JPH1126375A

JPH1126375A - 強度分布モニタ手段を有するｘ線集光一括照明装置および該ｘ線集光一括照明装置を備えたｘ線露光装置ならびにデバイス製造方法

Info

Publication number: JPH1126375A
Application number: JP9196564A
Authority: JP
Inventors: Nobuaki Ogushi; 信明大串
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1997-07-07
Filing date: 1997-07-07
Publication date: 1999-01-29

Abstract

(57)【要約】【課題】集光一括照明装置のＳＲビームの光軸とミラ
ーの初期設置作業を容易に行なうことができ、そして集
光されて高強度で均一なＸ線をＸ線露光装置へ供給する
ことができるようになしたＸ線集光一括照明装置を提供
する。【解決手段】電子蓄積リング１から放射されるＳＲビ
ーム２に対する相対的な位置ずれを検出する検出器６、
７を第１ミラー３に対して固定し、第１ミラー３の反射
光の強度分布を検出するＸ線ＣＣＤ１８を第２ミラー９
の近傍に設け、Ｘ線ＣＣＤ１８の検出出力が光学設計値
に等しくなるように駆動手段５により第１ミラー３を駆
動調整し、この駆動調整によりＸ線ＣＣＤ１８の出力が
光学設計値に等しくなったときに検出器６、７により検
出される検出値をオフセットとして保存し、これを指令
値として制御手段８により第１ミラー３の姿勢を制御す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハ等の基板上
にマスクパターンを転写し焼き付けを行なうＸ線露光装
置に関し、特に、Ｘ線露光装置にシンクロトロン放射光
を供給するためのＸ線照明装置の初期設置および設置状
態を確認することができるＸ線照明装置および該Ｘ線照
明装置を備えたＸ線露光装置ならびにデバイス製造方法
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】シンクロトロン放射光（以下、ＳＲとい
う。）を露光光とする従来のＸ線露光システムにおける
Ｘ線照明装置は通常図９に例示するような構成を有して
いる。図９において、１０１はシート状のＳＲビームを
発する電子蓄積リング等からなる光源装置、１０２はシ
ート状のＳＲビーム、１０３はＸ線ミラー、１０５はミ
ラー駆動手段、１０８は制御手段、１１２はＸ線取り出
し窓、１１３は原版であるマスク、１１４はウエハ等の
基板、１１６はウエハステージ、１１７はＸ線ディテク
タであって、電子蓄積リングからなる光源装置１０１か
ら放射されるシート状のＳＲビーム１０２は、Ｘ線ミラ
ー１０３の角度を変えることにより走査され、図示しな
いビームラインを介して露光装置側の露光室内に入射さ
れ、マスク１１３のマスクパターンをウエハ等の基板１
１４に転写するように構成されている。この種のＸ線照
明装置においては、シート状のＳＲビーム１０２はＹ方
向に拡大されてマスク１１３の全面にＳＲビームが照射
するように形成されており、ＳＲビームは集光されてい
ない。

