JPH03107598A - 軸流真空ポンプの表面処理方法 - Google Patents
軸流真空ポンプの表面処理方法Info
- Publication number
- JPH03107598A JPH03107598A JP24604889A JP24604889A JPH03107598A JP H03107598 A JPH03107598 A JP H03107598A JP 24604889 A JP24604889 A JP 24604889A JP 24604889 A JP24604889 A JP 24604889A JP H03107598 A JPH03107598 A JP H03107598A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- surface treatment
- pump
- vacuum
- gas phase
- phase surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title claims abstract description 55
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 16
- 239000010936 titanium Substances 0.000 abstract description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 abstract 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 30
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、軸流真空ポンプのポンプ部品金属表面に表
面処理を施す表面処理方法に関する。
面処理を施す表面処理方法に関する。
種々の装置に真空状態を作るために軸流真空ポンプが使
用され、特に超真空状態を作るのにターボ分子ポンプが
使用される。
用され、特に超真空状態を作るのにターボ分子ポンプが
使用される。
上記軸流真空ポンプの実際の適用例として反応性ガスの
排気用ポンプとしての需要が最近増加している。
排気用ポンプとしての需要が最近増加している。
反応性ガス排気用に軸流真空ポンプを使用する場合には
、反応性ガスによるポンプ部品の腐食に特に注意する必
要がある。このため、特に腐食が問題となるロータ等の
部品に表面処理を施している。
、反応性ガスによるポンプ部品の腐食に特に注意する必
要がある。このため、特に腐食が問題となるロータ等の
部品に表面処理を施している。
一方、超高真空用ポンプとして例えばターボ分子ポンプ
のような軸流真空ポンプを使用する場合も、軸流真空ポ
ンプの部品金属表面から放出されるガス量が問題となる
ため、ポンプ部品金属表面に表面処理を施すという対策
が行なわれている。
のような軸流真空ポンプを使用する場合も、軸流真空ポ
ンプの部品金属表面から放出されるガス量が問題となる
ため、ポンプ部品金属表面に表面処理を施すという対策
が行なわれている。
上記いずれの場合の表面処理も、一般には各ポンプ部品
単体で処理が施され、ポンプ組立・調整後、高真空中に
てベーキング処理を行い、ポンプ構成部品の表面の吸着
ガスを着脱させることによって汚れが落される。
単体で処理が施され、ポンプ組立・調整後、高真空中に
てベーキング処理を行い、ポンプ構成部品の表面の吸着
ガスを着脱させることによって汚れが落される。
しかしながら、上記部品単位での表面処理を施し、ポン
プ組立・調整後高真空中でベーキング処理をしてせっか
く汚れを落し、ポンプ組立時に清浄な表面状態が得られ
た部品も、組立時に付着する手垢や油の付着、ポンプ組
立作業環境における大気中の水分の付着のため汚れてし
まい、結局組立後長時間のベーキング処理により汚れを
落す必要がある。
プ組立・調整後高真空中でベーキング処理をしてせっか
く汚れを落し、ポンプ組立時に清浄な表面状態が得られ
た部品も、組立時に付着する手垢や油の付着、ポンプ組
立作業環境における大気中の水分の付着のため汚れてし
まい、結局組立後長時間のベーキング処理により汚れを
落す必要がある。
この発明は、上記のような従来の軸流真空ポンプの組立
時におｉｌｌる巧れの除去方法の現状に鑑みてなされた
ものであり、その目的は軸流真空ポンプを組立てた状態
で各構成部品の全体をベーキング処理した後、さらに各
部品の金属表面に気相表面処理装置により気相表面処理
を施して反応性ガス等が金属表面に吸着するのを防止す
る表面処理方法を提供するにある。
時におｉｌｌる巧れの除去方法の現状に鑑みてなされた
ものであり、その目的は軸流真空ポンプを組立てた状態
で各構成部品の全体をベーキング処理した後、さらに各
部品の金属表面に気相表面処理装置により気相表面処理
を施して反応性ガス等が金属表面に吸着するのを防止す
る表面処理方法を提供するにある。
そこで、この発明では−Ｆ記課題を解決するための手段
として、軸流真空ポンプの各構成部品を組立て、この軸
流真空ポンプに対して気相表面処理物質を内蔵する気相
表面処理装置をその吸入口側に接続し、上記軸流真空ポ
ンプの各構成部品に適宜加熱装置等により真空ベーキン
グ処理を施し、その間に気相表面処理装置に加熱その他
の処理操作を加え気相表面処理物質を気相化させて」二
