JPH0416948B2 - - Google Patents

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JPH0416948B2
JPH0416948B2 JP56110794A JP11079481A JPH0416948B2 JP H0416948 B2 JPH0416948 B2 JP H0416948B2 JP 56110794 A JP56110794 A JP 56110794A JP 11079481 A JP11079481 A JP 11079481A JP H0416948 B2 JPH0416948 B2 JP H0416948B2
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Masatoshi Ida
Kenji Fukuoka
Atsuo Goto
Toshimasa Akagi
Masaharu Imai
Kenji Kimura
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Olympus Corp
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Olympus Optical Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14601Structural or functional details thereof
    • H01L27/14603Special geometry or disposition of pixel-elements, address-lines or gate-electrodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14643Photodiode arrays; MOS imagers
    • H01L27/14645Colour imagers

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
  • Color Television Image Signal Generators (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は固体撮像素子を用いるカラー撮像装置
に関するものである。
固体撮像素子の入射面側に、例えば赤(R)、
緑(G)および青(B)フイルタから成るカラーフイルタ
を配置し、被写体像をこのカラーフイルタにより
色分解して固体撮像素子に結像させてカラー画像
信号を得るようにした単板式カラー固体撮像装置
は従来種々提案されている。このような単板式カ
ラー固体撮像装置においては、固体撮像素子を構
成する受光セルの分光特性により各色に対する感
度が異なり、そのまゝでは良好なカラー画像信号
を得ることができないため、何らかの方法でカラ
ーフイルタの各色に対する感度が見掛上等しくな
るように色感度の補正を行なつている。
第1図は固体撮像素子の代表的な材料であるシ
リコン受光セルの分光特性の一例を示すものであ
る。第1図から明らかなように、シリコン受光セ
ルにおいては波長がほヾ610nmの赤色の相対感
度が0.8であるのに対し、波長がほヾ530nmの緑
色および波長がほヾ470nmの青色の相対感度は
それぞれ0.56および0.4と赤色感度に比べ低く、
かつ各色感度が著しく異なつている。なお、この
ような分光特性を有する固体撮像素子を用いる場
合には、波長が700nm以上の赤外領域の光は撮
影において有害となるため、一般には撮像素子の
前面に赤外カツトフイルタを配置してカツトして
いる。また、この場合赤色感度が他の緑および青
色感度に比して高いことから、この赤外カツトフ
イルタにより赤色波長領域まで一部カツトするこ
とにより、このフイルタに赤色フイルタの透過率
を緑および青色フイルタに比し小さく抑える作用
を兼ねさせることもある。
第1図に示すような分光特性を有する固体撮像
素子を用いる場合の従来の色感度補正方法として
は、カラーフイルタの各色の透過率を変える方
法、色信号の重み付け法、受光セルの受光窓
面積を変える方法、等がある。
上記の色感度補正方法は、第2図aに示すよ
うに緑色フイルタGを順次のライン上で市松状に
配置すると共に、赤色フイルタRおよび青色フイ
ルタBをライン毎交互に緑色フイルタGに隣接し
て配置したカラーフイルタ1を用い、このカラー
フイルタ1の各色フイルタR、G、Bの分光透過
特性をそれぞれ第2図bに示すように設定して、
固体撮像素子の各色フイルタに対応する受光セル
の見掛上の色感度を第2図Cに示すようにほヾ等
