JPH0311659A - 基板バイアス電圧発生回路 - Google Patents

基板バイアス電圧発生回路

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JPH0311659A
JPH0311659A JP1143976A JP14397689A JPH0311659A JP H0311659 A JPH0311659 A JP H0311659A JP 1143976 A JP1143976 A JP 1143976A JP 14397689 A JP14397689 A JP 14397689A JP H0311659 A JPH0311659 A JP H0311659A
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JP
Japan
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bias voltage
substrate bias
level
circuit
node
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JP1143976A
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English (en)
Inventor
Toru Kono
河野 通
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 基板バイアス電圧発生回路、特に、半導体メモリ等の集
積回路装置に必要な基板バイアス電圧を所定の電圧範囲
に制御するようにした回路の構成に関し、 消費電力の低減化および回路規模の縮小化を図ると共に
、電源電圧や温度の変動に対して安定した充分に低い基
板バイアス電圧を発生することを目的とし、 半導体基板に所定の基板バイアス電圧を供給するための
発振回路と、該基板バイアス電圧を第1および第2の所
定の検出レベルと比較し、該基板バイアス電圧が該第1
および第2の検出レベルによって規定される範囲から逸
脱した時に検出信号を出力するレベル検出回路と、該検
出信号に応答し、前記基板バイアス電圧が上昇しつつあ
る状態または低下しつつある状態に応じて前記発振回路
を活性状態または不活性状態のいずれかに制御する回路
とを具備するように構成する。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、基板バイアス電圧発生回路に関し、特に、半
導体メモリ等の集積回路装置に必要な基(1) (2) 板バイアス電圧を所定の電圧範囲に制御するようにした
回路の構成に関する。
近年のハンドベルト・コンピュータのバッテリ・バック
アップ化に伴い、半導体集積回路のスタンハイ時におけ
る消費電力の低減化が要望されている。
〔従来の技術〕
第4図には従来形の一例としての基板バイアス電圧発生
回路の回路構成が示され、第5図にはその動作タイミン
グが示される。
この基板バイア、スミ圧発生回路は、基板バイアス電圧
のレベル検出回路a (pチャネルトランジスタ41、
抵抗器42およびnチャネルトランジスタ43.44.
45)と、該検出回路の出力(ノードnl)に応答する
インバータ46と、該インノN−夕46の出力(ノード
n2)  に応答するインバータ47と、該インバータ
47の出力(ノードn3)  に応答するタイマ用リン
グ発振器b(ナントゲート48およびインバータ49〜
54)と、インバータ46の出力およびタイマ用リング
発振器すの出力(ノードn5) に応答する状態ラッチ
C(ナントゲート55.56)と、該状態ラッチの出力
(ノードn?)  に応答するキャパシタ駆動用リンク
発振器dと、該リング発振器dの出力(ノードn8) 
 に応答するMOSキャパシタ60と、該キャパシタに
接続されたnチャネルトランジスタ61および62とか
ら構成されている。基板ノくイアスミ圧VBIIはトラ
ンジスタ62のドレインから取り出されろようになって
いる。
第4図の構成においてVssの電位をOv、トランジス
タ44.45の各スレッショルドレベルをvth とす
ると、トランジスタ43のゲート・ソース間にかかる電
圧はVBB  2 Vth となる。従って、この電圧
(VBll −2vth) −h< )ランジスク43
