JPH03120764A - 光センサ - Google Patents

光センサ

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JPH03120764A
JPH03120764A JP1259131A JP25913189A JPH03120764A JP H03120764 A JPH03120764 A JP H03120764A JP 1259131 A JP1259131 A JP 1259131A JP 25913189 A JP25913189 A JP 25913189A JP H03120764 A JPH03120764 A JP H03120764A
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JP
Japan
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light
photoconductive
photoconductive film
film
films
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Pending
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JP1259131A
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English (en)
Inventor
Kenji Nagano
永野 賢治
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光導電膜と、光導電膜に電圧を印加する手段
とを有する光センサに関する。
〔従来の技術〕
従来の光センサは1つの受光領域下には1つの光電変換
領域を形成していた。第3図は従来例の主要部を示す素
子の断面図である。この従来例はシリコンからなるP型
半導体基板21の光が入射する主面にN型不純物領域2
2を形成したフォトダイオードを光電変換する手段とし
て有し、N型不純物領域22に電気的に接触した信号読
み出し線23を有する光センサである。N型不純物領域
22付近で発生した信号電荷は、P型半導体基板21と
N型不純物領域22との接合容量に蓄積される。かかる
信号電荷は信号読み出し線23を通して外部に読み出さ
れる。このように従来の光電変換素子は1つの受光領域
から1つの波長範囲の信号だけを得ることができる。
第4図は、第3図の従来の光電変換素子を用いて、入射
光のR,G、Bの各波長範囲の成分IR+IO,Inを
得る複合型光電変換素子の例の主要部の断面図である。
この複合型光電変換素子は基本的に第3図の光電変換素
子を3つ配列した構造で、シリコンからなるP型半導体
基板21の光が入射する主面にN型不純物領域22−1
.22−2゜22−3を形成してフォトダイオードとし
、各N型不純物領域に信号読み出し線2:3−1.23
2.23−3が電気的に接触している。N型不純物領域
22−1〜22−3の光の入射面にはそれぞれR,’G
、Bの色フィルター24−1.:242.24−3を形
成している。この光電変換素子によればN型不純物領域
23−1.23−2,233から入射光のR,G、Bの
各波長範囲の成分IR,IO,Inを得ることができる
第4図の光電変換素子のように従来の光電変換素子は、
入射光が含む複数の波長領域の光を別々に光電変換する
場合、各波長領域に対応した複数個の受光領域が必要で
ある。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来の技術に於いては、素子の1つの受光領域への入射
光からある時刻に得られる信号は1つであった。このた
め入射光が含む複数の波長領域の光を別々に電気信号に
変換する場合、各波長領域に対応した複数個の光センサ
が必要であり、素子を配列して撮像装置を構成する場合
に高密度化。
高解像度化の点で不利という問題点があった。本発明の
目的は入射方向に対して光電変換層を多層化し、ある時
刻の素子の1つの受光領域への入射光から該入射光が含
む複数の波長領域の光を別々に電気信号に変換すること
ができる光センサを提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の光センサは、複数の光導電膜が光の入射方向に
対して多層化され、最下層を除く前記各光導電膜が入射
光を部分的に吸収し残りの光を下の光導電膜へ透過する
フィルタ作用を有し、各光導電膜ごとに電圧を印加する
手段を有するというものである。
〔作用〕
1つの受光領域の下に光導電膜が多層化されており、最
下層を除く各光導電膜がかかる膜への入射光を部分的に