【０００３】そして、Ｘ線照明装置においては、電子蓄
積リング等の光源装置１０１から放射されるシート状の
ＳＲビーム１０２に対するＸ線ミラー１０３の相対位置
や姿勢を高精度に位置決めし設置するすることが要求さ
れており、特開平５−１０００９３号公報等にも記載さ
れているように、ＳＲビームの光軸に対してＸ線ミラー
の姿勢を初期設置するための機構を備えている。具体的
には、Ｚ軸やＸ軸の回転方向（ωＸ）の調整は測量器や
水準器を用いて行なわれ、Ｘ軸やＺ軸の回転方向（ω
Ｚ）の調整は、シート状のＳＲビームの特性を利用して
行なわれ、Ｘ方向に駆動可能な部材にＸ線ディテクタを
装着し、Ｘ方向のビームのずれ（けられ）やＸ方向に駆
動中にＸ線ディテクタの出力が変化しないようにωＺを
調整することにより実現される。また、Ｙ軸の回転方向
（ωＹ）の調整は、ミラー保持部１０４の前後に所定の
位置関係でスリット部材を設置し、下流側のスリットの
後方にＸ線ディテクタを配置し、ωＹ軸を駆動して、Ｘ
線ディテクタの出力が最大になるようにすることで実現
されている。そして、Ｙ軸に関しては、シート状のＳＲ
ビームとミラー反射面のＹ方向のずれにより、マスクに
照射されるＸ線の強度が大きく変動するため、変動する
ＳＲビームに対してミラー面が相対的にずれないよう
に、ミラー保持部１０４に固定されたビーム位置センサ
ー１０６の出力によりＹ方向の相対的位置ずれ量を検出
し、その検出結果に基づいて制御手段１０８によりミラ
ー駆動手段１０５を駆動制御し、ミラー面の位置を調整
している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来技術では、ＳＲビームが集光されていないために
充分な露光強度が得られず、スループット的に充分とは
いえない。その点に鑑み、露光時間を短縮し、露光装置
のスループットを向上するためにより強い強度のＸ線を
露光装置に供給する必要がある。そのためにはＳＲビー
ムを集光するような光学系が有効である。しかし、Ｘ線
の強度を大きくすると、マスクの熱膨張によるパターン
の移動が生じ、重ね合わせ精度の低下や線幅精度の低下
が起こる。これを避けるためにはマスク全面を均一な強
度のＸ線で一括に露光する方法が有効である。これらを
実現するためには、少なくとも２枚のＸ線ミラーを用
い、１枚目のミラーでＳＲビームを集光し、２枚目のミ
ラーでＹ方向に拡大する照明系が考えられる。しかしな
がら、このような照明系においては、２枚のＸ線ミラー
のいずれにおいても、ＳＲビームとミラーのＹ方向のず
れだけではなく、その他の方向のずれによってもマスク
面上でのＸ線の強度分布が不均一となる原因になり得
る。

【０００５】この理由は、ＳＲビームを集光するＸ線照
明系ではＸ線ミラーの反射面のＸ方向は曲率をもってお
り、具体的には、Ｘ方向に凹面になっており、そのため
Ｙ方向以外のＳＲビームと反射面のずれでもマスク面上
のＸ線強度分布が２次元的に変動するからである。した
がって、Ｘ線強度分布に対して敏感な軸に関しては、Ｓ
Ｒビームの光軸とミラー面の位置ずれ量を検出する光軸
検出器が必要であり、さらに、初期設置時はこれらのデ
ィテクタの取り付け誤差を計測し、補正しなければなら
ないけれども、その精度も厳しく、補正する軸も多いた
めに、マスク面上の強度分布を計測して、各軸に分離す
るのは非常に難しいのみならず、大変な労力を必要とす
る。特に、第１ミラーの位置決め精度は殆どの軸が大変
厳しい。

【０００６】そこで、本発明は、上記の従来技術の有す
る未解決の課題に鑑みてなされたものであって、設置精
度が厳しい集光一括照明装置のＳＲビームの光軸と第１
ミラーの初期設置作業を容易に行なうことができ、そし
て集光されて高強度で均一なＸ線をＸ線露光装置へ供給
することができるようになしたＸ線集光一括照明装置お
よびこのＸ線集光一括照明装置を備えたＸ線露光装置な
らびにデバイス製造方法を提供することを目的とするも
のである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のＸ線集光一括照明装置は、シンクロトロン
放射光を光源として、２枚のミラーからなるＸ線集光一
括照明装置において、第２ミラー近傍に第１ミラーの反
射光の強度分布をモニタする手段を設けたことを特徴と
する。

【０００８】さらに、本発明のＸ線集光一括照明装置
は、シンクロトロン放射光を光源として、２枚のミラー
からなるＸ線集光一括照明装置において、シンクロトロ
ン放射光の光軸に対する相対的な位置ずれおよび角度ず
れを検出する検出器を第１ミラーに所定の関係で固定
し、第２ミラー近傍に第１ミラーの反射光の強度分布を
モニタする手段を設け、さらに、前記強度分布をモニタ
する手段の出力が光学設計値に等しくなるように前記第
１ミラーを駆動調整する手段、および前記第１ミラーの
駆動調整により前記強度分布をモニタする手段の出力が
光学設計値に等しくなったときに前記検出器により検出
される相対的な位置ずれおよび角度ずれの検出値をオフ
セットとして保存し、これを指令値として第１ミラーの
姿勢を制御する制御手段を有することを特徴とする。

