JPH03104845A - 曲げ加工性の良好な高強度りん青銅の製造方法 - Google Patents

曲げ加工性の良好な高強度りん青銅の製造方法

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JPH03104845A
JPH03104845A JP24025089A JP24025089A JPH03104845A JP H03104845 A JPH03104845 A JP H03104845A JP 24025089 A JP24025089 A JP 24025089A JP 24025089 A JP24025089 A JP 24025089A JP H03104845 A JPH03104845 A JP H03104845A
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JP
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phosphor bronze
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annealing
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JP24025089A
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Yasuo Hirano
康雄 平能
Hidehiko So
宗 秀彦
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Eneos Corp
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Nippon Mining Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明の製造方法は、電子部品を始めとする良好な曲げ
加工性が要求され、場合によっては高いばね性が要求さ
れるあらゆる分野の製品に利用可能である。
[従来の技術コ 従来強度が要求される電子部品には、黄銅、洋白、りん
青銅、ベリリウム銅等の銅合金や、ステンレス等の鉄合
金が用いられている。これらの電子部品用の材料の中で
、りん青銅は強度も高く、曲げ加工性、耐食性、耐応力
腐食割れ性も良好であり、広く利用されている。しかし
、近年、部品の小型化に伴ない、電子部品用の材料も薄
肉化の傾向があり、そうした場合、材料には高強度であ
ることが要求されるようになった。ところがりん青銅の
強化機構はCu中へのSnの固溶強化と冷間加工(圧延
)による加工硬化の組み合せによるものであり、高強度
なりん青銅を得ようとすると、冷間圧延の加工度を高く
しなければならず、そのため曲げ加工性が悪くなる。特
に曲げ軸が圧延方向に対し平行方向の曲げ加工性が悪く
なる。また、りん青銅の加工硬化による強度の向上もお
のずと限界がある。一方、りん青銅の高強度化には、S
n濃度を高くする方法があるが、地金コストが高くなる
。又、Sn濃度の高いりん青銅は、熱間圧延が困難であ
り、板厚の薄いインゴットを鋳造し、冷間圧延と焼鈍を
繰返す方法により製造しなければならず、この方法は熱
間圧延を行う方法に比べてコスト高である。
[発明が解決しようとする課題] 上述のように、部品の小型化に伴ない、高強度の材料が
要求されるようになってきているが、安価で高強度でか
つ曲げ加工性も良好である材料が待ち望まれている。
[課題を解決するための手段] 本発明はこのような点に鑑み、曲げ加工性に優れた安価
なりん青銅の製造方法を提供するものである。
すなわち、本発明は、Sn0.5wt%以上3.5wt
%未満、P  0.001 〜0.30wt%、N i
  0.001〜Q.50wt%を含み、あるいはさら
に副或分としてFe,Mg,A I,S iSC rS
MnSCo,Zn,Ti,Zr、Pbの中から1種又は
2種以上を0.001〜2.O wt%含み、残部Cu
および不可避的な不純物からなるりん青銅において、1
50〜650℃の温度で結晶粒が0.001〜0.02
51ml1になり、かつNiとPが金属間化合物として
析出する様に焼鈍することを特徴とする曲げ加工性に優
れた高強度りん青銅の製造方法であり、かつ、上記結晶
粒が0.001〜0.025mmに成長したりん青銅を
90%以下の加工度で冷間圧延することを特徴とする曲
げ加工性に優れた高強度りん青銅の製造方法であり、か
つ、上記90%以下の加工度で冷間圧延したりん青銅を
150〜650℃の温度で再結晶しない程度の時間歪取
焼鈍を行うことを特徴とする曲げ加工性に優れた高強度
りん青銅の製造方法に関するものである。
以下に本発明により曲げ加工性が良好な高強度りん青銅
が得られる理由を述べる。
前にも述べたように、りん青銅はCu中へのSnの固溶
強化と冷間加工(圧延)による加工硬化を組合せたもの
であるが、Sn量を0.5wt%以上3.5wt%未満
とするのは、0.5wt%未満ではばね強度(ばね限界
値)が不十分であり、3.5wt%以上では、熱間加工
性が悪くなるためである。Pを添加するのは脱酸及び靭
性を持たせるためであるが、添加量を0.001〜0.
