JPH03118546U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH03118546U JPH03118546U JP2676790U JP2676790U JPH03118546U JP H03118546 U JPH03118546 U JP H03118546U JP 2676790 U JP2676790 U JP 2676790U JP 2676790 U JP2676790 U JP 2676790U JP H03118546 U JPH03118546 U JP H03118546U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- trigger signal
- center
- beam current
- measuring device
- rotation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
第１図は、この考案の一実施例に係るイオン注
入装置の要部を示す縦断面図である。第２図は、
第１図のイオン注入装置の平面図である。第３図
は、第１図中のトリガ信号発生手段を抜き出して
示す平面図である。第４図は、ビーム電流計測器
によつて計測されるビーム電流の状態の一例を示
す図である。第５図は、ビーム電流が変動してい
る場合のビーム電流の読みと時間との関係の一例
を示す図である。第６図は、従来のイオン注入装
置の基板周りを示す平面図である。第７図は、ビ
ーム電流と時間との関係の一例を示す図である。 ４……基板、６……イオンビーム、８……ビー
ム電流計測器、２０……トリガ信号発生手段、２
８……積算器。
入装置の要部を示す縦断面図である。第２図は、
第１図のイオン注入装置の平面図である。第３図
は、第１図中のトリガ信号発生手段を抜き出して
示す平面図である。第４図は、ビーム電流計測器
によつて計測されるビーム電流の状態の一例を示
す図である。第５図は、ビーム電流が変動してい
る場合のビーム電流の読みと時間との関係の一例
を示す図である。第６図は、従来のイオン注入装
置の基板周りを示す平面図である。第７図は、ビ
ーム電流と時間との関係の一例を示す図である。 ４……基板、６……イオンビーム、８……ビー
ム電流計測器、２０……トリガ信号発生手段、２
８……積算器。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 方形の基板を回転させながら当該基板にイオン
ビームを照射してイオン注入を行う装置において
、前記基板の回転中心から一つの角までの対角線
の長さをＬ１、同回転中心から一辺までの垂線の
長さをＬ２とした場合、同回転中心から、 Ｌ１＞Ｍ＞Ｌ２ なる距離Ｍのところに中心を有するビーム電流
計測器と、このビーム電流計測器がイオンビーム
を完全に受けるときにそれに同期したトリガ信号
を発生するトリガ信号発生手段と、このトリガ信
号発生手段からのトリガ信号に応答して前記ビー
ム電流計測器で計測したビーム電流を読み取りか
つそれを積算する機能を有する積算器とを備える
ことを特徴とするイオン注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2676790U JPH0754917Y2 (ja) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2676790U JPH0754917Y2 (ja) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | イオン注入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03118546U true JPH03118546U (ja) | 1991-12-06 |
| JPH0754917Y2 JPH0754917Y2 (ja) | 1995-12-18 |
Family
ID=31529647
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2676790U Expired - Lifetime JPH0754917Y2 (ja) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0754917Y2 (ja) |
-
1990
- 1990-03-16 JP JP2676790U patent/JPH0754917Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0754917Y2 (ja) | 1995-12-18 |
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