JPH03119716A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、マスク等の原版の像を半導体クエへ等の被
露光基板上に高精度に焼付転写する露光装置に関する。

［従来の技術］ 半導体集積回路は、近年、ますます高集積化が進められ
ており、それを製造するための露光装置（アライナ）も
転写精度のより高いものが要求されている。例えば、１
００メガビツトＤＲＡＭクラスの集積回路では、線幅０
．２５ミクロン程度のパターンの焼付を可能にする露光
装置が必要となる。

このような超微細パターン焼付用の露光装置として軌道
放射光（ＳＯＲ−Ｘ線）を利用していわゆるプロキシミ
ティ露光を行なうものが提案されている。

この軌道放射光は、水平方向に均一なシートビーム状で
あるため、面を露光するために、■マスクとウェハとを
鉛直方向に穆動して水平方向のシートビーム状Ｘ線で面
走査するスキャン露光方式、 ■シートビーム状Ｘ線を揺動ミラーで反射してマスクと
ウェハ上を鉛直方向に走査するスキャンミラー露先方式
、および ■反射面が凸状に加工されたＸ線ミラーによって水平方
向のシートビーム状Ｘ線を鉛直方向に発散させて露光領
域全体に同時に照射する一括露光方式 等が提案されている。

本発明者等は、この−括露光方式に係るＸ線露光装置を
発案し、先に特願昭６３−７７θψθ号として出願した
。

この先願のＸ線露光装置において、露光光としてのＸ線
は、強度（照度）が水平方向（以下、Ｘ方向という）に
は均一であるが、鉛直方向（以下、Ｙ方向という）には
、例えば第６Ａ図の照度分布曲線で示されるように、中
央で高くそこから上下に離れるに従って低くなるという
強度むらを有している。前記先願においては、それぞれ
長方形の開口を有する２枚の遮蔽板を用い、それらのＹ
方向への移動速度を第６Ｂ図に示すように独立に制御す
ることによって、第６Ｃ図に示すように、露光領域の各
部における露光量を制御している。すなわち、Ｙ方向の
各部分について、遅れて進む側の遮蔽板の開口の先縁１
ａが通過して露光光（Ｘ線）が透過し始めてから先行す
る側の遮蔽板の開口の後縁１ｂが通過して露光光を遮蔽
するまでの時間を制御し、露光領域全体を適正かつ均一
に露光しようとしている。この場合、露光量制御は、露
光領域内で計測された第６Ａ図のようなＹ方向のＸ線強
度分布（以下、プロファイルという）曲線に基づいて行
なわれる。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明者等は、前記先願のＸ線露光装置について、さら
に転写精度の向上を図るべく検討を進めた結果、露光領
域とＸ線束との相対位置変動が転写精度に与える影響を
無視し得ないことを見出した。また、露光量の変動が転
写精度に与える影響を無視し得ないことは周知であるが
、上述のように露光領域内でプロファイル計測を行なう
場合にはリアルタイムで計測することができず、また、
スループットを確保するためには計測の頻度を上げるこ
とができない等の理由により、露光量の変動への対策も
前記先願装置においては不充分であった。

例えば、Ｘ線束がΔｙ変動して、プロファイルが第６Ａ
図の実線の位置から点線の位置へΔｙ変動すると、位置
ｙにおけるＸ線の強度Ｉは、ｉ □Δｙ ｔｙ 変動する。したがって、強度Ｉの変動を例えば０．１％
以下とするためには 　ｙ ｙ としなければならない。具体的には、露光領域のＹ方向
画角寸法が３０ｍｍ、第６Ａ図実線に示すようなプロフ
ァイルが中心線に対して上下対称の２次関数で表わされ
、かつ最低強度は最高強度の８０％であるとすると、 １ Δｙく１０００　０．４／１５”・０４ｍｍとなり、Ｘ
線の強度むらを０．１％以下に抑えるためには、Ｘ線束
の露光領域に対する相対位置変動Δｙを４０μｍ以下に
しなければならないことになる。