しくなるようにして色感度を補正するものであ
る。
また、上記の色感度補正方法は、第3図に示
すように、撮影レンズ2を介してカラーフイルタ
を有する固体撮像素子3上に結像される被写体像
の画素信号を、プリアンプ4およびサンプリング
回路5を経て各色信号に分離した後、緑色信号G
を基準に色感度の低い青色信号Bに対しては重み
付け回路6により1以上の重みをかけ、色感度の
高い赤色信号Rに対しては重み付け回路7により
1以下の重みを付けることにより、色感度を補正
するものである。しかし、この補正方法は、重み
付け回路6および7等の余分な信号処理回路を必
要とするため、構成が複雑かつ高価となる不具合
がある。
更に、上記の色感度補正方法は、第4図に示
すように、固体撮像素子8の赤色フイルタR、緑
色フイルタGおよび青色フイルタBに対応するそ
れぞれの受光セルの受光窓9,10および11の
面積を、この順序で順次大きく形成することによ
り、色感度を補正するものである。しかし、この
場合には固体撮像素子8の全ての受光セルの配列
間隔を最も大きい面積の受光窓すなわち青色フイ
ルタBに対応する受光窓を形成する受光セルに合
わせる必要があるため、受光窓面積が小さい緑色
フイルタGおよび赤色フイルタRに対応する受光
セルにおいて撮影に関与しない無駄な領域が多く
なつて像の再現性したがつて解像度が低下すると
共に、製作上も不利となる不具合がある。
本発明の目的は上述した不具合を解決し、カラ
ーフイルタの各色の透過率を調整したり、余分な
信号処理回路を付加したり、あるいは受光セルの
受光窓の面積を変えたりすることなく、カラーフ
イルタの各色に対応する固体撮像素子の受光セル
の見掛上の色感度がほヾ等しくなるように適切に
構成したカラー撮像装置を提供しようとするもの
である。
本発明は、増幅機能を有する受光セルを多数画
素単位に配列して成る固体撮像素子と、この固体
撮像素子の入射面側に配置した複数の色フイルタ
から成るカラーフイルタとを具えるカラー撮像装
置において、前記各受光セルの光電変換領域で生
成される光電荷を蓄積し、その増幅率を規定する
光電荷蓄積領域の幅および/または厚さを、前記
カラーフイルタの各色に対する感度に応じて設定
して、見掛上の色感度が一様となるように構成し
たことを特徴とするものである。
以下図面を参照して本発明を詳細に説明する。
第5図は本発明のカラー撮像装置に用いる固体
撮像素子の一例の要部の構成を示す断面図であ
る。この固体撮像素子は同一基体上に増幅機能を
有するホトトランジスタより成る多数の受光セル
をマトリツクス状に配列して形成すると共に、各
受光セルの増幅率を、入射面側に配置されるカラ
ーフイルタ(図示せず)の各色に対する感度に応
じて、色感度が見掛上ほヾ等しくなるように設定
したものである。第5図では2個の受光セル21
aおよび21bのみを示すが、個々の受光セルは
n+の同一基体23にn-のコレクタ領域24、P
のベース領域25およびn+のエミツタ領域26
を順次接合すると共に、表面のエミツタ領域26
に信号読出し用の金属配線27を接続して形成す
る。なお、各受光セルの表面はエミツタ領域26
と金属配線27との接続部を除いて酸化膜28で
絶縁被覆する。第5図に示す受光セル21aおよ
び21bはカラーフイルタの異なる色に対応する
もので、本例ではベース領域25の厚さWBa
WBbの寸法を適切に設定することにより、受光セ
ル21aおよび21bにおける色感度が見掛上
ほヾ等しくなるようにこれらの増幅率を設定す
る。すなわち、受光セル21aおよび21bはベ
ース領域25の厚さのみが構造上異なり、増幅率
はベース領域25の厚さが薄い受光セル21bの
方が大きい。なお、この受光セル21bの増幅率
はほヾ(WBa/WBb2に比例して大きくなる。このよ うな厚さの異なるベース領域25の製作法として
は、コレクタ領域24の形成後、先ず深いベース
領域を形成する受光セル21aに対してベースフ
オトリソグラフイツクを行なつてP型不純物を拡
散し、その後受光セル21aおよび21bの双方
のベースフオトリソグラフイツクを行なつて再び
P型不純物を拡散することにより、受光セル21
aにおいては厚いベース領域25を、受光セル2
1bにおいては薄いベース領域25をそれぞれ形
成することができる。その後は、通常のホトトラ
ンジスタの製造工程に従つてエミツタ拡散、金属
配線形成を行なうことにより、増幅率の異なる受
光セル21a,21bを得ることができる。
第6図は本発明のカラー撮像装置に用いる固体
撮像素子の他の例の要部の構成を示す断面図であ
る。この固体撮像素子においては、各受光セルを
裏面照射型でフツク構造より成るNPN型ホトト
ランジスタをもつて構成する。第6図では3個の
受光セル31a,31bおよび31cのみを示す
