JPH03105914A - 常圧ｃｖｄ装置システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 常圧ＣＶＤ装置システムに係り、特に半導体装置の製造
に際して、常圧ＣＶＤ装置の排気安定化を図るためのシ
ステムに関し、 ＣＤＶ或長を安定して、均一性よく行うことがてきる常
圧ＣＶＤ装置システムを提供することを目的とし、 常圧ＣＶＤ反応室６と工場内ダクト７間にオートダンパ
−３、駆動部を持たないファン４及びインバータ制御に
よるファン５を順にその排気系システムとして設けて前
記工場内ダクトの排気圧力の変動を前記常圧ＣＶＤ反応
室に影響を与えないようにしたことを構或とする。

〔産業上の利用分野〕

本発明は常圧ＣＶＤ装置システムに係り、特に半導体装
置の製造に際して、常圧ＣＶＤ装置の排気安定化を図る
ためのシステムに関する。

常圧ＣＶＤ　（化学気相或長）装置は超ＬＳＩプロセス
工程において、ＰＳＧ　，　ＢＰＳＧ膜等を或長させる
装置としてよく使用されているが、常圧系であるためＰ
ｌＪＭＰ系を持たず工場内ダクトより排気を持っている
ため、排気の安定性が戊長膜の膜厚やドーパント濃度の
均一性にとり重要な要因となっている。

〔従来の技術〕

常圧ＣＶＤ装置では反応ガスの供給、排気のために常圧
とはいっても若干圧力を減じた県内で反応が行われる。

この反応では排気圧が安定であればある程、或長膜の膜
質が安定する。

従来では、排気圧の変動を抑えるために反応装置に続く
排気系に、圧力センサーによりダンパーにフィードバッ
クさせダンパーの開口度を調整するオートダンパーを配
備したり、ダクトにダンパーを２〜３枚追加したりする
ことによって圧力変動をできるだけ抑えていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記のような対策では排気圧の変動はある程度抑えられ
たし、特に長時間の周期を有する圧力変動はオートダン
パーによって抑えることが出来た。

しかし、通常ＣＶＤ装置に接続しているダクト排気は短
時間（１秒以下）の周期を有する圧力変動を招き、この
圧力変動が反応ガス流の不均一性を生じるため常圧ＣＶ
Ｄ装置の膜厚や、ドーパント濃度の均一性が不安定とな
る。

第３図（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ従来技術において、
ウェハー１１内の膜厚が厚い領域１２を示す図及びそれ
に対応した膜厚分布を示すグラフである。

本発明はＣＶＤ或長を安定して、均一性よく行うことが
できる常圧ＣＶＤ装置システムを提供することを目的と
する。

〔課題を解決するための手段〕

上記課題は本発明によれば常圧ＣＶＤ反応室６と工場内
ダクト７間にオートダンパ−３、駆動部を持たないファ
ン４及びインバータ制御によるファン５を順にその排気
系システムとして設けて前記工場内ダクトの排気圧力の
変動を前記常圧ＣＶＤ反応室に影響を与えないようにし
たことを特微とする常圧ＣＶＤ装置システムによって解
決される。

〔作　用〕

本発明によれば、排気変動のうち、短周期微振及び長時
間周期の圧力変動ともに有効におさえることができ、排
気が安定せしめられ膜厚、ドーバント濃度が均一になる
。

〔実施例〕

以下本発明の実施例を図面に基づいて説明する。

第１図は本発明の１実施例を示す模式図である。

第１図に示すように、ＣＶＤ装置に続く排気系１に上流
の方から順に圧力センサー２、オートダンパ−３、駆動
部を持たないファン４及びインバータ制御による駆動部
を持つファン５が設けられている。駆動部を持たないフ
ァン４はインバータ制御による駆動部を持つファン５に
よる風力によって回転せしめられる。

第２図は上記装置を含めた本発明の常圧ＣＶＤ装置全体
のシステムを示す図である。

第２図において、まず工場内ダクト７の排気圧を上記イ
ンバータ制御によるファン５を用いて安定化させる。こ
の安定化された風力・にょって回転する駆動部を持たな
いファン（回転する多極ファン）によってインバータ制
御によるファンの微振及び本来のダクトの微振を抑える
。そのためには上述のようにファンの羽を出来るだけ多
く、多極型にした方がより振動の抑制効果がある。更に
その上流に配されたオートダンパー３によって長期的な
周期を有する圧力変動が抑えられ反応室へと接続されて
いる。

インバータ制御によるファン５と駆動部を持たないファ
ン４との間には、第２図に示すように窒素（Ｎ２）を多
量に例えば１００　ｆｆｌ　／分程度流すと圧力変動が
より安定化される。この圧力変動の安定化のためには窒
素（Ｎ２）が多ければ多い程よい。

上記ファン４は取り外し可能としておきパウダートラッ
プとしても用いることができる。

第１．２図の如き実施例を用いた場合のウェハー内の膜
厚分布、及び排気の安定性を、従来例と比較した結果を
第１表に示す。

第１表 第１表に示すように本実施例の方がウエハー内膜厚分布
、排気の安定性共に従来例より優れている。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、工場内ダクトの
排気の変動のうち、短周期の微振はインバータ制御によ
るファン、駆動部を持たないファン及びその間に多量の
Ｎ２を流すことによりかなりの安定化が図れる。

また排気変動の長時間周期の振動；よオートダンパーに
よりゆるやかに変動を抑えることができ常圧ＣＶＤ装置
内の反応室内の供給ガス圧の変動を十分に抑制すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の１実施例を示す模式図であり、第２図
は上記装置を含めた本発明の常圧ＣＶＤ装置全体のシス
テムを示す図であり、 第３図（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ従来技術において、
ウェハー内の膜厚が厚い領域を示す図及びそれに対応し
た膜厚分布を示すグラフである。 １・・・排気系、　　　　　　２・・・圧力センサー３
・・・オートダンパー ４・・・駆動部を持たないファン、 ５・・・インバータ制御による駆動部を持つファン、６
・・・ＣＶＤ反応室、　　　７・・・工場内ダクト、１
０・・・常圧ＣＶＤ装置、　１１・・・ウェハー１２・
・・膜厚が厚い領域。 膜厚 図 １１・・・ウエハー １２・・・膜厚が厚いａｍ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、常圧ＣＶＤ反応室６と工場内ダクト７間にオートダ
   ンパー３、駆動部を持たないファン４及びインバータ制
   御によるファン５を順にその排気系システムとして設け
   て前記工場内ダクトの排気圧力の変動を前記常圧ＣＶＤ
   反応室に影響を与えないようにしたことを特徴とする常
   圧ＣＶＤ装置システム。