また、前記先願装置では、発散光を用いているため、前
記相対位置変動Δｙに伴ないＸ線の露光領域に対する入
射角が変動する。この入射角変動量Δθは、発散点（発
散用凸面ミラーへのＸ線入射位置）と露光領域との間隔
を５ｍとすると、Δθ＝　Δｙ ５０００ となる。そして、この入射角変動Δθにより、マスクと
ウェハとの重ね合わせ誤差（ランアウト誤差）Δδ Δ　δ　＝　Δ　θ　・　Ｇ が発生する。Ｇはマスクとウェハとのプロキシミティギ
ャップ寸法である。したがフて、ギャップ寸法Ｇを５０
μｍとして、この重ね合わせ誤差Δδを例えば０．００
２μｍ以下とするためには、 Δθ＜０．００２１５０ｘ４ｘｌＯ−’ｒａｄすなわち
、 Δｙ＝５ｏｏｏ・Δθ＜０．２ｍｍ としなければならない。

なお、前記Δｙの変動要因としては、ウェハステージの
移動に伴なう露光装置の姿勢変動に起因するもの２００
μｍ程度、温度変動に伴なう相対変位分１０μｍ程度、
および床の振動に伴なう相対変位分２μｍ程度等が推測
される。

この発明は、露光領域と露光光束との相対位置変動およ
び露光光の強度変動をリアルタイムまたはそれに近い状
態で検知することができ、転写精度をさらに向上させる
ことが可能な露光装置を提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段Ｊ 上記目的を達成するためこの発明では、露光装置本体に
設定された露光領域を含む範囲へ向けて強度分布が一様
でない露光用光束を照射して露光を行なう露光装置にお
いて、露光領域外の少なくとも２点に照度検出器を設置
し、これらの照度検出器の出力に基づいて露光光の強度
変動および露光用光束と露光装置本体との相対位置の変
動を検知するようにしている。

そして、前記の相対位置の変動の検知出力は、例えばシ
ャッタ遮光板の駆動状態を記憶する遮光板駆動テーブル
をシフトして露光領域各部における露光量を均一化する
ため、シャッタユニットの姿勢を調整するため、もしく
は露光装置本体の姿勢を調整するため、または露光光が
５ＯＲ−Ｘ線であればＸ線ミラーの姿勢を調整するため
、もしくは露光用光源としてのＳＯＲ装置における電子
軌道を調整するため等に利用される。

［作用］ 上記構成によれば、照度検出器を強度むらを有する露光
用光束中の少なくとも２点に設置している。このため、
露光光の強度変動は各検出器について同一割合の照度変
動成分として検出されるが、露光用光束と露光領域との
相対位置変動は各検出器について異なる割合の照度変動
成分として検出される。したがって、これらの成分を分
別することにより、露光光の強度変動および露光用光束
と露光領域との相対位置変動を検知することができる。

また、各検出器を露光領域外に設置したため、露光動作
の妨げとなることなく、任意の時期に、あるいはリアル
タイムで、露光光の強度変動および露光用光束と露光領
域との相対位置変動を検知することができる。

具体例を挙げて説明する。第３図に示すプロファイルの
露光用光源に対して照度検出器をＡおよびＢ点に配置し
、時刻１＝０における検出器Ａの出力をＩ　ＡＯｓＯｓ
検出器用力ＩＢｏとする。プロファイルがΔｙ、露光光
の強度がｆ　（ｔ）変動（減衰）した後の時刻１＝１に
おける検出器Ａの出力をＩＡ、検出器Ｂの出力をＩｎと
し、Δｙに関し一次近似すると、 ＩＡ　＝　（ＩＡｏ＋ｋＡΔｙ）ｆ　（ｔ）・・・・（
１）Ｉａ＝（Ｉｎ。十に、Δｙ）ｆ　（ｔ）・・・・（
２）が成立する。ここで、 である。

（１）（２）式を解くと、 ｆ　（ｔ）＝　　（ｋａ　　ＩＡ−ｋＡ　Ｉａ　）・・
（３）・・・・　（４） 但し、Ｄ　＝　Ｉ　Ａｏｋａ　−１ａｏｋＡとなる。な
お、Ｄ＝Ｏのときは、ｆ　（ｔ）およびΔｙのいずれも
不定となる。

上記の解を別の表現で表わすと、 ・・・・　（６） となり、露光光束の時間による減衰ｆ　（ｔ）は加重平
均で、露光光束と露光領域の相対位置変動Δｙは差とし
て求まることが分かる。

［効果］ 以上のように、この発明によると、任意の時間における
露光光の強度変動および露光用光束と露光領域との相対
位置変動を検知することができる。

したがって、露光光の強度変動に応じて露光時間を調整
することにより露光量をリアルタイムで制御することが
でき、露光光の強度変動により露光量が変動した際の転
写精度劣化を防止することができる。