が、個々の受光セルは同一の真性半導体()基
体33の裏面側にn+層34を介して透明電極3
5を設け、表面側にはPのベース領域36および
n+のエミツタ領域37を順次に接合すると共に、
表面のエミツタ領域37に信号読出し用の金属配
線38を接続して形成する。なお、各受光セルの
表面はエミツタ領域37と金属配線38との接続
部を除いて酸化膜39で絶縁被覆する。第6図に
示す受光セル31a,31bおよび31cはカラ
ーフイルタ(図示せず)の異なる色に対応するも
ので、本例では受光セル31aのベース領域36
の厚さWBaおよび幅LBaを基準とし、受光セル3
1bにおいてはそのベース領域36の厚さWBb
よび幅LBbをそれぞれWBb<WBaおよびLBb−LBa
し、受光セル31Cにおいてはそのベース領域3
6の厚さWBcおよび幅LBcをそれぞれWBc−WBa
よびLBc<LBaとして、受光セル31a,31bお
よび31cにおける色感度が見掛上ほヾ等しくな
るようにそれらの増幅率を設定したものである。
第6図に示すようなフツク構造のホトトランジ
スタより成る受光セルにおいては、透明電極35
に正のバイアス電圧Vs(+)を印加して高抵抗の
i層33をn+層34からベース領域36に至る
まで空乏化した状態で、透明電極35に光が入射
すると、これによりi層33のn+層34の近傍
で電子−正孔対が発生する。この電子−正孔対の
うち電子はn+層34に引き込まれ、正孔はi層
33に加わつている電界により加速されてほヾ飽
和速度でゲート領域36に流れ込み、このゲート
領域36を正に帯電する。ゲート領域36が正に
帯電すると、エミツタ領域37との間が順方向に
バイアスされることになつてこの間の電位障壁が
低くなるから、エミツタ領域37から電子がゲー
ト領域36に注入され、この注入された電子はゲ
ート領域36を通過し、高抵抗のi層33をドリ
フト走行して裏面のn+層34に吸収される。こ
のように表面のn+層すなわちエミツタ領域37
から電子が流出すると、この領域37も電子が不
足して正に帯電され、ついにはベース領域36と
平衡状態に達して電子の流れが停止する。このと
きのエミツタ領域37の電位は、ベース領域36
の電位より拡散電位だけ高くなる。
こゝでベース領域36の電位V(t)は、 V(t)q・s・c・t/Cf+Vbi となる。たヾし、qは単位電荷、sは入射光の光
子密度、cは光速度、tは積分時間、Cfはベース
領域36とエミツタ領域37との間の空乏層容
量、Vbiはベース領域36とエミツタ領域37と
の間の拡散電位を表わす。上式から明らかなよう
に、電位V(t)は入射光強度sおよび積分時間
tに比例し、空乏層容量Cfに反比例する。
第6図において、受光セル31bは受光セル3
1aに比しベース領域36の厚さのみが薄くなつ
ている。したがつて、受光セル31bにおいて
は、エミツタ領域37に接続した金属配線38を
介して画素信号を読出すときに、ベース領域36
の電位変化に応じてエミツタ領域37から透明電
極35に向けて流れる光電流(電子)が、ベース
領域36の厚さWBbが受光セル31aのベース領
域36の厚さWBaよりも薄いから、第5図の場合
と同様にほヾ(WBa/WBb2に比例する受光セル31 aよりも大きな光電流が流れる。また、受光セル
31cは、受光セル31aに比しベース領域36
の幅のみが短くなつている。この場合、例えば
個々の受光セルを正方形で形成したとすると、受
光セル31cのベース領域36の底面積は(LBC
2となり、受光セル31aおよび31cのベース
領域36とエミツタ領域37との間の空乏層容量
をそれぞれCfaおよびCfcとすれば、これらの間に
は、 Cfc=(LBc/LBa2・Cfa が成り立つ。したがつて、受光セル31aおよび
31cのそれぞれのベース領域36の電位をそれ
ぞれVa(t)およびVc(t)とすれば、Vc(t)は Vc(t)=(LBa/LBc2・Va(t) となり、受光セル31aの電位Va(t)よりも
(LBa/LBc2倍高くなる。これは、隣接する受光セル との境界部分で受光セル31cのn+層34近傍
の高抵抗i層33で発生した正孔も強い電界の作
用により、ほヾ確実に受光セル31Cのベース領
域36に流れ込むためと考えられる。
なお、厚いベース領域36の製作法としては、
第5図の場合と同様にベース拡散を2回行なう方
法やその他の方法を採用することができる。ま
た、幅の狭いベース領域36およびエミツタ領域
37はこの部分を形成する際のホトマスクの形を
小さくすることにより形成することができる。
以上のように、第6図においては個々の受光セ
ルのベース領域36の厚さおよび/または幅を適
切に変えて増幅率を設定することにより、各色に
対応する受光セルの色感度を見掛上等しくするこ