記各構成部品を気相表面処理する軸流真空ポンプの表面
処理方法を採用したのである。
として、軸流真空ポンプの各構成部品を組立て、この軸
流真空ポンプに対して気相表面処理物質を内蔵する気相
表面処理装置をその吸入口側に接続し、上記軸流真空ポ
ンプの各構成部品に適宜加熱装置等により真空ベーキン
グ処理を施し、その間に気相表面処理装置に加熱その他
の処理操作を加え気相表面処理物質を気相化させて」二
記各構成部品を気相表面処理する軸流真空ポンプの表面
処理方法を採用したのである。
上述したこの発明による表面処理方法では、軸流真空ポ
ンプの各構成部品はこれらを組立てた状態でまず適宜加
熱手段等により真空へ一キング処理され、各ポンプ構成
部品はその表面に組立中に付着した種々の汚れが除去清
浄化される。真空へ一キングは従来のように長時間施す
必要はなく、汚れをある程度除去するに必要な最小限の
時間であればよい。
ンプの各構成部品はこれらを組立てた状態でまず適宜加
熱手段等により真空へ一キング処理され、各ポンプ構成
部品はその表面に組立中に付着した種々の汚れが除去清
浄化される。真空へ一キングは従来のように長時間施す
必要はなく、汚れをある程度除去するに必要な最小限の
時間であればよい。
さらに、軸流真空ポンプの吸入側に接続された気相表面
処理装置に加熱操作等を施すことによって気相表面処理
物質を気相化すると、その気相化された物質が軸流真空
ポンプ内に移動し、各ポンプ構成部品に蒸着し、各ポン
プ構成部品の表面性状を改善する。
処理装置に加熱操作等を施すことによって気相表面処理
物質を気相化すると、その気相化された物質が軸流真空
ポンプ内に移動し、各ポンプ構成部品に蒸着し、各ポン
プ構成部品の表面性状を改善する。
上記気相表面処理方法としては、上記蒸着法以外にも、
スパッタリング法、低温ＣＶ Ｄ法、あるいはイオンブ
レーティング法などがあり、そのいずれの方法を用いて
もよい。
スパッタリング法、低温ＣＶ Ｄ法、あるいはイオンブ
レーティング法などがあり、そのいずれの方法を用いて
もよい。
気相表面処理の利点は、従来の塗装やメツキなどの湿式
表面処理が、その表面処理中に被表面処理表面から電気
化学反応によりガス発生を伴なうため、湿式表面処理後
の構成部品表面には多量の吸着ガスが存在し、超高真空
を得るためのポンプ部品処理としては不適当であるのに
対して、気相表面処理ではこのような表面に吸着ガスが
残存するということがない点にある。
表面処理が、その表面処理中に被表面処理表面から電気
化学反応によりガス発生を伴なうため、湿式表面処理後
の構成部品表面には多量の吸着ガスが存在し、超高真空
を得るためのポンプ部品処理としては不適当であるのに
対して、気相表面処理ではこのような表面に吸着ガスが
残存するということがない点にある。
なお、上記気相表面処理は、軸流真空ポンプの運転作動
中に施してもよく、あるいは停止中に施してもよい。一
般にはポンプは作動している方が処理上便利であるが、
上記軸流真空ポンプとは別のポンプが用意できれば軸流
真空ポンプ自体を作動させる必要はなく、気相表面処理
の効率はいずれの方法であっても大差ないからである。
中に施してもよく、あるいは停止中に施してもよい。一
般にはポンプは作動している方が処理上便利であるが、
上記軸流真空ポンプとは別のポンプが用意できれば軸流
真空ポンプ自体を作動させる必要はなく、気相表面処理
の効率はいずれの方法であっても大差ないからである。
また、上記気相表面処理物質は金属に限らず、ポンプ内
構成部品の表面性状を改善できるものであればどのよう
な物質でもよい。
構成部品の表面性状を改善できるものであればどのよう
な物質でもよい。
以下この発明の実施例について添イ」図を参照して説明
する。
する。
図示のように、この実施例では軸流真空ポンプとしての
ターボ分子ポンプ１に対して表示処理する方法を示して
いる。ターボ分子ポンプ１は、周知のように軸流タービ
ンと僚た構造の翼に一定の傾きを持つロータ２と、この
ロータとは逆の傾きを持つステータ３とを交互に多段に
重ねて回転翼を高速回転させることにより排気作用を得
て超真空を作る。
ターボ分子ポンプ１に対して表示処理する方法を示して
いる。ターボ分子ポンプ１は、周知のように軸流タービ
ンと僚た構造の翼に一定の傾きを持つロータ２と、この
ロータとは逆の傾きを持つステータ３とを交互に多段に
重ねて回転翼を高速回転させることにより排気作用を得
て超真空を作る。
上記ターボ分子ポンプ１の吸入側には気相表面処理用の
真空槽４が取り付けられている。この真空槽４内には、
チタンＴｉ金属などの蒸着源５をるつぼ６に貯蔵し、そ
の周囲にヒータ７を設けた気相表面処理装置が設けられ
ている。８は補助的に用いられる通常のロータリーポン
プであり、超真空圧を作成する前段ポンプとして設けら
れている。
真空槽４が取り付けられている。この真空槽４内には、
チタンＴｉ金属などの蒸着源５をるつぼ６に貯蔵し、そ
の周囲にヒータ７を設けた気相表面処理装置が設けられ
ている。８は補助的に用いられる通常のロータリーポン
プであり、超真空圧を作成する前段ポンプとして設けら
れている。
上記のように構成したこの実施例によるターボ分子ポン
プ１の各構成部品、例えばロータ２、ステータ３の金属
表面に表面処理を施す場合、まず図示省略の適宜加熱手
段等により真空ベーキング処理を行なう。このベーキン