また、露光用光束と露光領域との相対位置変動の検知出
力を利用して、シャッタ遮光板の駆動状態を記憶する遮
光板駆動テーブルをシフトさせ、シャッタユニットの姿
勢を調整し、露光装置本体の姿勢を調整し、Ｘ線ミラー
の姿勢を調整し、あるいはＳＯＲ装置における電子軌道
を調整する等し、露光領域内における露光状態を補正制
御するようにすれば、露光状態を常時最適の状態に保持
することができ、結果として転写精度を向上させること
ができる。

さらに、露光領域内におけるプロファイル計測の頭度を
下げてスループットの向上を図ることも可能である。

［実施例］ 第１図は、この発明の一実施例に係るＸ線アライナの構
成を示す。同図において、１１はＳＯＲ装置で、ＳＯＲ
装置台１２上に載置されており、発光点１３よりＸ線１
４を放射する。２１はＸ（水平）方向に細長いシートビ
ーム状の５ＯＲ−Ｘ線１４をＹ（鉛直）方向に拡大する
ためその反射面を凸状に加工された第１ミラー　２２は
第１ミラー２１で発散されたＸ線束１５をその中心軸が
水平となるように反射する第２ミラーである。

第２ミラー２２で反射されたＸ線束は露光用の照明光１
６としてアライナ本体４０に入射される。

２３は第１ミラー２１および第２ミラー２２の周囲を所
望の真空雰囲気とするためのミラーチャンバ、２４は第
１ミラー２１の姿勢を調節するために用いられる第１ミ
ラー駆動装置、２５は第２ミラー２２の姿勢を調節する
ために用いられる第２ミラー駆動装置、２６はミラー架
台である。

３０はシャッタユニットで、シャッタステー３１、シャ
ッタステー３１に取付けられたシャツタ軸３２および３
３ならびに各シャツタ軸３２゜３２問および３３．３３
間に張架されたシャツタ膜３４および３５により構成さ
れている。シャツタ膜３４および３５はそれぞれ各辺が
露光領域の寸法より長い長方形の開口（不図示）を有す
るエンドレススチールベルトにより構成されている。

４１は金等のＸ線不透過材料により転写パターンが形成
されたマスク、４２はマスク４１を搭載して移動可能な
マスクステージ、４３はマスク４１をマスクステージ４
２上に固定するためのマスクチャック、４４はマスク４
１の像を転写しようとするウェハ、４５はウェハ４４を
搭載して移動可能なりエバステージ、４６はウェハ４４
をウェハステージ４５上に固定するためのウェハチャッ
ク、４７はマスクステージ４２およびウェハステージ４
５等を取付けるためのアライナフレーム、４８はアライ
ナフレーム４７が載置されるアライナベース、４９はア
ライナベース４８を床１上に支持するためのエアバネで
ある。アライナベース４８は少なくとも３つのエアバネ
４９により３箇所で支持されている。

５０はシャッタユニット３０．マスクステージ４２上の
マスク４１およびウェハステージ４５上のウェハ４４の
周囲を所望のヘリウム雰囲気とするためのへリウムチャ
ンバである。また、５１゜５２はミラーチャンバ２３と
へリウムチャンバ５０、すなわちアライナ本体４０とを
それぞれの雰囲気を保って接続するための配管スプール
、５３はミラーチャンバ２３とアライナ本体４０とを柔
軟に接続するためのベローズ、５４は照明光１６を透過
してかつミラーチャンバ２３内の真空雰囲気とへリウム
チャンパ５０内のヘリウム雰囲気とを絶縁するベリリウ
ム窓である。ベリリウム窓５４のミラーチャンバ２３側
には露光領域への照明光１６を遮らないように照明光１
６の上下に照明光検出用のＸ線強度検出器６１が設置さ
れている。

第２図は、第１図のアライナにおける照明光１６と露光
領域およびＸ線強度検出器６１設置位置等との関係を示
す、第２図において、２０１は露光領域、２０２はＸ線
検出領域である。照明光１６は露光領域２０１とＸ線検
出領域２０２とを含む領域を照明している。露光領域２
０１外、Ｘ線検出領域２０２内の４隅には１個ずつ計４
個のＸ線強度検出器６１　（６１ａ、　６１　ｂ、　　
６１　ｃ。