【０００９】そして、本発明のＸ線集光一括照明装置に
おいては、第１ミラーの反射光の強度分布をモニタする
手段を、ＣＣＤ、蛍光板、Ｘ線ディテクタアレイ、また
は強度分布範囲内において移動可能なＸ線ディテクタで
構成することが好ましく、また、第１ミラーの反射光の
強度分布をモニタする手段を上下動しうるように構成す
ることが好ましい。

【００１０】また、本発明のＸ線露光装置は、請求項１
ないし７のいずれか１項に記載のＸ線集光一括照明装置
を備えたことを特徴とする。

【００１１】さらに、本発明のデバイス製造方法は、請
求項８記載のＸ線露光装置を用いてデバイスを製造する
ことを特徴とする。

【００１２】

【作用】シンクロトロン放射光を光源として、２枚のＸ
線ミラーを用いて、シンクロトロン放射光ビームを集光
しかつ拡大して、露光画角全面に一括で均一な強度のＸ
線を供給するＸ線集光一括照明装置において、第２ミラ
ー近傍に第１ミラーの反射光の強度分布をモニタする手
段を設けることにより、設置精度が厳しい集光一括照明
系のミラーの初期設置および設置状態の確認を容易に行
なうことができる。

【００１３】さらに、シンクロトロン放射光ビームに対
する第１および第２のミラーを精度良く位置合わせする
ことができ、集光されて高強度で強度ムラの少ない均一
な照明光を露光装置の露光画角全面に一括でＸ線を供給
することができ、スループットを向上させ、露光ムラの
少ない露光を行なうことができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。

【００１５】図１は本発明のＸ線集光一括照明装置を備
えたＸ線露光システムを示す概略的構成図であり、図２
は同じく本発明のＸ線集光一括照明装置を備えたＸ線露
光システムを部分的に破断して示す概略的側面図であ
る。図示するＸ線集光一括照明装置は２枚のＸ線ミラー
を用いて電子蓄積リングから放射されるシンクロトロン
放射光（以下、ＳＲという。）のＸ方向を集光し、Ｙ方
向を拡大して、マスク全面を一括で照明するものであ
る。

【００１６】図１および図２において、１はＸ線露光シ
ステムの光源である電子蓄積リングであり、シート状の
ＳＲビーム２を放射する。シート状のＳＲビーム２は、
反射面がＸ方向に凹面に形成されている第１ミラー３に
よりＸ方向に集光される。第１ミラー３は第１ミラー保
持部４に保持され、制御手段８に接続された第１駆動手
段５によって第１ミラー３の位置や姿勢を駆動調整され
るように構成され、また、位置センサ６と角度センサ７
が第１ミラー３に対して所定の関係となるように第１ミ
ラー保持部４に取り付けられている。これらの位置セン
サ６と角度センサ７は、第１ミラー３に対するシート状
のＳＲビーム２の相対位置と相対角度をそれぞれ検出
し、これらの検出信号を制御手段８に送出する。制御手
段８は、これらの検出結果に基づいて第１ミラー３とシ
ート状のＳＲビーム２の相対位置ずれを演算し、その演
算結果により第１ミラー駆動手段５に指令を出すことに
より、第１ミラー３とシート状のＳＲビーム２を所定の
位置関係に維持するように構成されている。