とができる。
なお、第6図においては基体33は真性半導体
iに限らず、高抵抗のn-またはp-の基本を用い
ることもできるし、またn+層34を除いて基体
33と透明電極35とをシヨツトキー接触させて
もよい。
第7図は本発明のカラー撮像装置に用いる固体
撮像素子の更に他の例の要部の構成を示す断面図
である。この固体撮像素子は個々の受光セルを第
6図に示した裏面照射型フツク構造のホトトラン
ジスタに信号読出し用の静電誘導トランジスタを
一体に形成して構成したもので、第6図に示す符
号と同一符号は同一作用を成すものを表す。第7
図には1個の受光セル41のみを示すが、個々の
受光セルはホトトランジスタのn+のエミツタ領
域37をフローテイングにして、このエミツタ領
域37に接合してn-のバルク層(ドレイン領域)
42を形成し、このバルク層42に接合してp+
のゲート領域43およびn+のソース領域44を
それぞれ形成して、これらゲート領域43および
ソース領域44をそれぞれワードライン電極45
およびビツトライン電極46に接続して構成す
る。なお、隣接する受光セル間および各受光セル
の表面はワードライン電極45、ビツトライン電
極46の接続部を除いて酸化膜31で絶縁する。
かゝる受光セル41においては、ワードライン電
極45を介して静電誘導トランジスタを導通させ
ることにより、ホトトランジスタのn+のエミツ
タ領域37に表われる画素信号電圧をビツトライ
ン電極46を経て読出すことができる。勿論、本
例においても第6図で説明したと同様に、個々の
受光セルを構成するホトトランジスタのベース領
域36の厚さWBおよび/または幅LBを変えて、
各色に対応する受光セルの色感度が見掛上等しく
なるように各々の増幅率を設定する。
第8図は本発明のカラー撮像装置に用いる固体
撮像素子の更に他の例の要部の構成を示す断面図
である。この固体撮像素子においては、各受光セ
ルを表面照射型でフツク構造より成るNPN型ホ
トトランジスタとこのホトトランジスタでの画素
信号を読出すための読出し用トランジスタとをも
つて構成する。第8図では3個の受光セル51
a,51bおよび51cのみを示すが、個々の受
光セルのホトトランジスタ部51a−1,51b
−1,51c−1および読出し用トランジスタ部
51a−2,51b−2,51c−2は、ホトト
ランジスタ部51a−1,51b−1および51
c−1のベース領域の厚さおよび/または幅の寸
法が異なるものである。ホトトランジスタ部は同
一のP型基体53の表面側に、n+のエミツタ領
域54、Pのベース領域55、P-(n-またはiで
もよい)の高抵抗層56およびn+層57を順次
に接合して形成すると共に、表面のn+層57上
にp-層56が空乏化するに十分な正のバイアス
電圧Vs(+)を印加するための電極58を設けて
構成する。なお、個々の受光セルのホトトランジ
スタ部と読出し用トランジスタ部との間の所要の
部分、隣接する受光セル間、および各受光セルの
所要の電極との接続部を除く表面は酸化膜59で
絶縁する。また、各受光セルの読出し用トランジ
スタは、ホトトランジスタのn+のエミツタ領域
54をソースまたはドレイン領域とする静電誘導
トランジスタ等により構成することができる。第
8図に示す受光セル51a,51bおよび51c
は図示しないカラーフイルタの異なる色に対応す
るもので、本例では受光セル51aのベース領域
55の厚さWBaおよび幅LBaを基準とし、第6図
と同様に受光セル51bにおいてはそのベース領
域55の厚さWBbおよび幅LBbをそれぞれWBb
WBaおよびLBb−LBaとし、受光セル51cにおい
てはそのベース領域55の厚さWBcおよび幅LBc
をそれぞれWBc−WBaおよびLBc<LBaとして、受
光セル51a,51bおよび51cにおける色感
度が見掛上ほヾ等しくなるようにそれらの増幅率
を設定したものである。
第8図に示すようなフツク構造のホトトランジ
スタを有する受光セルにおいては、電極58に高
抵抗層56が空乏化するに十分な正のバイアス電
圧Vs(+)を印加することにより第6図と同様に
動作する。したがつて、受光セル51bにおいて
はほヾ(WBa/WBb2に比例する受光セル51aより も大きな光電流が得られ、また受光セル51cに
おいてはベース領域55の底面積が小さいから、
受光セル51aよりも(LBa/LBc2倍高い読出し電位 を得ることができる。
なお、厚さの異なるベース領域55は、途中の
工程で深いベース領域については2回のベース拡
散を行なうことにより形成することができる。ま
た、ベース領域55の底面積を小さくするには、
この部分を形成する際のホトマスクの形を小さく
するか、あるいは表面より窒素(N)または酸素
(O)をSIMOX法(Separation by Implanted