６１ｄ）が設置されている。

第１図に戻って、６２は４個のＸ線強度検出器６１出力
よりＸ線強度情報を作成するＸ線強度検出回路部、６３
はＸ線強度検出回路部６２の出力に基づいて前記の式（
３）または（５）の演算を行ない、Ｘ線強度の減衰量ｆ
　（ｔ）を算出するＸ線強度減衰算出部、６４はＸ線強
度減衰量ｆ　（ｔ）に基づいてシャッタ駆動テーブルを
補正するシャッタ駆動テーブル補正部、６５はシャッタ
駆動テーブルに基づいて各時点におけるシャツタ開口の
位置または移動速度を制御するシャッタコントロール部
である。

６６はＸ線強度検出回路部６２の出力に基づいて前記の
式（４）または（６）等の演算を行ない、照明光１６の
アライナ本体４０（すなわち露光領域）に対する相対的
位置変動量Δｙを算出する照明光相対的位置変動算出部
、６７は照明光相対的位置変動量Δｙに基づいて各エア
バネへの空気供給量を調節し、変動量Δｙを最小にすべ
くアライナ本体４０の姿勢を制御するアライナ位置コン
トロール部、６８はエアバネ空気量調節機構である。

第１図のアライナにおいては、まず、キャリッジ（不図
示）に搭載したＸ線照度計（不図示）をを露光領域２０
２内でＹ方向に走査して第３図に示すようなプロファイ
ルを作成する。このプロファイル作成時、Ｘ　ＰＡ強度
検出部６２は各Ｘ線強度検出器６１ａ、６１ｂ、６１ｃ
、ａｉｄの検出出力を取り込み、各検出出力に対応する
情報を出力する。Ｘ線強度減衰算出部６３および照明光
相対的位置変動算出部６６は、それぞれＸ線強度検出器
６１ａと６１ｃの検出出力平均値を前記■６゜として、
また、検出器６１ｂと６１ｄの検出出力平均値を前記１
１１０として記憶する。なお、Ｘ線強度検出器６１ａと
６１ｃの出力、および検出器６１ｂと６１ｄの出力は、
アライナ本体４０の姿勢が標準状態に設定されてときそ
れぞれ等しくなる−ように予め較正されているものとす
る。

露光工程中は、Ｘ線強度検出部６２が１ウエハの第１シ
ヨツト露光の直前等、必要に応じてＸ線強度検出器６１
ａ、６１ｂ、８１ｃ、６１ｄの出力を取り込み、Ｘ線強
度減衰算出部６３および照明光相対的位置変動算出部６
６がこれらの検出情報および前記ｔＡｏとｔｗｏに基づ
いて、前記の減衰量ｆ　（ｔ）および相対的位置変動量
Δｙを算出する。また、照明光１６と露光位置２０１と
がＺ軸（照明光１６の光軸）回りの回転を起こしている
場合には、第４図に示すように、Ｘ線強度検出器６１ａ
と６１ｃの出力および検出器６１ｂとａｉｄの出力に差
が生じる。照明光相対的位置変動算出部６６は、Ｘ線強
度検出器６１ａおよびＢｌｂの検出出力平均値と検出器
６１ｃおよびと６１ｄの検出出力平均値との差に基づい
て、Ｚ軸回りの回転ずれ量Δω２も算出する。

シャッタ駆動テーブル補正部６４はＸ線強度減衰量ｆ　
（ｔ）に基づいてシャッタ駆動テーブルを補正し、シャ
ッタコントロール部６５はシャッタ駆動テーブルに基づ
いて露光時間を制御する。これにより、Ｘ線強度が減衰
等に変動しても露光量を適切に補正することができる。

また、アライナ位置コントロール部６７は照明光相対的
位置変動量ΔｙおよびΔω２に基づいて各エアバネへの
空気供給量を調節し、アライナ本体４０の姿勢を制御す
る。これにより、照明光１６とアライナ本体４０、した
がって露光領域との相対的位置を一定に保ち、クエハ４
４の露光状態を、常時、転写誤差が最小となる状態に維
持するようにしている。

