JPH03131471A - カーボン基板の鏡面仕上げ方法 - Google Patents
カーボン基板の鏡面仕上げ方法Info
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- JPH03131471A JPH03131471A JP1267353A JP26735389A JPH03131471A JP H03131471 A JPH03131471 A JP H03131471A JP 1267353 A JP1267353 A JP 1267353A JP 26735389 A JP26735389 A JP 26735389A JP H03131471 A JPH03131471 A JP H03131471A
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Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、高密度磁気ディスク、感光ドラム、光学用
反射板等の基板として適用されるカーボン基板を表面欠
陥なく表面精度良く平滑に鏡面仕上げし得るようにした
、カーボン基板の鏡面仕上げ方法に関する。
反射板等の基板として適用されるカーボン基板を表面欠
陥なく表面精度良く平滑に鏡面仕上げし得るようにした
、カーボン基板の鏡面仕上げ方法に関する。
周知のように、磁気ディスク用基板としては、主にアル
ミニウム合金製基板（以下、アルミ合金基板という）が
使用され、めっき、スパッタ等の手法により磁性金属か
らなる薄膜を形成するために、鏡面を有するＮｉＰめっ
きが表面に施されたものと、Ｔ酸化鉄等を表面に塗布す
るためにその表面が鏡面仕上げされたものがある。この
うち、塗布型ディスク用のアルミ合金基板の鏡面仕上げ
方法としては、ダイヤモンドターン仕上げを行う方法が
知られており、また、本出願人も最終仕上げにクロス研
磨を用いるようにした方法を逼塞じている（特願昭６３
−７４９２５号）。
ミニウム合金製基板（以下、アルミ合金基板という）が
使用され、めっき、スパッタ等の手法により磁性金属か
らなる薄膜を形成するために、鏡面を有するＮｉＰめっ
きが表面に施されたものと、Ｔ酸化鉄等を表面に塗布す
るためにその表面が鏡面仕上げされたものがある。この
うち、塗布型ディスク用のアルミ合金基板の鏡面仕上げ
方法としては、ダイヤモンドターン仕上げを行う方法が
知られており、また、本出願人も最終仕上げにクロス研
磨を用いるようにした方法を逼塞じている（特願昭６３
−７４９２５号）。
一方、近年、磁気ディスクにおいては、媒体改善による
記録密度の向上、装置の小型化や省エネルギー化により
、より小径で軽量・薄肉の基板が要請されている。その
ため、従来のアルミ合金基板に替わり、炭素材からなる
カーボン基板が開発されている（例えば、特願昭６２−
２８１６６７号等）。
記録密度の向上、装置の小型化や省エネルギー化により
、より小径で軽量・薄肉の基板が要請されている。その
ため、従来のアルミ合金基板に替わり、炭素材からなる
カーボン基板が開発されている（例えば、特願昭６２−
２８１６６７号等）。
このようなカーボン基板は、■硬度が、ＡＩＣＨｖ＝６
０） 、Ｎ ｉ Ｐ （ｌＩｖ＝４５０ ）に比較して
）Ｉｖ ＝ ６５０と高く、また、結晶粒界の無いアモ
ルファスであること、■他元素との反応性は低く、低温
では同形の化合物を作らないので、素材料中に晶出物等
が存在しないこと、■比重１．５〜２．０ （ＡＩ＝
２゜７）と軽量であり、１８０ （ＭＰａ ）程度の
曲げ強度を有し、軽量化が可能であること、等の利点を
備えている。
０） 、Ｎ ｉ Ｐ （ｌＩｖ＝４５０ ）に比較して
）Ｉｖ ＝ ６５０と高く、また、結晶粒界の無いアモ
ルファスであること、■他元素との反応性は低く、低温
では同形の化合物を作らないので、素材料中に晶出物等
が存在しないこと、■比重１．５〜２．０ （ＡＩ＝
