JPH03111361A - 搬送装置およびその制御方法 - Google Patents

搬送装置およびその制御方法

Info

Publication number
JPH03111361A
JPH03111361A JP1248142A JP24814289A JPH03111361A JP H03111361 A JPH03111361 A JP H03111361A JP 1248142 A JP1248142 A JP 1248142A JP 24814289 A JP24814289 A JP 24814289A JP H03111361 A JPH03111361 A JP H03111361A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
wafer
ejector
hand
sensor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1248142A
Other languages
English (en)
Inventor
Eigo Kawakami
英悟 川上
Koji Uda
宇田 幸二
Kunitaka Ozawa
小澤 邦貴
Shunichi Uzawa
鵜澤 俊一
Mitsutoshi Kuno
久野 光俊
Kazunori Iwamoto
岩本 和徳
Takuo Kariya
刈谷 卓夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP1248142A priority Critical patent/JPH03111361A/ja
Priority to EP19900310430 priority patent/EP0420551B1/en
Priority to DE1990627392 priority patent/DE69027392T2/de
Publication of JPH03111361A publication Critical patent/JPH03111361A/ja
Priority to US07/963,517 priority patent/US5226523A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/7075Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00Programme-control systems
    • G05B19/02Programme-control systems electric
    • G05B19/18Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form
    • G05B19/19Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path
    • G05B19/21Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path using an incremental digital measuring device
    • G05B19/23Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path using an incremental digital measuring device for point-to-point control
    • G05B19/231Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path using an incremental digital measuring device for point-to-point control the positional error is used to control continuously the servomotor according to its magnitude

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Controlling Sheets Or Webs (AREA)
  • Registering Or Overturning Sheets (AREA)
  • Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、露光装置などの半導体製造装置に適用して好
適なウェハやマスクなどの搬送装置およびその制御方法
に関する。
[従来の技術] 一般に、モータ駆動によって被搬送物の搬送や位置決め
を行なうシステムでは、何らかの原因で搬送や位置決め
を制御するプログラムが暴走した場合に備えて、その搬
送ストロークの両端に位置規制手段を有している。