第５図は、この発明の第２の実施例に係るＸ線アライナ
の構成を示す。同図のアライナは、照明光相対的位置変
動量Δｙをシャツタ膜３４および３５の位置基準をシフ
トして露光領域２０１における露光量の均一化を図るも
のである。すなわち、第６Ａ図に示すように相対位置が
Δｙ変動することによる現プロファイル２１の基準プロ
ファイル１１に対するずれΔｙを、シャツタ膜３４およ
び３５の位置基準を第６Ｂ図に示すようにシフトするこ
とによりシャツタ開口の先ｉ１ａを２ａに、後縁１ｂを
２ｂにΔｙシフトしている。これにより、シャツタ開口
の先縁２ａが通過してから後縁２ｂが通過するまでの時
間が、第６Ｃ図に示すようにプロファイル２１のシフト
量に応じてシフトされ、露光領域２０１全域における露
光量の均一化が図られる。第５図のアライナは、シャッ
タ駆動テーブル６４をＸ線強度減衰算出部６３および照
明光相対的位置変動算出部６６の双方に基づいて補正す
るように構成しただけであるため、第１図のものに対し
、Δｙの補正にアライナ位置コントロール部６７および
エアバネ空気量調節機構６８を必要とせず、該機構をも
ともと用いないアライナにおいては構成を簡略化するこ
とができる。但し、第５図のアライナにおいては、前記
のランアウト誤差は補正されない。

第７図は、この発明の第３の実施例の構成を示す。同図
のアライナは、照明光相対的位置変動量ΔｙおよびΔω
２を第２ミラー２２を姿勢制御して露光領域２０１にお
ける露光量の均一化を図るもので、第１図のアライナ位
置コントロール部６７の代わりに、第２ミラー駆動装置
２５を制御するミラー姿勢コントロール部７６８を設け
である。この場合も、構成を簡略化できる可能性がある
が、前記のランアウト誤差は補正されない。

第８図は、この発明の第４の実施例を示す。同図のアラ
イナは、Ｘ線強度検出器６１がベリリウム窓５４のアラ
イナ本体４０側に設置されていることを除けば、第１図
のアライナと全く同様に構成されている。第１図のアラ
イナは、Ｘ線強度検出器６１を超高真空内に設置するた
め、Ｘ線強度検出器６１の寿命向上を期待することがで
きる。

一方、第８図のアライナは、可視光をベリリウム窓５４
でカットするため、Ｘ線強度検！ｌｆｌ！器６１の検出
精度の向上を期待することができる。

第５図および第７図のアライナにおいても、第８図のも
のと同様、Ｘ線強度検出器６１をベリリウム窓５４のア
ライナ本体４０側に設置することが可能である。

第９図は、この発明の第５の実施例を示す。同図のアラ
イナは、シャッタユニット３０をシャッタ姿勢制御装置
９３１を介してシャッタステー３１に取付け、Ｘ線強度
検出器６１をシャッタユニット３０上に設置し、さらに
第７図のミラー姿勢コントロール部７６８の代わりに、
照明光相対的位置変動算出部６６の照明光相対的位置変
動量ΔｙおよびΔθ（Δω２）に基づいてシャッタ姿勢
制御装置８３１を駆動するシャッタ姿勢制御部９６９を
設けたものである。第９図のアライナにおいては、相対
的位置変動量ΔｙおよびΔθに基づいてシャッタ姿勢制
御装置９３１がシャッタユニット３０を光軸（Ｚ軸）回
りに回転したり垂直（Ｙ軸）方向に上下する。これによ
り、第５図および第７図のアライナと同様に露光領域２
０１における露光量の均一化が図られる。

第１０図は、この発明の第６の実施例を示す。

同図のアライナは、第９図のものに対し、第１図と同様
のアライナ本体コントロール部６７およびエアバネ空気
量調節機構を設け、変動量Δｙはアライナ本体４０を上
下することにより、Δθはシャッタユニット３０を光軸
回りの回転することにより補正するようにしたものであ
る。第１０図のアライナにおいては、第１図のものと同
様に、露光量の均一化とランアウト誤差防止の双方を図
ることができる。