２゜７）と軽量であり、１８０ （ＭＰａ ）程度の
曲げ強度を有し、軽量化が可能であること、等の利点を
備えている。
そして、このようなカーボン基板の鏡面仕上げ方法とし
ては、−４に、ラッピングにより鏡面仕上げするように
している。なお、鏡面仕上げが施されたカーボン基板は
、磁気ディスク用基板に限らず、感光ドラム用基板、光
学用反射板、成膜用基板等として適用される。
ては、−４に、ラッピングにより鏡面仕上げするように
している。なお、鏡面仕上げが施されたカーボン基板は
、磁気ディスク用基板に限らず、感光ドラム用基板、光
学用反射板、成膜用基板等として適用される。
しかしながら、上記従来のカーボン基板の鏡面仕上げ方
法においては、カーボン基板表面をラッピングにより鏡
面仕上げを行うため、砥粒の選定を誤ると表面に多数の
チッピングが発生し、また、得られる表面粗度（平均粗
さＲａ）も十分ではなかった。さらに、鏡面加工を行う
ためには何段階にも砥粒を切り換える必要があるため、
生産性が悪くコスト高になるという欠点があった。
法においては、カーボン基板表面をラッピングにより鏡
面仕上げを行うため、砥粒の選定を誤ると表面に多数の
チッピングが発生し、また、得られる表面粗度（平均粗
さＲａ）も十分ではなかった。さらに、鏡面加工を行う
ためには何段階にも砥粒を切り換える必要があるため、
生産性が悪くコスト高になるという欠点があった。
二の発明は、上記従来の問題点を解決するためになされ
たものであって、炭素材からなるカーボン基板の表面を
欠陥を生じることなく表面精度良く平滑に、しかも容易
に鏡面仕上げすることができる、カーボン基板の鏡面仕
上げ方法の提供を目的とする。
たものであって、炭素材からなるカーボン基板の表面を
欠陥を生じることなく表面精度良く平滑に、しかも容易
に鏡面仕上げすることができる、カーボン基板の鏡面仕
上げ方法の提供を目的とする。
上記の目的を達成するために、この発明によるカーボン
基板の鏡面仕上げ方法は、炭素材からなるカーボン基板
の鏡面仕上げ方法において、最終表面仕上げに際し、有
機酸によりＰＨを８以下に調整したコロイダルシリカ溶
液を研磨剤として用い、カーボン基板加工面を研磨する
ことを特徴としている。
基板の鏡面仕上げ方法は、炭素材からなるカーボン基板
の鏡面仕上げ方法において、最終表面仕上げに際し、有
機酸によりＰＨを８以下に調整したコロイダルシリカ溶
液を研磨剤として用い、カーボン基板加工面を研磨する
ことを特徴としている。
以下、この発明を完成するに至った経緯とともにこの発
明の詳細な説明する。
明の詳細な説明する。
まず、両面ラッピング装置を使用して固定砥粒を用いる
場合と、遊離砥粒を用いる場合でのカーボン基板の表面
状態の比較を行った。
場合と、遊離砥粒を用いる場合でのカーボン基板の表面
状態の比較を行った。
すなわち、両面ラッピング装置の上下定盤にカーボン基
板の表面研削用としてＰＶＡ砥石（ポリビニルアルコー
ルを結合剤、ＳｉＣを砥粒とする砥石）を貼り付けて裏
面仕上げを行ったところ、８００番から３０００番程度
０ＰＶＡ砥石による表面仕上げにおいては、研削目が残
り、鏡面は得られなかった。
板の表面研削用としてＰＶＡ砥石（ポリビニルアルコー
ルを結合剤、ＳｉＣを砥粒とする砥石）を貼り付けて裏
面仕上げを行ったところ、８００番から３０００番程度
０ＰＶＡ砥石による表面仕上げにおいては、研削目が残
り、鏡面は得られなかった。
次に、ＰＶＡ砥石等による所定の表面加工を施した後、
不織布である研磨クロス（商品名、サーフィン０１８−
３）を両面ラッピング装置の上下定盤に貼り付け、鏡面
を得るべきカーボン基板を装置のキャリヤーに取り付け
、遊離砥粒を含む研磨剤を種々用いて研磨試験を実施し
た。その結果、有機酸でＰＨを８以下に調整したコロイ
ダルシリカ溶液を研磨剤として用いた場合に、チッピン
グ、スクラッチ及びピント等の表面欠陥を生じることな
く平滑な表面精度の良い鏡面が得られた。