第2図に従来の搬送装置のブロック図を、第3図に該搬
送装置をSOR光を利用したX線露光装置で使用される
ような縦型のクエA搬送系に適用した例を示す。
これらの図において、20は露光装置の本体CPU(図
示せず)からの指令により露光装置における搬送系全般
の制御を司る搬送CPtJ、21は搬送CPU20から
の指令によりモータドライノ<−22にモータ23の回
転に必要な回転方向信号DIRとパルス列POUTを出
力する例えば日本パルスモータ−社製のPCL−240
にのようなパルスコントローラである。24はモータ2
3の回転量をモータドライバー22にフィードバックす
るためのエンコーダである。
ANDで示すΔ印は、搬送装置が目的とする位置まで移
動したことを搬送CPU20が確認するために使用され
る位置確認手段である位置センサである。また、付番2
5および26で示すム印は位置規制手段のいわゆるリミ
ットセンサと呼ばれるセンサで、パルスコントローラ2
1の対応する信号入力端子+ELおよび−ELにそれぞ
れ接続される。このリミットセンサ25,26からパル
スコントローラ21への入力があると、該コントローラ
21からモータドライバー22へのパルス出力であるP
OUT信号の出力がハードウェアロジックで禁止され、
それぞれの方向への搬送装置のオーバーランが防止され
る。これは制御プログラムには依存しないパルスコント
ローラ21の機能で、以下エンドリミット機能と呼ぶ。
30はウェハ1を例えば真空吸着により保持するウェハ
ハンド、31はウェハハンド30の支持部材で、モータ
23のシャフトにカップリング32を介して接続された
ボールねじ33によって駆動されることにより、ウェハ
ハンド30によって保持されたウェハ1を2方向に搬送
する。34は支持部材31の案内部材、35はこの搬送
装置を露光装置の所定位置に固定するための固定部材で
ある。36はフォトセンサである位置センサA〜Dおよ
びリミットセンナ25.26用の遮光板である。37は
例えば真空吸着によるウェハチャックを有し、x、y方
向に移動可能なステージであり、2方向には位置センサ
CとDの間に位置する。
以上のように構成されたウェハ搬送系の動作について説
明する。まず、ウェハハンド30からステージ37への
ウェハ受渡しを行なう場合は、第3図に示す位置にステ
ージ37をxy移動させる。次に、搬送CPt120か
らパルスコントローラ21に指令を与える。これにより
、パルスコントローラ21からモータドライバー22に
対して、−2方向のDIR信号とウェハハンド支持部材
31を位置センサAからCまで駆動するのに必要な数の
パルスからなるPOUT信号が出力される。これによっ
て、モータ23が指示された向きに指示された量だけ回
転し、ウェハハンド支持部材31が位置センサAの位置
から位置センサCの位fitまで移動し、ウェハハンド
30に保持されたウェハ1がステージ37のウニ八チャ
ック面の直前まで運ばれる。
次に、該ステージ37のウェハチャックによる吸着を開
始して、ウェハハンド支持部材31を上記と同様にして
位置センサCの位置から位置センサDの位置まで移動さ
せる。ここでステージ37のバキュームセンサ(図示せ
ず)が吸着状態を示したら、ウェハハンド30の真空吸
着を終了させる。そして、ウェハハンド支持部材31を
位置センサDの位置から位置センサBの位置まで移動さ
せて、ウェハ1の裏面とウェハハンド30の距離を取る
ことによってウェハハンド30からステージ37へのウ
ェハ受渡し動作を終了する。この後、ステージ37は次
の工程(例えば、アライメントなど)のためにxy移動
を行なう。
次に、ステージ37からウェハハンド30へのウェハ受
渡しを行なう場合を説明する。ウェハハンド支持部材3
1は、位置センサBの位置にあるものとする。まず、ウ
ェハ1を吸着保持したステージ37をxy穆動して、第
3図に示す位置に移動させる0次に、前述と同様にして
ウェハハンド支持部材37を位置センサBの位置から位
置センサDの位置まで移動させて、ウェハハンド30を
ウェハ1の裏面近傍に移動させる。そして、ウェハハン
ド30の真空吸着を開始して、ウェハハンド支持部材3
1を位置センサDの位置から位置センサCの位置まで移
動させる。ここでウェハハンド30のバキュームセンサ
(図示せず)が吸着状態を示したら、ステージ37の吸
着を終了させる。最後に、ウェハハンド支持部材31を
位置センサCの位置から位置センサAの位置まで移動さ
せて、ステージ37からウェハハンド30へのつエバ受
渡し動作を終了する。
[発明が解決しようとする課題] ところで、こうした搬送系では、通常は露光装置として
のスルーブツトを高くするために、位置センサAとCお
よび位置センサDとBの間はクエへが脱落することのな
い加減速度でいわゆる台形の速度パターンを使用した高
速搬送を行ない、ウェハの着脱を行なう位置センサCと
Dの間は低速の定速駆動を行なう。この場合、位置セン
サCからAまたは位置センサDからBの方向の駆動時は