第１１図は、この発明の第６の実施例を示す。

同図のアライナは、第１０図のものに対し、アライナ本
体コントロール部６７およびエアバネ空気量調節機構を
除去し、変動量Δｙの補正は、第５図のアライナと同様
に、シャツタ膜３４および３５の位置基準をシフトして
行なうようにしたものである。第１１図のアライナの第
１０図のアライナに対する得失は、第５図のアライナの
第１図のアライナに対するそれと同様である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明の一実施例に係るＸ線アライナの構
成図、 第２図は、第１図のアライナにおける照明光と露光領域
およびＸ線強度検出器設置位置等との関係を示す説明図
、 第３図は、Ｘ線プロファイルの一例を示す図、第４図は
、照明光と露光領域との光軸回りのずれ検出方式の説明
図、 第５図は、この発明の第２の実施例に係るＸ線アライナ
の構成図、 第６Ａ〜６０図は、第５図アライナの動作説明のための
それぞれ照明強度分布（プロファイル）図、シャッタ駆
動曲線、および露光時間分布図、そして 第７〜１１図は、それぞれこの発明の第３〜６の実施例
に係るＸ線アライナの構成図である。 １ ３ ４ ６ １ ２ ４ ５ ：　ＳＯＲ装置 ：　ＳＯＲ発光点 ：５ＯＲ−Ｘ線 ：照明光 ：第１ミラー ：第２ミラー ：第１ミラー駆動装置 ：第２ミラー駆動装置 ３０：シャッタユニット ３４．３５：シャツタ膜 ４０ニアライナ本体 ４１：マスク ４４：クエハ ６１　（６１ａ　〜６１ｄ）：Ｘ線強度検出器６２：Ｘ
線強度検出回路部 ６３：Ｘ線強度減衰算出部 ６４：シャッタ駆動テーブル補正部 ６５：シャッタコントロール部 ６６：照明光相対的位置変動算出部 ６７：アライナ位置コントロール部 ６８：エアバネ空気置網節機構 ２０１：露光領域 ２０２：Ｘ線検出領域 ７６８：ミラー姿勢コントロール部 ９３１：シャッタ姿勢制御装置 ９６９：シャッタ姿勢制御部 第 図 第 ３ 図 第 ６０図

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. （１）露光装置本体に設定された露光領域を含む範囲へ
   向けて強度分布が一様でない露光用光束を照射する露光
   用光源と、 前記露光用光束中ではあるが前記露光領域外となる点の
   うち少なくとも２点に設置された照度検出器と、 これら２点の照度に基づいて露光光の強度変動および前
   記露光領域と前記露光用光束との相対位置の変動を検知
   する検知手段と を具備することを特徴とする露光装置。
2. （２）前記露光領域内における露光状態を制御する露光
   制御手段をさらに備えた請求項１の露光装置。
3. （３）前記露光制御手段は、遮光板と、この遮光板の位
   置または移動速度を記憶する遮光板駆動テーブルと、こ
   のテーブルに基づいて前記遮光板を駆動するシャッタ駆
   動手段と、前記検知手段からの相対位置変動出力に基づ
   いて前記テーブルをシフトする制御手段とを有し、前記
   露光領域内における遮光板の移動速度を前記露光用光束
   の強度分布に応じて制御することにより該露光領域内に
   おける露光量を均一化するシャッタ手段を含む請求項２
   の露光装置。
4. （４）前記露光制御手段は、前記露光光を透過および遮
   光するシャッタユニットの姿勢を前記検知手段からの相
   対位置変動出力に基づいて調整し前記露光状態を補正す
   る姿勢制御手段を含む請求項２の露光装置。
5. （５）前記露光制御手段は、前記検知手段からの相対位
   置変動出力に基づいて前記露光装置本体の姿勢を調整し
   前記露光状態を補正する姿勢制御手段を含む請求項２の
   露光装置。
6. （６）前記露光用光源はＳＯＲ装置から放射される水平
   方向に細長いシートビーム状のＸ線を垂直方向に拡散す
   るＸ線ミラーを備え、前記露光制御手段は前記検知手段
   からの相対位置変動出力に基づいてこのＸ線ミラーの姿
   勢を調整し前記露光状態を補正する姿勢制御手段を備え
   る請求項２の露光装置。
7. （７）前記露光用光源はＳＯＲ装置を備え、前記露光制
   御手段は前記検知手段からの相対位置変動出力に基づい
   てこのＳＯＲ装置の電子軌道を調整し前記露光状態を補
   正する電子軌道調整手段を備える請求項２の露光装置。
8. （８）前記照度検出器は、前記露光領域外上下の２点に
   設置されたＸ線強度検出器である請求項６または７の露
   光装置。