吸収し残りの光を下の光導電膜へ透過する。各光導電膜
の吸収する波長領域は異なるので、入射光のうち各光導
電膜に対応した波長領域の光量がこれに相応した量の各
光導電膜の抵抗の変化を生じる。各光導電膜に定電圧を
印加しておればかかる抵抗の変化を電流の変化の形で信
号として出力できる。このように本発明によれば従来の
ように複数の受光領域ではなく、1つの受光領域で複数
の波長領域の信号を得ることができるので、素子を配列
して複数波長領域の撮像を同時に行なう撮像装置を構成
する場合に高密度、高解像度の撮像装置を得ることがで
きる。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
第1図は本発明の第1の実施例の主要部を示す素子の断
面図である。
この実施例は、色フイルタ−,2と光導電膜3a、4a
、5aを交互に積層し、各光導電膜に信号線6,7,8
,9,10.11を電気的に接続し、可視の入射光のレ
ッド(R)、グリーン(G)、ブルーCB)の成分を知
ることができる光導電素子である。光導電膜3a、4a
、5aはポリビニルカルバゾールにトリフェニルメタン
系色素を増感剤として配した同−利料から成る。この材
料は可視光照射によって103倍以上の導電率の増加を
示す。膜厚は1〜10μmである。各光導電膜の吸収光
は該光導電膜の導電率の変化を生ずるので、各光導電膜
に電気的に接続した信号線6と7との間、8と9との間
、10と11との間に定電圧を印加しておれば各光導電
膜が吸収した光量を電流の変化の形で信号として出力で
きる。
フィルタ1,20色はそれぞれシアン(Cy)。
イエロー(Ye)であるとする。フィルタ1,2はそれ
ぞれレッド(R)、ブルー(B)の光の波長範囲を除去
して残りの波長範囲を透過する。そのため光導電膜3a
、4a、5kに入射する光の波長範囲は互いに異なり、
光導電膜3a、4a、5aから得られる信号を用いて入
射光のレッド(R)、グリーン(G)、ブルー(B)の
成分を知ることができる。以下この方法について詳しく
述べる。素子の最上層の光導電膜3aに入射する光Io
を説明のため大雑把にレッド(R)、グリーン(G)、
ブルー(B)の各波長範囲の成分■□、工。。
Iaの合成として 1、=I□+1゜十■3 6一 と表わす。光導電膜3aを透過した後の光■1ばR,G
、Bそれぞれの成分が減少して L=0−αB) I R+ (1−α。)I。+(1−
αB)IBとなる。ここでα8.α。、α8は光導電膜
3a、4a、5mでのR,G、Hの各吸収の割合を表わ
す係数でO≦α8.α0.α8≦1とする。光導電膜か
ら得られる信号Sはかかる膜で吸収されたRlG、B成
分による信号成分の和で表わされるとする。つまり S−β8・R成分吸収量子β6・G成分吸収量+βB−
B成分吸収量 である。ここでβ8.β0.β8は光導電膜3a、4a
、5aでのR,G、Bの吸収光の信号への変換率を表わ
す係数とする。すると光導電膜3aて吸収された成分は
αB I RrαOI(++ αBIBたから、光導電
膜13から得られる信号S1は Sl−β、αRIR+β0α。Io+βBαBIB・・
・・・・ (1)となる。
光導電膜3aを透過した後の光■1はフィルター1に入
射しRの波長範囲が除去される。先導電膜4aに入射す
る光重、は l2=(1−α0)IO+(1−αB)IRとなる。光
導電膜4aを透過した後の光■3はG。
Bそれぞれの成分が減少して l3=(1−αa)2・Ia+(1−αB)2・Inと
なる。光導電膜4bで吸収された成分はα。(1αa)
Ia、αB(1−αB)IBだから、光導電膜4bから
得られる信号S2は S2−β。α0(1−αo)Io+β□αa(1−aB
)In(2) となる。
光導電膜4aを透過した後の光■3はフィルター2に入
射しBの波長範囲が除去される。光導電膜5aに入射す
る光重、は l4= (1−α。)2・I。
となる。光導電膜5aを透過した後の光重、はGの成分
が減少して I5”(1−α。)3・工。
となる。光導電膜5aで吸収された成分はα。(l−α
。)2・Iaだから、光導電膜15から得られる信号S
3は S3−β。α。(1−α。)2・Ia     ・・・
・ (3)となる。α□、α。、α8.β□、β0.β
8は光導電膜の特性として得られる値である。そこで光
導電膜3a、4a、5aからの信号の値St、S2.S
3と(1)〜(3)式を用いれば、入射光重。のR,G
、Bの各波長範囲の成分1.、I。+IBを求めること
ができる。
上の説明では入射光のR,G、B成分を得ることができ
る光導電素子を実現するためにフィルター11.12を
Cy、Yeとしたが、フィルター11.12をCy、Y
e、およびマセンダ(M)のうちの任意の2色の組み合