のスレッショルドレベルを越える程度に該基板)<イア
スミ圧VBHのレベルが低い時は該トランジスタ43は
オン状態を維持するので、ノードn1の電位は” L 
”レベルを呈する。逆に、基板バイアス電圧VBBがこ
のしきい値(第5図にvlで示される)よりも高い場合
には、トランジスタ43はカットオフ状態となり、p(
3) (4) チャネルトランジスタ41のオンによってノードn1の
電位は゛I]′″レベルに引き上げられる。つまり、レ
ベル検出回路aは、基板バイアス電圧VBBのレベルが
所定の検出レベルv1よりも高いかまたは低いかを検出
する機能を有している。
第5図を参照すると、基板バイアス電圧V[l[lが検
出レベルV、よりも低い場合、ノードn1のレベルは゛
L″レベルを呈するので、ノードn2〜n7のレベルは
それぞれ’)l”、 ”L”、 ”H”、 ”H”、 
’T’、 ’T’となる。
ノードn7が゛′L″レベルの時、ノードn8は”H″
″″レベル定化されるので、発振は起こらない。つまり
、基板バイアス電圧発生回路は「不活性状態」を維持す
る。
基板バイアス電圧VBBが徐々に上昇して検出レベルv
1を越えると、トランジスタ43のカットオフによりノ
ードn1のレベルは゛′H′″レベルに変化する。
これによって、ノードn2は゛L″レベルに変化し、こ
れを受けてノードn3は” H”レベルに、ノードn4
は” L ”レベルに変化し、またノードn7は゛H″
レベルに変化する。これによってリング発振器dが活性
化されて発振を開始し、キャパシタ60を駆動すること
により負の基板バイアス電圧vanが発生される。つま
り、基板バイアス電圧発生回路は「活性状態」となる。
これによって、基板バイアス電圧VBBは低下し始める
一方、ノードn4が゛ビレベルに変化すると、その変化
は6段のインパーク49〜54の動作遅延に相当する分
だけ遅れて最終段のインバータ54の出力端(ノードn
5) に現れる。この時点で、状態ラッチ内のノードN
6のレベルは゛′■″レベルに立ち上がり、状態ラッチ
Cの出力(ノードn7)は” L ”レベルに立ち下が
る。これによって、基板バイアス電圧発生回路は「不活
性状態」に戻り、基板バイアス電圧VBBは上昇し始め
る。
なお、基板バイアス電圧VBBが低下しつつある過程に
おいて検出レベルv1を下回った時点でノードn1は゛
′L″レベルに低下し、これを受けてノードn2は’H
”レベルに、ノードn3は゛L″レベルに、ノードn4
は”H″ルベル変化する。このノードn4の変化は、イ
ンバータ49〜54の動作遅延に相当する(5) (6) 分だけ遅れてノートn5に現れる(”L’″→” H”
 )。以降、上述した動作が同様に繰り返される。
第4図の構成では、活性状態の期間が数m5eC〜数μ
secであるのに対して不活性状態の期間が数百μse
cとなるように各素子の値が設定されており、それによ
って2つのリング発振器すおよびdの消費電力を抑制す
るようにしている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来形の構成によれば、基板バイアス電圧発生
回路の活性化の開始(発振の開始)はレベル検出回路a
の検出動作に依存して決定され、その活性状態の終了(
発振の停止)はタイマ用リング発振器すのタイマ動作に
依存して決定されるようになっている。すなわち、基板
バイアス電圧VBBの一番深い電位(第5図にVnで示
される)はタイマ用リング発振器すのタイマ動作に依存
して規定される。
しかしながら、電源電圧や温度の変動に起因してこの電
位Vnは不安定となるため、以下の問題点が生じる。例
えば基板バイアス電圧が深くなり過ぎる(V++++<
Vn)  と、トランジスタセル部分の空乏層が伸びる
ため、セル容量が減少し、それによってリフレッシュ特
性が悪くなるという不都合が生じる。逆に、基板バイア
ス電圧が浅くなり過ぎる(vBB>vn)  と、第5
図の基板バイアス電圧VBHの波形図から明らかなよう
に「不活性状態」の期間が相対的に短くなるため、リン
グ発振器による消費電力が増大するという問題が生じる
また、タイマ用リング発振器すで計測される時間は数m
5ec〜数μseC程度必要なためチップ上では比較的
長い遅延用ラインを必要とし、しかも消費電力を低減す
るためにg。を抑制した長チャネルのトランジスタを使
用することが多いため、チップ上に占める回路全体の面