、万が一プログラムの暴走などによりウェハハンド支持
部材31が位置センサAまたはBの位置において停止し
なくても、リミットセンサ25または26によりこれを
検出し前述のようにパルスコントローラ21からのパル
ス出力を停止させることができるので、ウェハハンド支
持部材31がそれぞれの方向の固定部材35に衝突する
ことはない。
しかしながら、位置センサAからCの方向または位置セ
ンサBからDの方向の駆動時は、このようなりミツトセ
ンサがないので、万が一位置センサCまたはDの位置で
停止しなかった場合は、ウェハ1とステージ37または
ウェハハンド30が衝突する恐れがあった。これは、第
3図に示すような縦型の搬送系では直ちにクエへの落下
ないしは破損につながるだけでなく、場合によっては搬
送装置自体の破損を生じる重要な問題である。
本発明は、これらの問題点に鑑みなされたものであって
、位置規制手段の設定位置の変更が可能で、搬送装置が
暴走しても被搬送物もしくは搬送装置自体を破損するこ
とのない搬送装置およびその制御方法を提供することを
目的とする。
[課題を解決するための手段および作用コ前記目的を達
成するために、本発明では、搬送方向に複数の位置規制
手段を設け、搬送を行なう目的位置に応じて該搬送開始
前に前記位置規制手段の中から有効とするものを選択し
、搬送開始後に位置確認手段または前記位置規制手段の
状態に応じて、有効とする位置規制手段を再度選択する
ようにしている。
これにより、万が一搬送装置が暴走した場合でも被搬送
物や搬送装置自体を破損することのない信頼性の高い搬
送装置が得られる。
[実施例] 以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第1図に、本発明を適用したX線露光装置におけるウェ
ハ搬送系を示す。同図において、1はウェハ、2は該ウ
ェハ1を収納したウェハキャリヤ、3は該ウェハキャリ
ヤ2を載置するウェハキャリヤ置き台、4はウェハキャ
リヤ2内のウェハ有無を検出するウェハ有無センサ、5
はエレベータロッドでキャリヤ置き台3に結合されてモ
ータ6によってX方向に駆動される。以上の部材3〜6
でウェハキャリヤエレベータを構成する。
次に、7はクエへを真空吸着により保持するイジェクタ
ハンド、8は該イジェクタハンド7を図のωX(X軸回
り)方向に回転するためのアクチュエータで例えばベー
ンモータにより駆動される。、9は該ωXアクチュエー
タ8を搭載して図の2方向に移動可能なZステージ、1
0は該Zステージを搭載して図のX方向に移動可能なX
ステージ、11は該Xステージをそのストローク中心で
支持して図のωy(y軸回り)方向に旋回可能なモータ
で例えばダイレクトドライブのサーボモータ(DDモー
タ)である。以上の部材7〜11でウェハイジェクタを
構成する。
12は真空吸着によりウェハを保持可能なウェハチャッ
クを有し、図のx、X方向に移動可能なステージである
。13は前記イジェクタからステージ12ヘクエ八を受
は渡す際に該ウニへのX方向の位置を検出するためのセ
ンサで例えばCCDラインセンサのような一次元位置検
出素子である。
以上のように構成されたウェハ搬送装置において、ウェ
ハキャリヤ2のウェハ1をステージ12に搬送する動作
について説明する。まず、モータ6を駆動してウェハキ
ャリヤ2内のウェハ1が所定の取り出し位置(高さ)に
来るまでキャリヤ置き台3を下降させる。このとき、モ
ータ6は1回の動作でウェハキャリヤ2のウェハ収納段
の1ピッチ分に相当する量だけ駆動され、そのたびにウ
ェハ有無センサ4によフてウェハ1が所定の位置に来た
かどうかの確認を行なう。該ウェハ1が所定の位置に来
たことが確認されると、DDモータ11を駆動してXス
テージ10をωy方法に旋回させ、イジェクタハンド7
をウェハキャリヤ2に正対させる(この場合、Xステー
ジ10は2方向に移動することになるが、便宜上そのま
まXステージと呼ぶ)。
次に、Xステージ10を一2方向に駆動してイジェクタ
ハンド7をウェハ1の裏面の位置まで移動させる。そし
て、イジェクタハンド7の吸着を開始し、モータ6の駆
動によりウェハキャリヤ2を前述と同様にして1ピッチ
分下降させる。ここでイジェクタハンド7のバキューム
センサ(図示せず)が吸着状態を示したのを確認した後
、Xステージ10を+Z方向に駆動してウェハ1を吸着
保持したイジェクタハンド7をウェハキャリヤ2から引
き出す。そして、DDモータ11を駆動してXステージ
10を旋回させ、ステージ12の方向へ向ける(第1図
の状態)。
次に、ωXアクチュエータ8を[!llt、てイジェク
タハンド7を+X方向に向かって時計方向に90°回転
させ、該イジェクタハンド7およびイジェクタハンド7
に吸着保持されたウェハ1をステージ12の吸着面と平
行な状態にする。そして、Xステージ10を+X方向に
駆動して、ラインセンサ13で検出されるクエへのエツ
ジが所定の位置(ステージ12の中心とウェハの中心と
がほぼ一致する位置)に来るようにイジェクタハンド7