わせとしても同じ目的を達成できる。また他の色のフィ
ルタを用いれば、他の波長範囲の組の成分に分解できる
。またフィルターと光導電膜の積層数を変えれ噂詞耽≠
≠面図である。
この実施例は、光導電膜3b、4b、5bを各9 層間に透明電極14.15を介して積層したサインドイ
ッチ型ホトセルである。光導電膜3b、4b、5bは厚
さ5C1〜1100nのSb2S3蒸着膜である。その
他PbO膜、CdSe膜などを用いることができる。光
の入射はガラス基板12のどちら側からでもよい。便宜
上、光導電膜3bの側から入射させるものとする。光導
電膜4bには、3bを透過した光が入射するのて青色光
にはあまり感度がない。同様に、5bに入射する光は相
対的に赤の成分が多くなる。各光導電膜を挟む一対の透
明電極間に電圧を印加することによって電流を取り出す
ことができる。
透明電極は例えば酸化インジウムを用いればよい 各光導電膜から得られる信号は正確には光の吸収量とそ
の吸収光の信号への変換率との積を分光感度を有する波
長領域について積分した値に比例する。ここでは説明を
簡単にするため、レッド(R)、グリーン(G)、ブル
ー(B)の各波長範囲内のある波長を代表点とし、各光
導電膜から得0 られる信号はこの3つの波長における光の吸収量とその
吸収光の信号への変換率との積の和に比例すると仮定す
る。すると光導電膜3b、4b、5bからの信号の値S
、、S2.S3は S、=α8.βRIIR+α。1β0IIO+α8、R
8,工8・・ (4) S2=αR2β32(1−α8.βR1)  L十α。
2β。2(1−α0.β。+)Ic+αB2β82(1
−α8、βBl) Is・ ・・ (5) B3−αR3β63(1−αB2βB2)(1−α、1
β8.)■□+α。3β03(1−α。2βG2)(1
−α。1βo+)  I。
+αB3βB3(1−αB2βB2)(1−αB2βB
2)  IE・・・・・  (6) となる。ここでαは光導電膜での吸収の割合を表わす係
数、βは光導電膜での吸収光の信号への変換率を表わす
係数で、光導電膜の特性から与えられる値でO≦α、β
≦1である。α、βの第1添字のR,G、Bはそれぞれ
赤色光、緑色光、青色光が光導電膜で吸収される割合を
表わす係数ないし吸収光の赤色、緑色、青色の各成分の
信号への変換率を表わす係数であることを示し、第2添
字の1.2.3はそれぞれ光導電膜33,34.35に
対応することを示す。そこで光導電膜3b。
4b、5bからの信号の値S、、S2.S3と(4)〜
(6)式を用いれば、入射光重。のB、G、Rの各波長
範囲の成分IB、IQ、IRを求めることができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように入射光が含む複数の波長領域の光を
別々に電気信号に変換するためには、従来の光センサは
各波長領域に対応した複数個の受光領域が必要であるの
に対し、本発明は光導電層を多層化しているので受光領
域は1つでよい。このため光センサを配列して複数波長
領域の撮像を同時に行なう撮像装置を構成する場合に本
発明の光センサによれば高密度、高解像度の撮像装置を
得ることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図;訛二=は本発明の第1の実施例宴=≠の主要部
を示す素子の断面図、第2図(a>は第2の実施例の主
要部を示す平面図、第2図(b)及び(c)はそれぞれ
第2図(a)のx−X線断面図及びY−Y線断面図、第
3図は従来例の主要部を示す素子の断面図、第4図は、
第3図の従来の光電変換素子を用いて入射光のR,G、
Bの各波長範囲の成分を得る光電変換素子の例の主要部
の断面図である。 1.2.24−1.24−2.24.−3・・色フィル
タ、3a、3b、4a、4b、5a、5b−光電変換膜
、6,7,8,9,1.0.]、]・信号線、12・・
・ガラス基板、1B、14,15.16・・透明電極、
21・・シリコンからなるP型半導体基板、22.22
−1〜22−3・・N型不順物領域、23.23−1〜
23−3・・・信号読み出し線。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 複数の光導電膜が光の入射方向に対して多層化され、最
    下層を除く前記各光導電膜が入射光を部分的に吸収し残
    りの光を下の光導電膜へ透過するフィルタ作用を有し、
    各光導電膜ごとに電圧を印加する手段を有することを特
    徴とする光センサ。
JP1259131A 1989-10-03 1989-10-03 光センサ Pending JPH03120764A (ja)

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