不織布である研磨クロス（商品名、サーフィン０１８−
３）を両面ラッピング装置の上下定盤に貼り付け、鏡面
を得るべきカーボン基板を装置のキャリヤーに取り付け
、遊離砥粒を含む研磨剤を種々用いて研磨試験を実施し
た。その結果、有機酸でＰＨを８以下に調整したコロイ
ダルシリカ溶液を研磨剤として用いた場合に、チッピン
グ、スクラッチ及びピント等の表面欠陥を生じることな
く平滑な表面精度の良い鏡面が得られた。
この場合、ＰＨが８を超えると、カーボン基板表面には
スクラッチが多く発生する。つまり、有機酸によりＰＨ
を８以下に調整することによりスクラッチが皆無となる
理由は、必ずしも明確ではないが、次のことが考えられ
る。すなわち、上記研磨剤のＰ Ｈが８を超える場合に
は、研磨に際して、ギーという研摩台が生じる。これに
対して、ＰＨが８以下の場合には研摩台が発生しない。
スクラッチが多く発生する。つまり、有機酸によりＰＨ
を８以下に調整することによりスクラッチが皆無となる
理由は、必ずしも明確ではないが、次のことが考えられ
る。すなわち、上記研磨剤のＰ Ｈが８を超える場合に
は、研磨に際して、ギーという研摩台が生じる。これに
対して、ＰＨが８以下の場合には研摩台が発生しない。
この現象からみて、有機酸によりＰＨを８以下に調整す
ることにより、研摩時の潤滑性が改善されるものと措定
される。
ることにより、研摩時の潤滑性が改善されるものと措定
される。
以下、この発明の実施例を示す。
板厚１ 、２１ｍｍの３．５インチ基板に成形されたカ
ーボン基板に所定の端面加工を施して表面加工前のカー
ボン基板とした。そして、この磁気ディスク用の基板の
両表面を８００番のＰＶＡ砥石によって研削加工し、次
いで以下に示す研磨条件にて最終表面仕上げとしての研
磨を行ってから、中性洗剤、純水にて洗浄し、ＩＰＡ（
イソプロピルアルコール）、フロンにて乾燥後、その表
面性伏を観察した。さらに、鏡面が施されたカーボン基
板表面上に、Ｃｒ（厚み３０００人）−＋ＣｏＮ１Ｃｒ
（厚み６００人）→Ｃ（厚み３００人）を順にスパッタ
ーしてメディアを作製した後、その表面のシミ観察及び
エラー試験を実施した。この際、比較例としてアルミ合
金基板についても同様の手順にて研磨による最終表面仕
上げを行った。これらの結果を第１表に示す。また、こ
の発明による鏡面仕上げ方法によって得られたカーボン
基板の表面粗度（平均粗さＲａ）を従来のラッピングに
よる鏡面仕上げにおけるそれとともに第２表に示す。
ーボン基板に所定の端面加工を施して表面加工前のカー
ボン基板とした。そして、この磁気ディスク用の基板の
両表面を８００番のＰＶＡ砥石によって研削加工し、次
いで以下に示す研磨条件にて最終表面仕上げとしての研
磨を行ってから、中性洗剤、純水にて洗浄し、ＩＰＡ（
イソプロピルアルコール）、フロンにて乾燥後、その表
面性伏を観察した。さらに、鏡面が施されたカーボン基
板表面上に、Ｃｒ（厚み３０００人）−＋ＣｏＮ１Ｃｒ
（厚み６００人）→Ｃ（厚み３００人）を順にスパッタ
ーしてメディアを作製した後、その表面のシミ観察及び
エラー試験を実施した。この際、比較例としてアルミ合
金基板についても同様の手順にて研磨による最終表面仕
上げを行った。これらの結果を第１表に示す。また、こ
の発明による鏡面仕上げ方法によって得られたカーボン
基板の表面粗度（平均粗さＲａ）を従来のラッピングに
よる鏡面仕上げにおけるそれとともに第２表に示す。
研磨条件
研磨機ニスピードファム社製両面ラッピング機（ＤＳＬ
−９Ｂ） 研磨クロス；サーフィン０１Ｂ−３（商品名）加工圧：
１５０ ｇ／ｃｍ” 加工時間：１０分間、３０分間 研磨剤ニスノーテックスＺＬ（商品名）：水＝１：９ ＰＨ＝２〜１０（有機酸、無機酸にて調整）（以下、余
白） 第１表 第２表 第１表に示すように、最終表面仕上げとして、本発明例
のように有機酸にてＰＨを８以下に調整したコロイダル
シリカ溶液を研磨剤として＠磨した場合には、スクラッ