lOwt%とするのは、0.001wt%未満ではその
効果がな( 、OJ0wt%を超えると導電率が低下し
、耐SCC性及び錫又ははんだめっきの耐熱剥離性が著
しく劣化するためである。Niを0.001〜0.50
wt%添加する理由は、Niによる固溶強化に合わせて
、 NiはPと金属間化合物を作り易く、この粒子を析出さ
せることにより、強度を向上させるためである。添加量
を0.001〜0.50wt%とするのは、0.OO1
wt%未満ではその効果がなく、また、0.50wt%
を超えると導電率が低下し、錫又ははんだめっき耐熱剥
離性が劣化するためである。
副成分としてF e −, M g SA 1 s S
 l ,C r sMn,CoSZn,T iSZ r
、Pbの中から1種又は2種以上を0.001〜2.O
 wt%添加するのは、強度を向上させるためであるが
、添加量を0.001〜2.O wt%とする理由は、
0.OOlwt%未満ではその効果がな< 、2.0w
t%を超えると加工性が著しく劣化し、導電率、はんだ
付け性が劣化するためである。
このような成分の合金を150〜650℃の温度で結晶
粒が0.001〜0.025avになり、かつNiとP
が金属間化合物として析出させるように焼鈍する理由は
、結晶粒を0.001〜0.025園一と微細に戊長さ
せることにより、曲げ加工性を良好にし、かつNiとP
の金属間化合物を析出させ、強度を向上させるためであ
る。結晶粒を0.001〜0.025+mmとするのは
、0.001mm未満では未再結晶部がほとんどであり
、加工組織が残り、曲げ性は著しく悪く、0.025a
vを超えると、曲げ加工を施したときに肌荒れし易くな
るためである。150〜650℃の温度で焼鈍するのは
、再結晶と同時にNiとPの金属間化合物を析出させる
ためであるが、150℃未満では再結晶するのに時間が
かかりすぎ、コスト高となり、工業的には無理であり、
650℃を超えると、Cu中へのNi,Pの固溶量が多
くなり、NiとPの金属間化合物が析出せず、強度が向
上しないためである。このような条件で焼鈍したりん青
銅において、さらに強度を向上させるため、90%以下
の加工度で冷間圧延を行う。加工度を90%以下とする
のは、90%を超える加工度で冷間圧延を行うと、曲げ
加工性が劣化し、強度もそれ以上あまり向上しないため
である。更にこの冷間圧延したりん青銅を150〜65
0℃の温度で歪取り焼鈍を行うのは、ばね性及び曲げ加
工性を向上させるためであり、テンション・アニーリン
グ・ラインで行えば、良好な形状の材料が得られる。焼
鈍温度を150〜650℃とするのは150℃未満では
焼鈍時間が長すぎ、コスト高になるためであり、650
℃を超える適正な焼鈍時間が短くなり、炉の温度、炉を
通板する速度のばらつきの影響を受け易くなり、安定し
た強度、ばね性の材料が得られないためである。
以上の製造方法により、曲げ加工性に優れた高強度りん
青銅が得られる。
[実施例] 本発明を実施例をもって具体的に説明する。
第1表にかかる成分のりん青銅のインゴットを鋳造し、
均質化処理、熱間圧延、面削、冷間圧延を順次行い、そ
の後、中間焼鈍、冷間圧延を行い適切な厚みの素条とし
た。この素条に第1表中に示した製造条件にて焼鈍、圧
延を行い、0.25mnの厚さの板材を得た。これらの
例について、引張強さ、伸び、ばね限界値、導電率、N
i−P金属間化合物密度、曲げ加工性、耐食性、耐応力
腐食割れ性(以下耐SCC性と称す)はんだ付け性、は
んだ耐熱剥離性を調査した。
引張強さ、伸びはJIS5号引張試験片を用い測定した
。ばね限界値はlhm幅で10ha長さの短mに加工し
測定した。導電率は1ha幅で100mm長さの短所に
加工し、4端子法により測定した。Ni−P金属間化合
物密度は、X線マイクロアナライザーにより5000倍
の視野で観察し、確認できる0.05μ四から 160
μ厘までの化合物数を50μ自×50μ1の範囲につい
て求めた。
耐食性はJIS  H6502に準じ、試料表面を6 
1200エメリー紙にて研摩後、40℃、90%RHに
おいて25ppIIIS O 2雰囲気に14日間暴露
し、暴露前後の重量変化を測定した。この単位は腐食減
量を示すo (Ildd: B/dII2/day)耐
SCC性は12.5ia+幅で150mm長さの短所試
験片に加工し、第1図に示すようにこの短IIをループ
状にタコ糸2で縛り、2倍に純水で希釈したアンモニア
水3交を含む20交デシケータ内に暴露し、割れが発生
するまでの日数を調査した。はんだ付け性は試料表面を
# 1200エメリー紙にて研摩した後10lIl幅で
50III1の長さに加工し、沸騰蒸気に1時間暴露後
ロジン系フラックスを用い、230℃の60Sn/ 4
0Pbはんだに5秒間浸漬し、外観を観察し、95%以
上の面積がはんだにより被覆されている場合を良好とし
た。はんだめっき耐熱剥離性は試料表面を1 1200
エメリー紙にて研摩後、80Sn/ 40Pbはんだを
電気めっきし、150℃にて加熱し、100時間毎に取
り出し、板厚( 0.25mm)の内側曲げ半径で90
″曲げを往復1回行い、曲げ部のはんだめっきの剥離の
有無を調べた。また、曲げ加工性は、lOfllII幅
に試料を加工した後、C E S MOOO2に準じ、
W曲げ試験を行い、曲げ部の外観を観察した。
曲げ軸は圧延方向に平行方向(Bad way)とし、
内側曲げ半径は板厚( 0.25a+m)と同一とした
曲げ加工性の判定は外観により、良好、肌荒れ、割れ発
生と3段階とした。
第1表中、本発明例は、C u−IJwt%Sn−0.