グ処理時間は従来の真空ベーキング処理のめで表面処理
をする場合のように長時間とする必要はなく、表面処理
として最小限油、手垢の汚れが落ちるに十分な時間であ
ればよい。
プ１の各構成部品、例えばロータ２、ステータ３の金属
表面に表面処理を施す場合、まず図示省略の適宜加熱手
段等により真空ベーキング処理を行なう。このベーキン
グ処理時間は従来の真空ベーキング処理のめで表面処理
をする場合のように長時間とする必要はなく、表面処理
として最小限油、手垢の汚れが落ちるに十分な時間であ
ればよい。
次に、気相表面処理装置により気相表面処理を施す。こ
の場合、この実施例では図示のヒータ７により加熱して
蒸着＃５の金属をるつぼ６内で溶融し、真空圧で前記范
着源５の金属を気相化し、この装置に接続されている前
記ターボ分子ポンプ１の各構成部品へ蒸着させる。
の場合、この実施例では図示のヒータ７により加熱して
蒸着＃５の金属をるつぼ６内で溶融し、真空圧で前記范
着源５の金属を気相化し、この装置に接続されている前
記ターボ分子ポンプ１の各構成部品へ蒸着させる。
前記気相表面処理を施す場合、ターボ分子ポンプ１は運
転作動中でも停止中であってもよい。運転作動中の方が
気相表面処理上は便利であるが、別のポンプ、例えば前
述の前段ポンプ８あるいはこれ以外の特別なポンプを作
動させれば気相表面処理を施すことができ、表面処理の
効率上大きな差はないからである。
転作動中でも停止中であってもよい。運転作動中の方が
気相表面処理上は便利であるが、別のポンプ、例えば前
述の前段ポンプ８あるいはこれ以外の特別なポンプを作
動させれば気相表面処理を施すことができ、表面処理の
効率上大きな差はないからである。
上述した金属の蒸着法以外にも、気相表面処理の方法と
しては、スパッタリング法、低温ＣＶＤ法、イオンブレ
ーティング法、イオンクラスタビーム法、プラズマＣＶ
Ｄ法、光ＣＶＤ法など種々の方法があり、各ポンプ構成
部品の強度、熱変形等に影響を与えない限りいずれの方
法を採用してもよい。
しては、スパッタリング法、低温ＣＶＤ法、イオンブレ
ーティング法、イオンクラスタビーム法、プラズマＣＶ
Ｄ法、光ＣＶＤ法など種々の方法があり、各ポンプ構成
部品の強度、熱変形等に影響を与えない限りいずれの方
法を採用してもよい。
なお、この実施例では気相表面処理を行なう際に、ター
ボ分子ポンプ吸入口を下側に配置させているが、一般に
このような気相表面処理を行なうにはこのような吸入口
を下側に配置する必要が多く、従ってターボ分子ポンプ
を支持する軸受として磁気軸受を採用するのに適してい
る。ターボ分子ポンプのような超真空圧を作り出す装置
では、磁気軸受で支持して高速回転で駆動されるから、
上記形式の配置はこのような場合にを利である。
ボ分子ポンプ吸入口を下側に配置させているが、一般に
このような気相表面処理を行なうにはこのような吸入口
を下側に配置する必要が多く、従ってターボ分子ポンプ
を支持する軸受として磁気軸受を採用するのに適してい
る。ターボ分子ポンプのような超真空圧を作り出す装置
では、磁気軸受で支持して高速回転で駆動されるから、
上記形式の配置はこのような場合にを利である。
以上詳細に説明したように、この発明では軸流真空ポン
プの各構成部品の表面処理方法として、通常のベーキン
グ処理を各ポンプ構成部品を組立てた状態でまず施し、
その吸入口側に気相表面処理装置を接続して蒸着源から
加熱等の処理操作をして気相表面処理物質を蒸着させ、
清浄化された各ポンプ構成部品の表面上に気相表面処理
という、所謂ドライプロセスとしてのクリーンな処理を
施すため、その処理表面性状として極めて良質なものが
得られ、非反応性ガスだけでなく反応性ガスの排気行程
であっても、各ポンプ構成部品表面から有害な吸着ガス
が放出されて金属表面を腐食する等の表面性状の劣化を
防止することができるという利点がある。
プの各構成部品の表面処理方法として、通常のベーキン
グ処理を各ポンプ構成部品を組立てた状態でまず施し、
その吸入口側に気相表面処理装置を接続して蒸着源から
加熱等の処理操作をして気相表面処理物質を蒸着させ、
清浄化された各ポンプ構成部品の表面上に気相表面処理
という、所謂ドライプロセスとしてのクリーンな処理を
施すため、その処理表面性状として極めて良質なものが
得られ、非反応性ガスだけでなく反応性ガスの排気行程
であっても、各ポンプ構成部品表面から有害な吸着ガス
が放出されて金属表面を腐食する等の表面性状の劣化を
防止することができるという利点がある。
図面はこの発明による表面処理方法を実施するための軸
流真空ポンプとこれに接続された気相表面処理装置の全
体概略断面図である。 １・・・・・ターボ分子ポンプ、２・・・・ロータ、３
・・・・・・ステータ、 ４・・・・・・真空槽、 ５・・・・・・蒸着源、 ６・・・・ るつぼ、 ７・・・・・・ヒータ、 ８・・・・・・前段ポンプ。
流真空ポンプとこれに接続された気相表面処理装置の全
体概略断面図である。 １・・・・・ターボ分子ポンプ、２・・・・ロータ、３
・・・・・・ステータ、 ４・・・・・・真空槽、 ５・・・・・・蒸着源、 ６・・・・ るつぼ、 ７・・・・・・ヒータ、 ８・・・・・・前段ポンプ。
Claims (1)
- （１）軸流真空ポンプの各構成部品を組立て、この軸流
真空ポンプに対して気相表面処理物質を内蔵する気相表
面処理装置をその吸入口側に接続し、上記軸流真空ポン
プの各構成部品に適宜加熱装置等により真空ベーキング
