JPH03109046U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH03109046U JPH03109046U JP1635090U JP1635090U JPH03109046U JP H03109046 U JPH03109046 U JP H03109046U JP 1635090 U JP1635090 U JP 1635090U JP 1635090 U JP1635090 U JP 1635090U JP H03109046 U JPH03109046 U JP H03109046U
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- JP
- Japan
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- sample
- change
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- ion gun
- etching
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 3
- 238000001941 electron spectroscopy Methods 0.000 claims description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
第１図は、本考案の電子分光分析用装置の概略
図、第２図は、本考案の試料のエツチング深さを
求める装置を表わす模式図である。 ４……イオン銃、５……振動子、６，７……電
極、８……アパーチヤ。
図、第２図は、本考案の試料のエツチング深さを
求める装置を表わす模式図である。 ４……イオン銃、５……振動子、６，７……電
極、８……アパーチヤ。
Claims (1)
- 試料に向つてイオンビームを発するイオン銃と
、試料の載置台であり、且つ試料と共に振動させ
られる振動子と、試料の分析領域をエツチングす
るために前記イオン銃から発せられたイオンビー
ムを分析領域に照射するように、前記イオン銃と
試料との間に設けられたアパーチヤと、エツチン
グ後の試料の質量減少による試料の振動数変化量
を検出して、その変化量に基づいてエツチング深
さを計算する検出・演算回路と、を備えることを
特徴とする電子分光分析用装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1635090U JPH03109046U (ja) | 1990-02-21 | 1990-02-21 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1635090U JPH03109046U (ja) | 1990-02-21 | 1990-02-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03109046U true JPH03109046U (ja) | 1991-11-08 |
Family
ID=31519619
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1635090U Pending JPH03109046U (ja) | 1990-02-21 | 1990-02-21 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03109046U (ja) |
-
1990
- 1990-02-21 JP JP1635090U patent/JPH03109046U/ja active Pending