積が増大するという不都合が生じる。
本発明は、上述した従来技術における課題に鑑み創作さ
れたもので、消費電力の低減化および回路規模の縮小化
を図ると共に、電源電圧や温度の変動に対して安定した
充分に低い基板バイアス電(7) (8) 圧を発生することができる回路を提供することを目的と
している。
〔課題を解決するだめの手段〕
第1図の原理ブロック図に示されるように、本発明によ
る基板バイアス電圧発生回路は、半導体基板に所定の基
板バイアス電圧VBBを供給するための発振回路1と、
該基板バイアス電圧を第1および第2の所定の検出レベ
ルV1、 V2 と比較し、該基板バイアス電圧が該第
1および第2の検出レベルによって規定される範囲から
逸脱した時に検出信号O3を出力するレベル検出回路2
と、該検出信号に応答し、前記基板バイアス電圧が上昇
しつつある状態または低下しつつある状態に応じて前記
発振回路を活性状態または不活性状態のいずれかに制御
する回路3とを具備することを特徴とする。
〔作用〕
上述した構成によれば、発振動作の開始(発振回路の活
性化)と発振動作の停止(発振回路の不活性化)は共に
レベル検出回路2の検出動作に依存して決定されるよう
になっている。従って、基板バイアス電圧νBBは2つ
の検出レベルV1、 V2によって規定される範囲内に
リミット(制御)され、それによって、電源電圧や温度
の変動による影響を受けることなく安定した充分に低い
基板バイアス電圧を発生することができる。また、従来
形に見られたような発振停止のためのタイマ用リング発
振器を必要としないので、消費電力の低減化と回路規模
の縮小化に有利である。
なお、本発明の他の構成上の特徴および作用の詳細につ
いては、添付図面を参照しつつ以下に記述される実施例
を用いて説明する。
〔実施例〕
第2図には本発明の一実施例としての基板バイアス電圧
発生回路の回路構成が示される。
同図において、高電位の電源ラインVcc(5V)  
と基板バイアス電圧ラインVBBの間にはpチャネルト
ランジスタ11、抵抗器12および3つのnチャネ(9
) (10) ルトランジスタ13.14.15が直列に接続されてい
る。トランジスタ11および13の各ゲートは低電位の
電源ラインVss (OV)  に接続され、トランジ
スタ14および15の各ゲートはそれぞれのドレインに
接続されている。同様に、電源ラインVccと基板バイ
アス電圧ラインV[lBの間にはnチャネルトランジス
タ16、抵抗器17および4つのnチャネルトランジス
タ18.19.20.21が直列に接続されている。
トランジスタ16および18の各ゲートは電源ラインV
ssに接続され、トランジスタ19〜21の各ゲートは
それぞれのドレインに接続されている。11〜21の各
構成要素によって基板バイアス電圧のレベル検出回路A
が構成され、これは、第1図のレベル検出回路2ピ対応
している。
トランジスタ13のドレイン(ノードNl)  はイン
バータ22の入力端に接続され、トランジスタ18のド
レイン(ノードN3)  はナントゲート24の一方の
入力端に接続されている。インパーク22の出力端(ノ
ードN2)  はナントゲート23の一方の入力端に接
続されており、該ナントゲート23の出力端()−ドN
4)  はナントゲート24の他方の入力端に接続され
、該ナントゲート24の出力端(ノードN5) はナン
トゲート23の他方の入力端に接続されている。
ナントゲート23および24によって状態ラッチBが構
成され、この状態ラッチは、インバータ22と共に第1
図の制御回路3に対応している。
ナントゲート23の出力端はナントゲート25の一方の
入力端に接続されており、該ナントゲート25の出力端
はインバータ26および27を介して該ナントゲートの
他方の入力端に接続されている。インバータ27の出力
端(ノードN6) はMOSキャパシタ28を介してn
チャネルトランジスタ29のゲートおよびドレインなら
びにnチャネルトランジスタ30のソースに接続されて
いる。トランジスタ29のソースは電源ラインVssに
接続され、トランジスタ30のゲートはそのドレインに
接続されている。
このトランジスタ30のドレインから基板バイアス電圧
VBBが取り出されるようになっている。25〜27の
各ゲートによってキャパシタ駆動用リング発振器Cが構