を移動させる。
最後にステージ12の吸着を開始し、2ステージ9を一
2方向に駆動して、イジェクタハンド7からステージ1
2へのウェハの受渡しく詳細は後述)を行なう。そして
、Xステージ10を−X方向に駆動してイジェクタハン
ド7を引き戻した後、Zステージ9を+2方向に駆動し
、ωXアクチュエータ8を+×方向に向って反時計方向
に90′″回転させることによりウェハ1のウェハキャ
リヤ2からステージ12への搬送が終了する。
なお、ステージ12がプリアライメントステージの場合
は、この後ウェハ1に設けられたオリエンテーションフ
ラットと呼ばれる切り欠きを特定の方向に合わせるオリ
フラ検知と呼ばれる作業を行ない、別の搬送系によって
露光用のステージへと搬送される。
第4図は本発明の実施例で第1図のイジェクタの2ステ
ージ9の電気系ブロック図、第5図は該ステージのセン
サ配置(2方向)の模式図、第6図は該ステージを用い
てイジェクタハンド7からステージ12ヘクエ八を受渡
す際のフローチャート、第7図は第6図の部分的詳細フ
ローチャートである。
第4図において、41〜46は第2図に示した21〜2
6に対応するものであるから説明は省略する。47は第
1図のイジェクタハンド7の2方向位置がステージ12
のチャック面近傍にあることを検知する位置センサで、
本実施例では後述の如く位置規制手段と兼用している。
48.49は例えば、ロジック・セル・アレイ(Log
ic Ce1lArray)で構成された切替スイッチ
であり、搬送CPU20からのMo1)信号によってA
II〜AI3、BII 〜BI3(7)入力をそれぞれ
AO,BOへ出力する。a−eは選択可能なモードを示
し、例えばモードaが選択された場合には、切替えスイ
ッチ48ではAOにAl1が接続され、切替スイッチ4
9ではBOにBI2が接続される。
oR1〜oR4はOR回路、IVl、IV2はインバー
タである。
第5図において、50はHOM位置センサであり、イジ
ェクタがイジェクタハンド7のチャック面をステージ1
2のチャック面と平行にして該ステージヘウエハを取付
けるために搬送したり、あるいはステージ12から取外
しなウェハを搬送する際のイジェクタ2ステージ9の位
置を示す。51はMD位置センサであり、ステージ12
へのウェハ取付けの終ったイジェクタハンド7が該ステ
ージから遠ざかったり、あるいはステージ12上のクエ
へを取外すために該ステージに接近する際のイジェクタ
Zステージ9の位置を示す。WCはイジェクタハンド7
のチャック面がステージ12のチャック面と同一平面上
に来る時のイジェクタ2ステージ9の位置であり、vL
は前述のようにイジェクタハンドの2方向位置がWCの
近傍にあることを検知するセンサである。Ll、L2お
よびUl、U2はステージ12とイジェクタハンド7と
のウェハ受渡し時にイジェクタハンド7(イジェクタZ
ステージ9)が−旦停止する位置で1、詳細は後述する
。+EZ(付番45の位置)および−EZ(付番46の
位置)は、それぞれ+Z力方向よび一2方向のリミット
センサである。
以上のように構成されたイジェクタ2ステージ9を用い
てイジェクタハンド7からステージ12ヘクエ八を受渡
す動作を第6図および第7図のフローチャートを使って
説明する。
ここで、イジェクタ2ステージ9はROM位置にあり、
イジェクタハンド7はそのチャック面がωXアクチュエ
ータ8によってステージ12のチャック面と平行に回転
させられ、X方向にはイジェクタのXステージ10によ
って移動せられて、第1図で説明したように吸着保持し
たウニへの中心がステージ12のチャック面の中心と一
致する位置にいるものとする。
まず、第6図によりウェハ受渡しの概略の流れを説明す
る。始めに、イジェクタ2ステージ9をROM位置から
ステージ12のチャック面直前のL1位置まで、スルー
プットを高くするために加減速駆動を行なって移動させ
る(ステップ561)。次に、ステージ12の真空吸着
を開始して(ステップ562)、イジェクタZステージ
9をL1位置からステージ12のチャック面近傍やや−
2方向寄りのL2位置まで定速移動させる(ステップ5
63)。ここで、ステージ12のバキュームセンサ(図
示せず)によって吸着状態にあるかどうかの判定を行な
う(ステップ564)。ステージ12のチャックが吸着
状態にあれば、この判定をyesで抜け、イジェクタハ
ンド7の方の真空吸着を終了させる(ステップ567)
。そして、イジェクタ2ステージ9をL2位置からステ
ージ12のチャック面から十分離れたMD位置まで再び
加減速駆動を行なって移動させる。
一方、ステップ564でステージ12のチャックが吸着
状態にならなければ、この判定をnoで抜けてステージ
12の真空吸着を終了させ(ステップ565)、イジェ
クタZステージ9を定速駆動によりL2位置からL1位
置まで6勅させる(ステップ566)。そして、再びス
テップS62に戻り、ステップ364までのシーケンス
