JPH03124029A - 洗浄処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 （産業上の利用分野） 本発明は、洗浄処理装置に関する。

（従来の技術） 半導体製造工程は、各工程４経て製造されるが、この工
程の橋渡しをする必須工程が洗浄工程である。特に、最
近の半導体集積回路の高集積化、高密度化に伴って超洗
浄環境が必要となり、洗浄技術の良否がデバイス性能や
歩留まりに極めて影響されている。

通常、洗浄方法には、各種の化学的方法や物理的方法が
あり、このうち、超音波エネルギによる超音波洗浄やス
クラバ洗浄あるいは純粋洗浄等の方法が採用され、一般
にはこれらの物理的手法と薬液洗浄等の化学的手法とを
組合せることによりこの種の洗浄が行われている。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、上記の従来例のうち、超音波エネルギに
よる超音波洗浄は、エネルギや時間によっては被処理体
に損傷を与えてしまい、いわゆる過剰な洗浄を引き起こ
すことがあり、また、−枚毎に処理槽に収容したいわゆ
る枚葉式の各処理槽に個別に超音波振動子を配設して洗
浄しているため、構造が複雑でコストアップにもなる等
の課題を有していた６ 本発明は、上記の実情に鑑み、各処理槽に共用する超音
波振動子を配設して全体のコンパクト化を図ると共に、
損傷のない洗浄を図ることにより精密的な被処理体の洗
浄に適した洗浄処理装置を提供することを目的としてい
る。

衾班夙青虜 （課題を解決するための手段） 上記の目的を達成するため、本発明は、処理槽内の被処
理体を超音波洗浄する洗浄処理装置において、被処理体
を一枚づつ垂直状態に収容した複数個の処理槽に共用の
超音波振動子で超音波振動を与えるように構成した洗浄
処理装置である。

（作　用） 本発明は、上述のように一枚づつの被処理体を収容した
複数個の処理槽に共用の超音波振動子で超音波を与える
ように構成したから、搬送機構により搬送された一枚ご
との被処理体を処理槽に垂直状態に挿入させ、槽内に処
理液例えば加熱された薬液を収容して被処理体を浸漬す
ると共に、各処理槽は、温水を収容した保温槽内に収納
されているので、処理槽内の処理液が放熱されることな
く洗浄し、しかも保温槽内に設けた超音波振動子の振動
エネルギが温水を伝播して各処理槽に超音波振動を与え
て処理槽内の処理液が振動することにより処理液の洗浄
性能と振動洗浄とが相俟って効率的に洗浄を行うことが
できる。

（実施例） 以下に、本発明における洗浄処理装置を半導体ウェハの
洗浄装置に適用した例を図面に従って説明する。

本例における洗浄装置は、前工程例えばエツチング工程
を終了した半導体ウェハ１を搬送装置であるアーム機構
のピンセット（図示せず）により一枚づつ垂直状態に吸
着保持して、洗浄工程に搬送し、処理液２を収容した処
理槽３内に１枚毎に垂直状態で、かつ処理槽に非接触で
搬入し、スリット状の搬入ゲート４を被蓋した状態で洗
浄するものである。

第１図において、保温槽６内には、処理槽３内の処理液
２より沸点の高い液体５を収容して、少量の処理液２の
放熱を防止して洗浄機能を有効に発揮させている。本例
においては、内部に９０℃程度に保温された液体５を収
容した保温槽６内に複数個本例においては４個の断面方
形状の縦長の処理槽３の下方部分を保温槽６内に臨まし
め、処理槽３の途中に設けた取付部８を介して保温槽６
に固着されている。また、液体５を収容した保温槽６は
、処理槽３内の処理液２の保温と、保温槽６内の底面に
１台の超音波振動子７を配設し、この超音波振動子７の
振動を各処理４’１９３に伝達し、処理槽３内の薬液２
を振動させて半導体ウェハ１の洗浄を行っている。