チのない良好な鏡面が得られ、また、長時間の研磨でも
ピットの発生は見られなかった。さらに、有機酸を用い
たので、洗浄性が良好であり、表面を軽く洗浄するだけ
で容易に研磨粉などを取り除くことができ、メディア作
製後におけるシミによるエラーもなかった。
−９Ｂ） 研磨クロス；サーフィン０１Ｂ−３（商品名）加工圧：
１５０ ｇ／ｃｍ” 加工時間：１０分間、３０分間 研磨剤ニスノーテックスＺＬ（商品名）：水＝１：９ ＰＨ＝２〜１０（有機酸、無機酸にて調整）（以下、余
白） 第１表 第２表 第１表に示すように、最終表面仕上げとして、本発明例
のように有機酸にてＰＨを８以下に調整したコロイダル
シリカ溶液を研磨剤として＠磨した場合には、スクラッ
チのない良好な鏡面が得られ、また、長時間の研磨でも
ピットの発生は見られなかった。さらに、有機酸を用い
たので、洗浄性が良好であり、表面を軽く洗浄するだけ
で容易に研磨粉などを取り除くことができ、メディア作
製後におけるシミによるエラーもなかった。
これに対して、無機酸でＰＨ副調整たコロイダルシリカ
溶液を研磨剤として使用した比較例や、ＰＨ１１整しな
いでＰＨ埴が８を超えたものを使用した比較例では、ス
クラッチの発生が認められるとともに、洗浄性も悪い、
さらに、本発明例と同様にして有機酸にてＰ Ｈを８以
下に調整したコロイダルシリカ溶液を研磨剤として研磨
したアルミ合金基板の場合には、スクラッチの発生が認
められるとともに、長時間研磨を行った際には晶出物の
溶出によりビットが発生した。
溶液を研磨剤として使用した比較例や、ＰＨ１１整しな
いでＰＨ埴が８を超えたものを使用した比較例では、ス
クラッチの発生が認められるとともに、洗浄性も悪い、
さらに、本発明例と同様にして有機酸にてＰ Ｈを８以
下に調整したコロイダルシリカ溶液を研磨剤として研磨
したアルミ合金基板の場合には、スクラッチの発生が認
められるとともに、長時間研磨を行った際には晶出物の
溶出によりビットが発生した。
また、第２表に示すように、この発明による鏡面仕上げ
方法によれば、従来のラッピングによる鏡面仕上げに比
較して、チッピングを生じることなくより平滑な鏡面を
得ることができ、加工圧は５０ ｇ ／ｃｓ”以上で研
磨できるので、従来よりその製作コストを下げることが
できた。
方法によれば、従来のラッピングによる鏡面仕上げに比
較して、チッピングを生じることなくより平滑な鏡面を
得ることができ、加工圧は５０ ｇ ／ｃｓ”以上で研
磨できるので、従来よりその製作コストを下げることが
できた。
なお、上記の実施例では、ｔｒ離砥粒を含むコロイダル
シリカ溶液としてスノーテックスＺＬ（商品名）を用い
た例について説明したが、他のコロイダルシリカ溶液（
例えば、商品名ニスノーテックス２０、同３０、同４０
、同Ｃ１同Ｎ、同Ｓなど）を用いても同様な効果が得ら
れる。また、ＰＨ調整剤としての有機酸は例示したよう
に単独で十分であり、何種類かを混ぜて使用してもよい
がその効果は変わらない。さらに、鏡面仕上げに際して
の工程として、研削→研磨という工程の場合を例示した
が、ラッピング→研磨という工程で行うようにしても良
い、ただし、この場合には、そのコストは前者の場合の
１．６倍稈度になる。また、この発明による鏡面仕上げ
方法は、この種の用途に供し得る種々の方法により作製
されたカーボン基板に適用できる。
シリカ溶液としてスノーテックスＺＬ（商品名）を用い
た例について説明したが、他のコロイダルシリカ溶液（
例えば、商品名ニスノーテックス２０、同３０、同４０
、同Ｃ１同Ｎ、同Ｓなど）を用いても同様な効果が得ら
れる。また、ＰＨ調整剤としての有機酸は例示したよう
に単独で十分であり、何種類かを混ぜて使用してもよい
がその効果は変わらない。さらに、鏡面仕上げに際して
の工程として、研削→研磨という工程の場合を例示した
が、ラッピング→研磨という工程で行うようにしても良
い、ただし、この場合には、そのコストは前者の場合の