Oxygen)によつてベース領域55まで打込むこ
とにより、その部分を絶縁層に変えることによつ
て形成するか、または第9図に1つの受光セル6
1のみを示すように絶縁酸化膜59をベース領域
55の方に食込ませることでベース領域55の底
面積を小さくすることができる。なお、第9図に
示す受光セル61は、第8図と同様ホトトランジ
スタ部61−1と読出し用トランジスタ部61−
2とから成るもので、第8図に示す符号と同一符
号は同一作用を成すものを表わす。
なお、本発明は上述した例にのみ限定されるも
のではなく、幾多の変形または変更が可能であ
る。例えば第7図、第8図および第9図に示すよ
うに個々の受光セルをホトトランジスタ部と読出
し用トランジスタ部とをもつて構成する場合に
は、読出し用トランジスタの増幅率を適切に設定
することにより、ホトトランジスタの増幅率と共
動して色感度を補正するよう構成することもでき
る。
以上詳細に説明したように、本発明において
は、増幅機能を有する各受光セルの光電変換領域
で生成される光電荷を蓄積し、その増幅率を規定
する光電荷蓄積領域の幅および/または厚さを、
カラーフイルタの各色に対する感度に応じて設定
して、見掛上の色感度が一様となるように構成し
たから、カラーフイルタの各色の透過率を調整し
たり、余分な信号処理回路を付加したり、あるい
は受光セルの受光窓の面積を変えたりすることな
く、カラーフイルタの各色に対応する固体撮像素
子の受光セルの見掛上の色感度をほぼ等しくする
ことができ、本発明の目的を有効に達成すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はシリコン受光セルの分光特性の一例を
示す線図、第2図a,bおよびcは従来の色感度
補正方法の一例を説明するための線図、第3図お
よび第4図は同じく他の2つの例を説明するため
の線図、第5図、第6図、第7図、第8図および
第9図は本発明のカラー撮像装置に用いる固体撮
像素子のそれぞれの要部の構成を示す断面図であ
る。 21a,21b……受光セル、23……基体、
24……コレクタ領域、25……ベース領域、2
6……エミツタ領域、27……金属配線、28…
…絶縁酸化膜、31a,31b,31c……受光
セル、33……基体、34……n+層、35……
透明電極、36……ベース領域、37……エミツ
タ領域、38……電極、39……絶縁酸化膜、4
1……受光セル、42……バルク層、43……ゲ
ート領域、44……ソース領域、45……ワード
ライン電極、46……ビツトライン電極、51
a,51b,51c……受光セル、51a−1,
51b−1,51c−1……ホトトランジスタ
部、51a−2,51b−2,51c−2……読
出し用トランジスタ部、53……基体、54……
エミツタ領域、55……ベース領域、56……高
抵抗層、57……n+層、58……電極、59…
…絶縁酸化膜、61……受光セル、61−1……
ホトトランジスタ部、61−2……読出し用トラ
ンジスタ部。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 増幅機能を有する受光セルを多数画素単位に
    配列して成る固体撮像素子と、この固体撮像素子
    の入射面側に配置した複数の色フイルタから成る
    カラーフイルタとを具えるカラー撮像装置におい
    て、 前記各受光セルの光電変換領域で生成される光
    電荷を蓄積し、その増幅率を規定する光電荷蓄積
    領域の幅および/または厚さを、前記カラーフイ
    ルタの各色に対する感度に応じて設定して、見掛
    上の色感度が一様となるように構成したことを特
    徴とするカラー撮像装置。
JP56110794A 1981-07-17 1981-07-17 カラ−撮像装置 Granted JPS5814569A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56110794A JPS5814569A (ja) 1981-07-17 1981-07-17 カラ−撮像装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56110794A JPS5814569A (ja) 1981-07-17 1981-07-17 カラ−撮像装置

Publications (2)

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JPS5814569A JPS5814569A (ja) 1983-01-27
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