処理を施し、その間に気相表面処理装置に加熱その他の
処理操作を加え気相表面処理物質を気相化させて上記各
構成部品を気相表面処理することを特徴とする軸流真空
ポンプの表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24604889A JPH03107598A (ja) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | 軸流真空ポンプの表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24604889A JPH03107598A (ja) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | 軸流真空ポンプの表面処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03107598A true JPH03107598A (ja) | 1991-05-07 |
Family
ID=17142693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24604889A Pending JPH03107598A (ja) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | 軸流真空ポンプの表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03107598A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103850949A (zh) * | 2012-12-04 | 2014-06-11 | 普发真空有限公司 | 真空泵 |
| JP2015048738A (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 株式会社島津製作所 | ターボ分子ポンプ |
-
1989
- 1989-09-20 JP JP24604889A patent/JPH03107598A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103850949A (zh) * | 2012-12-04 | 2014-06-11 | 普发真空有限公司 | 真空泵 |
| JP2015048738A (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 株式会社島津製作所 | ターボ分子ポンプ |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7278831B2 (en) | Apparatus and method for control, pumping and abatement for vacuum process chambers | |
| TWI470111B (zh) | 成膜裝置及成膜方法 | |
| JPH0525040B2 (ja) | ||
| WO2006127472A1 (en) | Deposition chamber desiccation systems and methods of use thereof | |
| JPH10122179A (ja) | 真空ポンプ | |
| JP2000183037A (ja) | 真空処理装置 | |
| KR20190010594A (ko) | 스테이터, 회전 샤프트, 건식 진공 펌프 및 연관된 제조 방법 | |
| TW201116720A (en) | Gas discharge structure, and device and method for plasma processing | |
| JPH03107598A (ja) | 軸流真空ポンプの表面処理方法 | |
| EP0610666B1 (en) | Turbomolecular pump | |
| JPH0533044A (ja) | 真空炉 | |
| JPS62203721A (ja) | タ−ボポンプ | |
| JP3930297B2 (ja) | ターボ分子ポンプ | |
| JPS62168994A (ja) | 高真空排気装置 | |
| JP2701489B2 (ja) | ターボ分子ポンプ | |
| JPH01200071A (ja) | 真空排気装置 | |
| JP2568364B2 (ja) | トラップパネル付きターボポンプ | |
| JPH029104B2 (ja) | ||
| JP2004346858A (ja) | 半導体製品製造装置およびその清浄化方法 | |
| JPS6030739B2 (ja) | 塊状合金の製造方法および製造装置 | |
| JP2666710B2 (ja) | 真空形成方法及び真空装置 | |
| KR100235686B1 (ko) | 진공배기장치 | |
| JPH02207185A (ja) | 真空装置 | |
| JP2017031892A (ja) | 真空排気装置及びその運転方法 | |
| JPH09152154A (ja) | 排気方法および装置ならびにそれを用いて構成された半導体製造装置 |