をステージ12のチャックが吸着状態となるまで所定回
数繰り返す。
これらのシーケンスのうち、ステップS61およびステ
ップ363について第4図および第7図を用いてより詳
しく説明する。
まず、ステップS61はROM位置にあるイジェクタ2
ステージ9を加減速駆動を行なってLlの位置まで移動
させるものである。始めに搬送CPU20がROM位置
からL1位置までの駆動であることを確認して、必要な
駆動パラメータ(起動時および高速時のパルスレート、
加減速度、駆動パルス数、およびモータ回転方向など)
をパルスコントローラ41にセットする(ステップ57
1)。次に、位置センサ50によってイジェクタZステ
ージ9がROMにあることを確認する動作前の位置確認
を行なう(ステップ572)。位置センサ50がHig
hレベルでない時は、エラー処理に移行する(図示せず
)。次に、搬送CPU20からのMOD信号によって必
要なリミットセンナの選択を行なう。この場合は、イジ
ェクタ2ステージ9のL1位置からのオーバーランによ
って、イジェクタハンド7で保持したウェハをステージ
12のチャック面にぶつけてウェハの落下もしくは破損
が生じないように、VLセンサ47のLow出力によっ
てパルスコントローラ41のエンドリミット機能が働く
ように設定する。すなわち、VLセンサ47の出力を反
転したものとリミットセンサ46の出力とのORをとっ
た信号がパルスコントローラ41の−ELへ入力される
(モードa)ように、切替えスイッチ49においてBI
2とBOが接続される。この時、切替スイッチ48では
Al1とAOが接続される(ステップ573)。次に、
搬送CPU20からパルスコントローラ41にスタート
コマンドが与えられ(ステップ574)、イジェクタ2
ステージ9がステップS71でチエツクした駆動パラメ
ータに従って動き始める。次に、モード再選択の有無を
チエツクするが、この場合は必要ないのでステップ37
5の判定をnoで抜けてステップS76゜S77をパス
する。次に、搬送CPU20がパルスコントローラ41
のステータスを読んで、動作中(パルスPOUTが出力
中)かどうかの判定を行なう(ステップ878)。動作
中ならば、この判定をyesで抜けてステップS75の
判定に戻る。一方、動作中でなければ判定をnoで抜け
る。そして、ステップS79で動作後の位置確認を行な
うが、この場合L1には位置センサがないので、実際に
はこのステップはパスされる。
次に、ステージ12のチャックの真空吸着をスタートさ
せた(ステップ562)後、イジェクタZステージ9を
LlからLlの位置へ定速で移動させるステップS63
について説明する。
始めに搬送CPU20がLlからLlの位置までの駆動
であることを確認して、前述と同様に必要な駆動パラメ
ータをパルスコントローラ41にセットする(ステップ
571)。次に、ステップS72で動作前の位置確認を
行なうが、Llには位置センサがないのでこのステップ
はパスされる。次に、搬送CPU20からのMOD信号
によフて必要なリミットセンサの選択を行なう。この場
合は、前述のステップS61でモードa(第4図)を選
択しているので、そのままイジェクタZステージ9をT
I!AwJすると、VLセンサ47の出力がHighか
らLowへ変化する位置でエンドリミット機能が働きイ
ジェクタ2ステージ9が停止してしまう。したがって、
第4図においてパルスコントローラ41の−ELにはリ
ミットセンサ46の出力のみが入力される(モードC)
ように、切替スイッチ49に対して搬送CPU20から
MOD信号が出力される(ステップ573)。すなわち
、切替スイッチ49ではBOとBI3が接続される(切
替えスイッチ48ではAOとAl1が接続される)。次
に、搬送CPLI20からパルスコントローラ41にス
タートコマンドが与えられ(ステップ574)、イジェ
クタZステージ9がステップS71でチエツクした駆動
パラメータに従って動き始める。次に、ステップS75
でモード再選択のチエツクを行なうが、この判定はye
Sで抜けてステップS76へ進む。ここで、イジェクタ
2ステージ9は、ステージ12へのウェハ受渡し時にス
テージ12のチャック面とイジェクタハンド7のチャッ
ク面との2方向位置が一致するWCの位置で停止するの
ではなく、それよりやや−2方向のLlまで移動するの
であるが、Llの位置で停止しなかった場合はイジェク
タハンド7で保持しているウェハを破損してしまうこと
になる。したがって、L2近傍の−Z方向寄りの位置で
エンドリミット機能を働かせるために、vLセンサ47
の出力がHighからLowに変化した後にモードの再
選択を行ない、LowからHighに変化するところで
エンドリミット機能が働くようにする。このモード選択
のタイミングを見ているのがステップ37Bで、■Lセ
ンサ47の出力がHighからLowになったかどうか
をチエツクしている。VLセンサ47の出力がHlgh
の場合は、この判定をnoで抜けてステップ378の判