【００１７】第１ミラー３で集光反射されたシート状の
ＳＲビーム２は、第２ミラー９にてＹ方向に拡大反射さ
れ、第２ミラー９は、第１ミラー３と同様に、第２ミラ
ー保持部１０に保持され、そして第２ミラー駆動手段１
１によりその位置や姿勢が駆動調整される。なお、電子
蓄積リング１から放射されるＳＲビーム２の露光光軸
は、図２に図示するように、露光装置側に至るまで超高
真空雰囲気に保たれたビームライン２２、２３、２４内
を通り、また、第１ミラーおよび第２ミラーはそれぞれ
第１および第２の超高真空チャンンバー２５、２６内に
配置されている。そして、２７は露光雰囲気に保持され
た露光チャンバーである。

【００１８】第２ミラー９により拡大反射されたＳＲビ
ームは、超高真空雰囲気と露光雰囲気を隔絶するＸ線取
り出し窓１２を透過して、原版であるマスク１３に描か
れた回路パターンをレジストが塗布された基板であるウ
エハ１４に露光転写する。ウエハ１４はウエハチャック
１５に保持され、ウエハステージ１６によりＸＹ平面に
移動可能である。そして、ウエハステージ１６上にはピ
ンホール付きのＸ線ディテクタ１７が取り付けられてお
り、露光画角内を走査することによりマスク１３面に照
射される露光光の強度分布を計測しうるように構成され
ている。

【００１９】シート状のＳＲビーム２と第１ミラー３お
よび第２ミラー９の位置関係は、高精度に合致されてい
なければ、マスク１３面上において均一な露光強度を得
ることができない。ところで、従来は、特に初期設置に
際して、マスク１３面上において、露光光強度が均一で
あるか否かをウエハステージ１６上のピンホール付きの
Ｘ線ディテクタ１７を露光画角内で走査することにより
強度分布を計測しながら、第１ミラー３および第２ミラ
ー９の各軸を調整していたけれども、調整すべき軸が多
いために非常に大きな手間を要していた。

【００２０】そこで、本発明においては、図１および図
２に示すように、第２の超高真空チャンンバー２６内に
おいて、第２ミラー９の直前にシート状のＳＲビーム２
の強度分布を計測することができるＸ線ＣＣＤ１８を挿
入し、第１ミラー３の反射光の強度分布を計測し、その
強度分布が光学設計とおりになるように、制御手段８を
介して第１ミラー駆動手段５を駆動させ、第１ミラー３
の姿勢を調整するように構成する。なお、Ｘ線ＣＣＤ１
８は、第１ミラー３の反射前のシート状のＳＲビーム２
に対してωＺ方向に高精度に調整されている必要があ
る。そこで、Ｘ線ＣＣＤ１８のシート状のＳＲビーム２
に対するωＺ方向のずれを検出し調整するために、Ｘ線
ＣＣＤ１８をＹ方向に高精度な真直度を有するＹステー
ジ２０上に搭載し、Ｘ線ＣＣＤ１８をωＺ調整位置（図
２において実線で示す上方位置）と第１ミラー調整位置
（図２において破線で示す下方位置）との間をωＺ方向
にずれることなく移動可能に配設する。そして、第１ミ
ラー３と第２ミラー９との間には、通常のビームライン
２３の他に第１ミラー３をシート状のＳＲビーム２の光
軸を妨げないようにＹ方向に退避させたときにシート状
のＳＲビーム２が直進する位置に調整専用のビームライ
ン２１を設けてある。そこで、Ｘ線ＣＣＤ１８の第１ミ
ラー３の反射前のシート状のＳＲビーム２に対するωＺ
方向の調整について、図３に基づいて説明する。Ｘ線Ｃ
ＣＤ１８を図３に図示するωＺ調整位置に位置付け、そ
して、第１ミラー３をシート状のＳＲビーム２の光軸を
妨げないようにＹ方向に退避させることにより、シート
状のＳＲビーム２は調整専用のビームライン２１を通っ
てＸ線ＣＣＤ１８に直接入射する。Ｘ線ＣＣＤ１８は、
シート状のＳＲビーム２の強度分布を検出して、シート
状のＳＲビーム２とＸ線ＣＣＤ１８の相対的なωＺ方向
のずれ量（相対角度）を計測する。このωＺ方向のずれ
量（相対角度）に基づいてＸ線ＣＣＤ１８の姿勢を再調
整するか、あるいはこのずれ量（相対角度）を保存して
第１ミラー調整時の補正量として用いることができる。