成され、このキャパシタ駆動用リング(11) (12) 発振器は、28〜30の各構成要素と共に第1図の発振
回路1に対応している。
第2図の構成においてトランジスタ14.15の各スレ
ッショルドレベルをvthとすると、トランジスタ13
のゲート・ソース間にかかる電圧はVIIII2 Vt
h となる。従ッテ、コノ電圧(VBB  2 Vth
) カトランジスタ13のスレッショルドレベルを越え
る程度に該基板バイアス電圧VBEのレベルが低い時は
トランジスタ13はオン状態を維持するので、ノードN
1の電位は゛L″レベルを呈する。逆に基板バイアス電
圧VBBがこのしきい値(第3図にvIで示される)よ
りも高い場合には、トランジスタ13はカットオフ状態
となり、トランジスタ11のオンによってノードN1の
電位は゛′■″ルベルに引き上げられる。つまり、11
〜15の各構成要素により、基板バイアス電圧VBHの
レベルが所定の検出レベルVよりも高いかまたは低いか
が検出される。
同様に、トランジスタ19〜21の各スレッショルドレ
ベルをvth とすると、トランジスタ18のゲート・
ソース間にかかる電圧はVBB  3 Vth となる
従って、この電圧(VBB  3Vth)がトランジス
タ18のスレッショルドレベルを越える程度に該基板バ
イアス電圧VBHのレベルが低い時はトランジスタ18
はオン状態を維持するので、ノードN3の電位は”L″
ルベル呈する。逆に基板バイアス電圧VBBがこのしき
い値(第3図にv2で示される)よりも高い場合には、
トランジスタ18はカットオフ状態となり、トランジス
タ16のオンによってノードN3の電位は”H″ルベル
なる。つまり、16〜21の各構成要素により、基板バ
イアス電圧VBHのレベルが所定の検出レベルv2より
も高いかまたは低いかが検出される。
このように、レベル検出回路Aは、基板バイアス電圧V
BBが変動する過程において2つの異なる検出レベルV
、およびV2 (0>v、 >V2)を検出する機能を
有している。各検出レベルと基板バイアス電圧VBHの
大きさとの大小関係に応じてノードN1およびN3のレ
ベルは以下のように確定する。
(1)  O> VBB>Vl(7)場合トランジスタ
13および18の各ゲート・ソース間(13) (14) にかかる電圧はそのスレッショルドレベルの大きさより
も小さくなるため、各トランジスタ13.18はカット
オフ状態となり、それぞれ対応するpチャネルトランジ
スタ11.16のオンによって各ノードNL N3のレ
ベルは” H”レベルトする。
(2) V、> VBB>V2の場合 トランジスタ13のゲート・ソース間にかかる電圧はそ
のスレッショルドレベルの大きさよりも大きくなるため
、該トランジスタ13はオンし、それによってノードN
1のレベルは゛ビレベルとなる。
一方、トランジスタ18については、依然としてそのゲ
ート・ソース間にかかる電圧はスレッショルドレベルの
大きさよりも小さいため、カットオフ状態を維持し、ノ
ードN3のレベルはパ1Fルベルに維持される。
(3) V2> VBHの場合 トランジスタ13および18の各ゲート・ソース間にか
かる電圧はそのスレッショルドレベルの大きさよりも大
きくなるため、各トランジスタ13.18は共にオン状
態となり、各ノードN1、N3のレベルは共に゛′シ′
″レベルを呈する。
第3図には第2図回路の動作タイミングの一例が示され
る。
同図に示されるように、基板バイアス電圧VBBが上昇
しつつある過程において検出レベルv1を越えると、ノ
ードN1のレベルが” H”レベルに立ち上がり、ノー
ドN2のレベルは゛L″レベルに立ち下がる。ノードN
3のレベルは”H″ルベルあるので、状態ラッチBの出
力(ノードN4)は” I(”レベルに立ち上がり、ノ
ードN5のレベルはパピレベルに立ち下がる。ノードN
4のレベルが” II ”レベルになると、リング発振
器Cが活性化されて発振を開始し、キャパシタ28を駆
動することにより負の基板バイアス電圧vB[lが発生
される。つまり、基板バイアス電圧発生回路は「活性状
態」となる。これによって、基板バイアス電圧VBBは
徐々に低下していく。
基板バイアス電圧VBBが検出レベルv1を下回った時
点で、トランジスタ13のオンによりノードNlのレベ
ルは゛′I、′″レベルに立ち下がり、ノードN2の(
15) (16) レベルは゛′H′″レベルに立ち上がる。
次いで、基板バイアス電圧ν、Bが低下しつつある過程