この処理槽３は、石英ガラスで形成されており、底部は
円弧状を呈し、内部の両側面に石英ガラスで形成された
スペーサ９．１０を処理槽３と一体に又は別体に形成さ
れており、底面に半導体ウェハ１の垂直状態を保持する
保持部１１を設け、更に、半導体ウェハ１を収納する収
納空間１２の一面のウェハ１の裏面と対面する側にＵ字
形状の挿入溝１３を形成している。

また、処理槽３の上方開口部に形成した鍔部１４にバッ
キング１５を介してゲート部材１６を固着し、このゲー
ト部材１６の上方にスリット状の搬入ゲート４を設け、
更に、ゲート部材１６の両側部に保持板１７を設け、こ
の保持板１７に円弧溝１８を形成し、この円弧溝１８に
長尺状に表面円形体１９を摺動自在に設け、この表面円
形体１９の両端に回動片２０を固着し１回動片２ｏは、
保持板１７の回動軸２１に軸着させ、この回動軸２１を
駆動系の駆動軸と連動させ、回動軸２１を中心に回動片
２０を回動させ、表面円形体１９を円弧溝１８に案内さ
れながら搬入ゲート４を表面円形体１９が閉塞したり、
開放したりするように構成されている。

また、図中２２はオーバーフロー管、２３は薬液の供給
管、２４は排液管である。

次に上記した実施例の作用を説明する。

搬送機構により搬送された半導体ウェハ１を搬入する場
合、駆動系の駆動軸の駆動力を回動軸２１に伝達され、
回動片２０が回動して円弧溝１８内を表面円弧体１９が
摺動して処理槽３の上方開口部のスリット状の搬入ゲー
ト４より長尺状の表面円形体１９が離間してゲート４を
開口させ、次いで、予めオリフラ合わせを完了した半導
体ウエハ１を吸着固定したピンセントにより搬入ゲート
４より搬入した後に、上記の駆動軸を上記とは反対側に
駆動させると、表面円形体１９がゲート４に当接してゲ
ート４を被蓋する。この状態において、加熱された薬液
２（例えば過酸化水素水、フッ酸等の薬液）内に半導体
ウェハ１は浸漬されていると共に、各処理槽３は、温水
５を収容した保温槽６内に収納されているので、処理槽
３内の処理液２が放熱されることなく洗浄し、しかも保
温槽６内に設けた超音波振動子７の振動エネルギが温水
５を伝播して各処理槽３に超音波振動を与えて処理槽３
内の薬液２が振動することにより薬液２の洗浄性能と振
動洗浄とが相俟って効率的に洗浄を行うことができる。

処理工程が終了すると、表面円形体１９を搬入ゲート４
より離間させて処理槽３より半導体ウェハ１を取りだし
次工程に搬送する。

介、１ｔｙ）落Ｕ稈 以上のことから明らかなように、本発明によると、次の
ような有用な効果がある。

各処理槽に共用する超音波振動子を配設して各処理槽に
振動を与えるようにしたので、装置全体のコンパクト化
とコストダウンを図ることができると共に、処理液の保
温と超音波振動子の振動伝達の効率化を図ることにより
、従来に比して効率的な洗浄を行うことができ、精密的
な被処理体の洗浄に適した洗浄処理装置を提供すること
ができる等の効果がある。

上記実施例では、半導体ウェハの洗浄について説明した
が、ＬＣＤ基板の洗浄など洗浄であれば何れにも適用で
きる。

【図面の簡単な説明】

図面は、本発明における洗浄処理装置の一実施例を示し
たもので、第１図は洗浄処理装置の断面図、第２図は第
１図の縦断側面図である。 １・・・・半導体ウェハ（被処理板） ２・・・・処理液　３・・・・処理槽 ６・・・・保温槽　７・・・・超音波振動子第１図 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）処理槽内の被処理体を超音波洗浄する洗浄処理装
   置において、上記処理槽を複数個設け、各処理槽に一枚
   の被処理体を収納し、これらの処理槽に共用の超音波振
   動子で超音波振動を与えるように構成したことを特徴と
   する洗浄処理装置。