03wt%P−0.2wt%Niを基本成分としたもの
と、C u−2.Owt%S n − 0.05wtP
−0.3wt%Niを基本成分としたものに副成分を添
加した合金において、350〜400℃にて0.010
〜0.015同に結晶粒が或長ずるまで焼鈍した後、5
0〜70%の加工度で冷間圧延を行い、その後歪取焼鈍
を行ったものであり、Ni−P金属間化合物もかなりの
量析出していて、高強度でばね性も高く、曲げ加工性も
良好で他の特性も良好であることがわかる。
一方、比較例でNo.l1は結晶粒が0.OO1av未
満であるため、曲げ加工性が悪い。No.l2は結晶粒
が0.04011mと大きいため、曲げ加工の際肌荒れ
が生じる。No.13は加工度が95%と高いため、曲
げ加工性が悪い。No.14は高温で焼鈍したため、N
iとPの金属間化合物がほとんど析出せず、強度があま
り高くなく、導電率も低温焼鈍したN o. 5に比べ
て低い。No.15はNiを添加していないため、Ni
−P金属間化合物は生成せず、Cu中へ全てPが固溶す
るため、No.5と比較し導電率が低く、強度も高くな
い。
No.18はPflが多すぎるため、耐SCC性、はん
だ耐熱剥離性が極めて悪く、導電率も低い。
No.l7は副成分の添加量が2.5wt%と多いため
、はんだの耐熱剥離性が悪い。比較例No.18、19
、20は従来から用いられているJIS規格のりん青銅
C 5111、C519L C5210質別1/2H 
− H )であるが本発明例はこれらの材料に比べて同
等もしくはそれを上回る強度を有している。さらにこれ
らのりん青銅に比べて、本発明はSn濃度が低く、コス
ト的にも有利なものであるといえる。
[発明の効果コ 本発明は曲げ加工性を損わずにりん青銅を高強度化する
製造方法であり、電子部品小型化、請肉化に対し、安価
に対応し得る製造方法である。
【図面の簡単な説明】
第1図は耐SCC性試験片の斜視図を示す。 1・・・短明、2・・・タコ糸。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)Sn0.5wt%以上3.5wt%未満、P0.
    001〜0.30wt、Ni0.001〜0.50wt
    %を含み残部Cu及び不可避的な不純物からなるりん青
    銅において、150〜650℃の温度で結晶粒が0.0
    01〜0.025mmになり、かつNiとPが金属間化
    合物として析出する様に焼鈍することを特徴とする曲げ
    加工性の良好な高強度りん青銅の製造方法。
  2. (2)Sn0.5wt以上3.5wt%未満、P0.0
    01〜0.30wt%、Ni0.001〜0.50wt
    %を含み、さらに副成分としてFe、Mg、Al、Si
    、Cr、Mn、Co、Zn、Ti、Zr、Pbの中から
    1種又は2種以上を0.001〜2.0wt%含み、残
    部Cuおよび不可避的な不純物からなるりん青銅におい
    て、150〜650℃の温度で結晶粒が0.001〜0
    .025mmになり、かつNiとPが金属間化合物とし
    て析出する様に焼鈍することを特徴とする曲げ加工性の
    良好な高強度りん青銅の製造方法。
  3. (3)請求項(1)又は(2)記載の結晶粒が0.00
    1〜0.025mmであり、かつNiとPが金属間化合
    物として析出する様に焼鈍したりん青銅において、さら
    に90%以下の加工度で冷間圧延を行うことを特徴とす
    る曲げ加工性の良好な高強度りん青銅の製造方法。
  4. (4)請求項(3)記載の90%以下の加工度で冷間圧
    延を行ったりん青銅において、150〜650℃の温度
    で再結晶しない時間歪取焼鈍を行うことを特徴とする曲
    げ加工性の良好な高強度りん青銅の製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6149741A (en) * 1996-07-30 2000-11-21 Establissements Griset Copper-based alloy having a high electrical conductivity and a high softening temperature for application in electronics
KR100527994B1 (ko) * 2002-03-29 2005-11-09 닛코킨조쿠카코 가부시키가이샤 펀칭가공성이 우수한 단자·커넥터용 인청동막대, 및 굽힘성 및 펀칭가공성이 모두 우수한 단자·커넥터용 인청동막대 및 그 제조방법
JP2007100111A (ja) * 2005-09-30 2007-04-19 Dowa Holdings Co Ltd プレス打抜き性の良いCu−Ni−Sn−P系銅合金およびその製造法
JP2012214882A (ja) * 2011-03-29 2012-11-08 Kobe Steel Ltd 電気電子部品用銅合金材、めっき付き電気電子部品用銅合金材

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