定へ進む。ここでは、前述のように搬送CPU20がパ
ルスコントローラ41のステータスを読んで動作中かど
うかの判定を行なうが、最初は当然動作中であるので、
ステップS75を通ってステップS76に戻る。ここで
VLセンサ47の出力がLowになっていると、ステッ
プ376の判定をYesで抜けてモード選択を行なう(
ステップ577)。すなわち、VLセンサ47の出力と
リミットセンサ46の出力とのORをとった信号がパル
スコントローラ41の−ELへ入力される(モードe)
ように、搬送CPU20からのMOD信号によって切替
えスイッチ490B!1とBOが接続される。次に、ま
たステップS78の判定に進み、イジェクタZステージ
9が動作中かどうかのチエツクを行なう。動作中であれ
ば、この判定をyesで抜けてステップS75に戻る。
ここでは、既にモードの再選択を行なったので、以降は
この判定をnoで抜けてステップS78へ進む。イジェ
クタ2ステージ9がL2の位置で停止すると、ステップ
378の判定をnoで抜けてステップS79へ進むが、
実際にはL2の位置に位置センサがないのでこの動作後
位置確認のステップはパスされる。
以上、ステップ361およびステップ363について説
明したが、第6図の他のステップ36Bや568につい
ても同様のことが行なわれる。
また、ステージ12のチャックで吸着保持されたクエへ
をイジェクタハンド7へ受渡す際もUlおよびU2の位
置に関して同様の制御が行なわれる。
[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、搬送方向に複数の
位置規制手段を設け、搬送を行なう目的位置に応じて該
搬送開始前に前記位置規制手段の中から有効とするもの
を選択し、搬送開始後に位置確認手段または前記位置規
制手段の状態に応じて、有効とする位置規制手段を再度
選択するようにしているので、万が一搬送装置が暴走し
た場合でも被搬送物や搬送装置自体を破損したり、被搬
送物を落下させることがなくなり、搬送装置の信頼性を
向上させる効果を有する。
また、本発明によれば、ストロークが小さいがために位
置規制手段を多数設置できないような搬送装置において
も前述と同様に信頼性を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係わるウェハ搬送装置の斜視図、 第2図は、従来の搬送装置のブロック図、第3図は、従
来のウェハ搬送装置の斜視図、第4図は、本発明の実施
例である搬送装置のブロック図、 第5図は、第4図の搬送装置のセンサ配置図、第6図は
、第4図の搬送装置の制御フローチャート、 第7図は、 ある。 第6図の部分詳細フローチャートで 1:ウェハ、 7:イジェクタハンド、 9:イジェクタ2ステージ 12:ステージ、 20:搬送cpu。 41:パルスコントローラ、 42:モータドライバー 45.46:リミットセンサ、 48.49:切替スイッチ。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)搬送行程上に位置確認手段を有する搬送装置であ
    って、搬送方向に沿って設けられた複数の位置規制手段
    と、搬送を行なう目的位置に応じて該搬送開始前に前記
    位置規制手段の中から有効とするものを選択する手段と
    、搬送開始後に前記位置確認手段または前記位置規制手
    段の状態に基づいて有効とする位置規制手段を再度選択
    する手段とを具備することを特徴とする搬送装置。
  2. (2)搬送行程上に位置確認手段を有する搬送装置の制
    御方法であって、搬送方向に複数の位置規制手段を設け
    、搬送を行なう目的位置に応じて該搬送開始前に前記位
    置規制手段の中から有効とするものを選択し、搬送開始
    後に前記位置確認手段または前記位置規制手段の状態に
    応じて、有効とする位置規制手段を再度選択することを
    特徴とする搬送装置の制御方法。
JP1248142A 1989-09-26 1989-09-26 搬送装置およびその制御方法 Pending JPH03111361A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1248142A JPH03111361A (ja) 1989-09-26 1989-09-26 搬送装置およびその制御方法
EP19900310430 EP0420551B1 (en) 1989-09-26 1990-09-24 Conveying apparatus
DE1990627392 DE69027392T2 (de) 1989-09-26 1990-09-24 Fördergerat