１．６倍稈度になる。また、この発明による鏡面仕上げ
方法は、この種の用途に供し得る種々の方法により作製
されたカーボン基板に適用できる。
［発明の効果〕
以上説明したように、この発明によるカーボン基板の鏡
面仕上げ方法では、鏡面仕上げにおける最終表面仕上げ
に際し、有機酸によりＰＨを８以下に調整したコロイダ
ルシリカ溶液を研磨側として用い、カーボン基板加工面
を研磨するようにしたので、チッピング、スクラッチ、
ピット等の表面欠陥を生じることなく、従来より表面精
度の良い平滑な鏡面を生産性良く得ることができる。
面仕上げ方法では、鏡面仕上げにおける最終表面仕上げ
に際し、有機酸によりＰＨを８以下に調整したコロイダ
ルシリカ溶液を研磨側として用い、カーボン基板加工面
を研磨するようにしたので、チッピング、スクラッチ、
ピット等の表面欠陥を生じることなく、従来より表面精
度の良い平滑な鏡面を生産性良く得ることができる。
これにより、この発明による方法によって得られた鏡面
を有するカーボン基板を磁気ディスク用基板や感光ドラ
ム用基板、あるいは光学用反射板等に適用することによ
り、これらの品質向上や軽量・薄肉化に寄与することが
できる。
を有するカーボン基板を磁気ディスク用基板や感光ドラ
ム用基板、あるいは光学用反射板等に適用することによ
り、これらの品質向上や軽量・薄肉化に寄与することが
できる。
Claims (1)
- （１）炭素材からなるカーボン基板の鏡面仕上げ方法に
おいて、最終表面仕上げに際し、有機酸によりＰＨを８
以下に調整したコロイダルシリカ溶液を研磨剤として用
い、カーボン基板加工面を研磨することを特徴とする、
カーボン基板の鏡面仕上げ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1267353A JPH03131471A (ja) | 1989-10-12 | 1989-10-12 | カーボン基板の鏡面仕上げ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1267353A JPH03131471A (ja) | 1989-10-12 | 1989-10-12 | カーボン基板の鏡面仕上げ方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03131471A true JPH03131471A (ja) | 1991-06-05 |
Family
ID=17443639
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1267353A Pending JPH03131471A (ja) | 1989-10-12 | 1989-10-12 | カーボン基板の鏡面仕上げ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03131471A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61291674A (ja) * | 1985-06-17 | 1986-12-22 | Kobe Steel Ltd | 研磨剤 |
| JPH01230471A (ja) * | 1987-11-07 | 1989-09-13 | Kobe Steel Ltd | 炭素材及びそ製造方法 |
| JPH01246068A (ja) * | 1988-03-29 | 1989-10-02 | Kobe Steel Ltd | アルミニウム合金基板の鏡面仕上げ方法 |
-
1989
- 1989-10-12 JP JP1267353A patent/JPH03131471A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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