【００２１】Ｘ線ＣＣＤ１８およびＹステージ２０は、
第２の超高真空チャンンバー２６に固定的に設置するこ
ともできるが、これらを一体として着脱自在に設置し
て、初期設置時の調整や設置状態の確認時に適宜装着し
て用いるようにすることもでき、このように着脱自在に
設けることにより治具として他の照明装置の調整にも使
用することが可能となる。また、第１ミラー３と第２ミ
ラー９との間には、通常のビームライン２３の他に第１
ミラー３をシート状のＳＲビーム２の光軸を妨げないよ
うにＹ方向に退避させたときにシート状のＳＲビーム２
が直進する位置に調整専用のビームライン２１を設けて
あるけれども、この調整専用のビームライン２１は、露
光光軸と兼用できるようにベローズを有し、下流側を適
宜移動させて付け替えることができるような機構を備え
たビームラインとすることができ、さらに、下流側を大
きく拡大させた一つのビームラインで構成することもで
きる。また、本実施例においては、強度分布をモニタす
る手段として、Ｘ線ＣＣＤを用いているが、同様の計測
を行なうことができる蛍光板、Ｘ線ディテクタアレイ、
あるいはＸＹ平面で移動可能なＸ線ディテクタを用いる
こともできる。

【００２２】以上のように構成された本発明のＸ線露光
システムにおけるＸ線集光一括照明装置の初期設置時の
調整手順を図６に沿って説明する。

【００２３】先ず、前述したようにＸ線ＣＣＤ１８の第
１ミラー３の反射前のシート状のＳＲビーム２に対する
ωＺ方向の調整を行なうべく、Ｘ線ＣＣＤ１８をωＺ調
整位置に位置付け、そして、第１ミラー３をシート状の
ＳＲビーム２の光軸を妨げないようにＹ方向に退避させ
（ステップ２）、Ｘ線ＣＣＤ１８はシート状のＳＲビー
ム２の強度分布を検出し、シート状ＳＲビーム２とＸ線
ＣＣＤ１８の相対的なωＺ方向のずれ量（相対角度）を
計測する（ステップ３）（図３参照）。このωＺ方向の
ずれ量（相対角度）に基づいてＸ線ＣＣＤ１８の姿勢を
調整するか、あるいはこのずれ量（相対角度）を第１ミ
ラー調整時の補正量として用いるように保存する（ステ
ップ４）。

【００２４】その後に、図４に示すように、Ｘ線ＣＣＤ
１８を第１ミラー調整位置に移動させ、そして第１ミラ
ー３をシート状のＳＲビーム２光軸上に移動させ、Ｘ線
ＣＣＤ１８により第１ミラー３の反射光の強度分布を検
出する（ステップ５）。Ｘ線ＣＣＤ１８により検出され
るシート状のＳＲビームの強度分布を図５に図示する。
図５の（ａ）は光学設計から得られる理想的な強度分布
（Ｐｏ）に実際の強度分布（Ｐ）が合致している状態を
示し、第１ミラーの各軸が最適な状態に調整されている
ことを意味するものである。図５の（ｂ）は、Ｘ線ＣＣ
Ｄ１８により検出されるＳＲビームの強度分布（Ｐ）が
同図（ａ）の光学設計とおりの理想的な強度分布（Ｐ
ｏ）に対してＹ方向にずれていることを示す。この原因
としては、第１ミラーのＹ、Ｚ、ωＸ軸のずれが考えら
れるが、主にωＸに対して敏感に変化する。図５の
（ｃ）は、Ｘ線ＣＣＤ１８により検出されるＳＲビーム
の強度分布（Ｐ）が同図（ａ）の光学設計とおりの理想
的な強度分布（Ｐｏ）に対してωＺ方向にずれているこ
とを示す。この原因としては、第１ミラーのＸ、ωＹ、
ωＺ軸のずれが考えられるが、主にωＹに対して敏感に
変化する。このようなＳＲビームの強度分布の光学設計
通りの理想的な強度分布に対するずれの検出結果に基づ
いて、Ｘ線ＣＣＤ１８上の強度分布が設計とおりになる
ように、制御手段８を介して第１ミラー駆動手段５を駆
動させ、第１ミラー３を駆動調整させて各軸の調整を行
なう（ステップ６）。このような各軸の調整によって理
想の強度分布が得られたときに（ステップ７）、その状
態における位置センサ６および角度センサ７の検出値を
保存しておく（ステップ８）。このように、この位置セ
ンサ６および角度センサ７の検出値をオフセットとして
保存しておくことにより、これを指令値として制御手段
８が第１ミラー駆動手段５に指令を出すことで、シート
状のＳＲビーム２と第１ミラー３の位置関係を一定に保
つことができる。