US07/963,517 US5226523A (en) 1989-09-26 1992-10-20 Conveying apparatus and method of controlling the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1248142A JPH03111361A (ja) 1989-09-26 1989-09-26 搬送装置およびその制御方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03111361A true JPH03111361A (ja) 1991-05-13

Family

ID=17173850

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1248142A Pending JPH03111361A (ja) 1989-09-26 1989-09-26 搬送装置およびその制御方法

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0420551B1 (ja)
JP (1) JPH03111361A (ja)
DE (1) DE69027392T2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6440416B2 (ja) 2014-08-29 2018-12-19 キヤノン株式会社 処理装置、処理方法及びデバイスの製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4027246A (en) * 1976-03-26 1977-05-31 International Business Machines Corporation Automated integrated circuit manufacturing system
US4468741A (en) * 1980-08-18 1984-08-28 Mac Engineering And Equipment Co., Inc. Apparatus for positioning tooling devices relative to a battery

Also Published As

Publication number Publication date
DE69027392D1 (de) 1996-07-18
DE69027392T2 (de) 1996-10-31
EP0420551A2 (en) 1991-04-03
EP0420551A3 (en) 1992-03-18
EP0420551B1 (en) 1996-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7243003B2 (en) Substrate carrier handler that unloads substrate carriers directly from a moving conveyor
US4775281A (en) Apparatus and method for loading and unloading wafers
US20070186799A1 (en) Direction change device
JPS61105853A (ja) オ−トロ−ダ−
JP3068546B2 (ja) ロボットの制御方法及びその装置
US11189512B2 (en) Stocker
EP1011301B1 (en) Parts installation method and parts mounting method and mounter
JPH03111361A (ja) 搬送装置およびその制御方法
US5226523A (en) Conveying apparatus and method of controlling the same
JP4506058B2 (ja) 無人搬送車
JPH07117847A (ja) 搬送装置
JP3319012B2 (ja) ウエハ搬送制御方法
JP2000099151A (ja) 搬送システム
JP2897604B2 (ja) ワークの搬送位置決め方法及び装置
JP2002353695A (ja) 実装機
JPH05238513A (ja) 半導体ウェハー収納カセットと半導体ウェハー搬送機構との位置決め方法
KR100305984B1 (ko) 핸들러에서반도체소자의로딩및언로딩제어장치및방법
JP2503732Y2 (ja) 半導体製造装置
JPH04113650A (ja) 熱処理工程におけるアンローディング方法及び熱処理装置
JPH10118261A (ja) 遊技機製造用釘打装置
KR0161625B1 (ko) 반도체 웨이퍼 로딩 및 언로딩 장치용 오리엔터 구동방법
KR0179933B1 (ko) 반도체 노광장비의 로드암 구동장치
JPH04281503A (ja) インタロック制御方法
KR20060073146A (ko) 웨이퍼 카세트캐리어 이송시스템
KR19980065768A (ko) 카메라 자동세팅을 위한 웨이퍼 식별문자 정렬장치