を含有することからなる銅ペー
スト。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27220789A JPH03134905A (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 銅ペースト |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27220789A JPH03134905A (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 銅ペースト |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03134905A true JPH03134905A (ja) | 1991-06-07 |
Family
ID=17510602
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27220789A Pending JPH03134905A (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 銅ペースト |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03134905A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0563838A3 (en) * | 1992-03-30 | 1994-07-06 | Du Pont | Thick film resistor composition |
US5534194A (en) * | 1993-03-30 | 1996-07-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Thick film resistor composition containing pyrochlore and silver-containing binder |
JPH08222852A (ja) * | 1995-02-14 | 1996-08-30 | Nikko Co | 導体充填スルーホールの製造方法 |
JP2004362862A (ja) * | 2003-06-03 | 2004-12-24 | Kyoto Elex Kk | 厚膜導体用導電性ペースト組成物 |
JP2007067300A (ja) * | 2005-09-01 | 2007-03-15 | Asahi Glass Co Ltd | 発光装置およびその製造方法 |
JP2015109299A (ja) * | 2013-12-03 | 2015-06-11 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 放熱性基板 |
JP2016031999A (ja) * | 2014-07-28 | 2016-03-07 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 放熱性基板 |
-
1989
- 1989-10-19 JP JP27220789A patent/JPH03134905A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0563838A3 (en) * | 1992-03-30 | 1994-07-06 | Du Pont | Thick film resistor composition |
US5534194A (en) * | 1993-03-30 | 1996-07-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Thick film resistor composition containing pyrochlore and silver-containing binder |
JPH08222852A (ja) * | 1995-02-14 | 1996-08-30 | Nikko Co | 導体充填スルーホールの製造方法 |
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JP2015109299A (ja) * | 2013-12-03 | 2015-06-11 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 放熱性基板 |
JP2016031999A (ja) * | 2014-07-28 | 2016-03-07 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 放熱性基板 |
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