【００２５】このように第１ミラー３を位置合わせした
後に、Ｘ線ＣＣＤ１８を退避させ、第２ミラー９にシー
ト状のＳＲビーム２を導入し（ステップ９）、第２ミラ
ー９により拡大されたＳＲビーム２は、図１および図２
に示すように、原版であるマスク１３全面を照射する。
マスク１３面上でのＳＲビームの強度分布は、ウエハス
テージ１６上に設けたＸ線ディテクタ１７により、ある
いは、実際に露光することでモニタしながら計測され、
第２ミラー９の各軸の調整を適宜行なう（ステップ１
０）。

【００２６】そして、マスク面上での強度分布が所定の
誤差範囲あるいは許容範囲に入らない場合は、ステップ
１２において、第２ミラー９のずれによる強度分布であ
れば、ステップ９ないしステップ１１を繰り返し、ある
いは第２ミラー９のずれに基づくものでない場合には、
再度第１ミラー３のＸ線ＣＣＤ１８での測定に対して鈍
感な軸の再調整する（ステップ６ないしステップ１１）
ようにすることができる。

【００２７】このように第１ミラーと第２ミラーの調整
を分けて行なうことにより比較的容易に初期設置を行な
うことができ、また、地震等の発生した際の設置状態の
確認も同様な方法、手順で容易に行なうことができる。

【００２８】次に、上述したＸ線露光システムを利用し
たデバイスの製造方法の実施形態を説明する。

【００２９】図７は、微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の
半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、
マイクロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ２
１（回路設計）ではデバイスのパターン設計を行なう。
ステップ２２（マスク製作）では設計したパターンを形
成したマスクを製作する。一方、ステップ２３（ウエハ
製造）ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを
製造する。ステップ２４（ウエハプロセス）は前工程と
呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグ
ラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。
次のステップ２５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステ
ップ２４によって作製されたウエハを用いて半導体チッ
プ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、
ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等
の工程を含む。ステップ２６（検査）ではステップ２５
で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性
テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デ
バイスが完成し、これが出荷（ステップ２７）される。

【００３０】図８は、上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ３１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ３２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ３３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ３４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ３
５（レジスト処理）ではウエハにレジストを塗布する。
ステップ３６（露光）では上記説明した露光システムに
よってマスクの回路パターンをウエハの複数のショット
領域に並べて焼付露光する。ステップ３７（現像）では
露光したウエハを現像する。ステップ３８（エッチン
グ）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ス
テップ３９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不
要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰
り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パタ
ーンが形成される。

【００３１】本実施例の製造方法を用いれば、従来は製
造が難しかった大型のデバイスを低コストに製造するこ
とができる。

【００３２】

【発明の効果】本発明は、上述したように構成されてい
るので、第２ミラーの近傍にＸ線ＣＣＤ等のシートビー
ムの強度分布をモニタする手段を設置することで、設置
精度が厳しい集光一括照明系のミラーの初期設置および
設置状態の確認を容易に行なうことができる。そして、
シートビームに対する第１および第２のミラーを精度良
く位置合わせすることができ、集光されて高強度で強度
ムラの少ない均一な照明光を露光装置の露光画角全面に
一括でＸ線を供給することができ、スループットが高
く、露光ムラの少ない露光を行なうことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のＸ線集光一括照明装置を備えたＸ線露
光システムを示す概略的構成図である。