において検出レベルv2を下回ると、トランジスタ18
のオンによってノードN3のレベルは゛ビレベルに立ち
下がり、ノードN5のレベルは゛′H′″レベルに立ち
上がる。ノードN2のレベルは” ++ ”レベルにあ
るので、状態ラッチBの出力(ノードN4)は゛′L″
レベルに立ち下がる。これによって、リング発振器Cは
その発振を停止する。つまり、基板バイアス電圧発生回
路は「不活性状態」となる。
これによって、基板バイアス電圧v0のレベルは徐々に
上昇していく。
基板バイアス電圧VBBが検出レベルv2を上回った時
点で、トランジスタ18のカットオフとトランジスタ1
6のオンによりノードN3のレベルはパH′ルベルに立
ち上がる。
以降同じような動作が繰り返され、基板バイアス電圧V
BBが2つの検出レベルvlおよびv2の間で維持され
るように、発振回路は活性状態または不活性状態のいず
れかに制御される。
以下の表に、基板バイアス電圧VBHの変化に対する回
路の状態が示される。
表 〔発明の効果〕 以上説明したように本発明によれば、電源電圧や温度の
変動による影響を受けることなく安定した充分に低い基
板バイアス電圧を発生することができ、半導体メモリ等
の集積回路装置のチップ面積の減少と信頼性の向上に寄
与するところが大きい。また、従来形に見られたような
発振停止のためのリング発振器を必要としないので、消
費電力の低減化と回路規模の縮小化に一層有利である。
(17) (18)
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による基板バイアス電圧発生回路の原理
ブロック図、 第2図は本発明の一実施例としての基板バイアス電圧発
生回路の構成を示す回路図、 第3図は第2図回路の動作タイミング図、第4図は従来
形の一例としての基板バイアス電圧発生回路の構成を示
す回路図、 第5図は第4図回路の動作タイミング図、である。 (符号の説明) 1・・・発振回路、2・・・レベル検出回路、3・・・
制御回路、VBB・・・基板バイアス電圧、V1、 V
2・・・所定の検出レベル、0S・・・検出信号。 (19) 第4図回路の動作タイミング図 371−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 半導体基板に所定の基板バイアス電圧(V_B_B)を
    供給するための発振回路(1)と、 該基板バイアス電圧を第1および第2の所定の検出レベ
    ル(V_1、V_2)と比較し、該基板バイアス電圧が
    該第1および第2の検出レベルによって規定される範囲
    から逸脱した時に検出信号(DS)を出力するレベル検
    出回路(2)と、 該検出信号に応答し、前記基板バイアス電圧が上昇しつ
    つある状態または低下しつつある状態に応じて前記発振
    回路を活性状態または不活性状態のいずれかに制御する
    回路(3)とを具備することを特徴とする基板バイアス
    電圧発生回路。
JP1143976A 1989-06-08 1989-06-08 基板バイアス電圧発生回路 Pending JPH0311659A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04345061A (ja) * 1991-05-23 1992-12-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd 基板電位発生回路
US6005434A (en) * 1995-03-31 1999-12-21 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Substrate potential generation circuit that can suppress variation of output voltage with respect to change in external power supply voltage and environment temperature
JP2008133720A (ja) * 2008-01-16 2008-06-12 Maxstone Kk 覆工用目地割りパネルを用いた法面覆工構造

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