【図２】本発明のＸ線集光一括照明装置を備えたＸ線露
光システムを部分的に破断して示す概略的側面図であ
る。

【図３】Ｘ線集光一括照明装置において、Ｘ線ＣＣＤと
ＳＲビームの相対角度を計測している状態を示す概略的
な側面図である。

【図４】Ｘ線集光一括照明装置において、Ｘ線ＣＣＤに
より第１ミラーを調整する状態を示す概略的な側面図で
ある。

【図５】Ｘ線集光一括照明装置におけるＸ線ＣＣＤによ
り検出されるＳＲビームの強度分布を説明する説明図で
ある。

【図６】本発明のＸ線露光システムにおけるＸ線集光一
括照明装置の初期設置時の調整手順を示すフロー図であ
る。

【図７】半導体デバイスの製造工程を示すフローチャー
トである。

【図８】ウエハプロセスを示すフローチャートである。

【図９】従来のＸ線露光システムの構成を示す概略図で
ある。

【符号の説明】

１電子蓄積リング（光源）２シンクロトロン放射光ビーム（ＳＲビーム）３第１ミラー５第１ミラー駆動手段６位置センサ７角度センサ８制御手段９第２ミラー１１第２ミラー駆動手段１２Ｘ線取り出し窓１３マスク（原版）１４ウエハ（基板）１６ウエハステージ１７Ｘ線ディテクタ１８Ｘ線ＣＣＤ（強度分布モニタ手段）２０（Ｘ線ＣＣＤ用）Ｙステージ２１調整専用ビームライン２２、２３、２４ビームライン２５、２６超高真空チャンバー

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】シンクロトロン放射光を光源として、２
枚のミラーからなるＸ線集光一括照明装置において、第
２ミラー近傍に第１ミラーの反射光の強度分布をモニタ
する手段を設けたことを特徴とするＸ線集光一括照明装
置。
【請求項２】シンクロトロン放射光を光源として、２
枚のミラーからなるＸ線集光一括照明装置において、シ
ンクロトロン放射光の光軸に対する相対的な位置ずれお
よび角度ずれを検出する検出器を第１ミラーに所定の関
係で固定し、第２ミラー近傍に第１ミラーの反射光の強
度分布をモニタする手段を設け、さらに、前記強度分布
をモニタする手段の出力が光学設計値に等しくなるよう
に前記第１ミラーを駆動調整する手段、および前記第１
ミラーの駆動調整により前記強度分布をモニタする手段
の出力が光学設計値に等しくなったときに前記検出器に
より検出される相対的な位置ずれおよび角度ずれの検出
値をオフセットとして保存し、これを指令値として第１
ミラーの姿勢を制御する制御手段を有することを特徴と
するＸ線集光一括照明装置。
【請求項３】第１ミラーの反射光の強度分布をモニタ
する手段はＣＣＤであることを特徴とする請求項１また
は２記載のＸ線集光一括照明装置。
【請求項４】第１ミラーの反射光の強度分布をモニタ
する手段は蛍光板であることを特徴とする請求項１また
は２記載のＸ線集光一括照明装置。
【請求項５】第１ミラーの反射光の強度分布をモニタ
する手段はＸ線ディテクタアレイであることを特徴とす
る請求項１または２記載のＸ線集光一括照明装置。
【請求項６】第１ミラーの反射光の強度分布をモニタ
する手段は強度分布範囲内において移動可能なＸ線ディ
テクタであることを特徴とする請求項１または２記載の
Ｘ線集光一括照明装置。
【請求項７】第１ミラーの反射光の強度分布をモニタ
する手段を第２ミラーの近傍で上下動させる機構をさら
に有する請求項１ないし６のいずれか１項に記載のＸ線
集光一括照明装置。
【請求項８】請求項１ないし７のいずれか１項に記載
のＸ線集光一括照明装置を備えたことを特徴とするＸ線
露光装置。
【請求項９】請求項８記載のＸ線露光装置を用いてデ
バイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。