JPH03104281A - 有機薄膜素子 - Google Patents

有機薄膜素子

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JPH03104281A
JPH03104281A JP1240754A JP24075489A JPH03104281A JP H03104281 A JPH03104281 A JP H03104281A JP 1240754 A JP1240754 A JP 1240754A JP 24075489 A JP24075489 A JP 24075489A JP H03104281 A JPH03104281 A JP H03104281A
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JP
Japan
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thin film
polymer
charge transfer
transfer complex
charge
Prior art date
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Pending
Application number
JP1240754A
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English (en)
Inventor
Katsuyuki Naito
勝之 内藤
Nobuhiro Motoma
信弘 源間
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は電荷移動錯体を含有する有機薄膜素子に関する
(従来の技術) 近年、ラングミュア●ブロジェット膜(LB膜)に代表
される有機物の超薄膜を用いた各種電子デバイスの研究
が盛んに行なわれている(例えば、特開昭52−355
87号公報、特開昭55−17505号公報、特開昭5
7−198143号公報、特開昭80−239739号
公報、特開昭61−37891号公報など)。
また、本発明者らは、ドナー性分子やアクセプタ性分子
を含む有機薄膜素子及びその製造方法について開示した
(特開昭62−65477号公報、特開昭62−765
51号公報、特願昭80−72970号など)。これら
の素子は、電圧や光などの外部エネルギーを用いてドナ
ー性分子とアクセプタ性分子との間の電子移動を制御す
ることにより、優れた素子特性を示す。しかし、これら
の素子ではLB膜の積層構造を作製するまでに単分子膜
を何層も積み重ねる必要があるため、素子の作製に多大
の時間と手間を要するという問題があった。
一方、真空蒸着法により作製された電荷移動錯体膜を用
いた素子についても検討されている。ただし、このよう
な素子では、電荷移動錯体膜に大きな電界を印加するた
めに、電極と電荷移動錯体膜との間に、絶縁膜を介在さ
せることが必要である。したがって、この場合にも素子
の作製に時間と手間を要する。また、前記の絶縁膜のた
めに素子全体の厚さが厚くなるうえ、絶縁膜の材質が不
適当な場合には電荷移動錯体に有効な電界が印加するこ
とができず、素子動作のための電圧が高くなるという問
題があった。
(発明が解決しようとする課題) 以上のように、従来の電荷移動錯体を含有する有機薄膜
素子は、素子作製プロセスや素子特性に問題があった。
本発明は前記問題点を解決するためになされたものであ
り、製造プロセスが簡単で、かつ動作電圧も低い高性能
の有機薄膜素子を提供することを目的とする。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明の有機薄膜素子は、電荷移動錯体を分散させたポ
リマー薄膜又はポリマー鎖中に電荷移動錯体を含むポリ
マー薄膜を構成単位とする有機薄膜素子において、前記
電荷移動錯体の電荷移動量を電場によって制御すること
を特徴とするものである。
本発明において、電荷移動錯体を構成するドナー性骨格
及びアクセブタ性骨格としては、種々のものを用いるこ
とができる。
ドナー性骨格としては、例えば、バラフェニレンジアミ
ン、オルトフェニレンジアミン、メタフエニレンジアミ
ン、テトラチアフルバレン、ジセレナジチアフルバレン
、テトラセレナフルバレン、テトラセレナテトラセン、
キノリン、アクリジン、フタロシアニン、ポリフィリン
、フェロセン、アントラセン、ビレン、ペリレン、ベン
ジジン、ジアミノビレン、ポリジアセチレン、ハイドロ
キノン、ジメトキシベンゼン、ジアゾベンゼン、フェノ
チアジンなどが挙げられる。
また、アクセブタ骨格としては、例えば、テトラシアノ
キノジメタン、ペンゾキノン、ナフトキノン、アントラ
キノン、ジニトロベンゼン、トリニトロベンゼン、トリ
シアノベンゼン、ヘキサシアノベンゼン、トリニトロフ
ルバレン、クロロベンゾキノン、ジクロロベンゾキノン
、トリクロロベンゾキノン、ジクロロジシアノベンゾキ
ノン、シアノベンゾキノン、ジシアノベンゾキノン、ト
リシアノベンゾキノン、N.N’−ジシアノキノンジイ
ミン、N.N’−ジスルホニルキノンジイミン、N−カ
ルボニルーN゜−シアノキノンジイミン、N一カルボニ
ルーN゛−スルホニルキノンジイミン、N−スルホニル
ーN“−シアノキノンジイミン、N−スルホニルーキノ
ンイミンなどが挙げられる。
これらのドナー性骨格及びアクセブタ性骨格は、別々の
分子中に導入されていてもよいし、同一分子中に導入さ
れていてもよい。また、多種類の骨格が含まれ、混合錯
体が形或されてもよい。
本発明において、電荷移動錯体が分散されたポリマー薄
膜を構成するポリマーは、電荷移動錯体を分散させるこ
とができ、フィルムになるものであれば特に限定されな
い。ただし、このポリマーに関しては、誘電率が6以上
であることが望ましい。このようなポリマーとしては、
例えば、ボリフッ化ビニリデン、シアノエチル化デンプ
ン、シアノエチル化セルロース、ポリ(シアノエチルア
クリレート)、ポリ(シアノエチルメタクリレート)、
ポリエビクロルヒドリン、又はこれらのモノマーの共重
合体が挙げられる。
本発明において、ポリマー鎖中に電荷移動錯体を含むポ
リマー薄膜とは、ポリマー鎖中にドナー性骨格もし《は
アクセブタ性骨格、又はこれらの両者が含まれ、これら
が電荷移動錯体を形成しているものを章味する。
本発明の有機薄膜素子を構成する有機薄膜は、以下のよ
うな6種の方法で形成することができる。
なお、有機薄膜の形或方法は、用いられる材料の種類や
、素子の用途などに応じて、適宜選択される。
■ドナー、アクセプタ及びポリマーの均一溶液を基板上
にキャストする方法。この場合、溶液中でドナーとアク
セプタとが電荷移動錯体を形成していてもよいし、形成
していなくてもよいが、キャストして溶媒が蒸発した時
点では電荷移動錯体が形或される。均一な薄膜を得るた
めには、キャスト法のうちでもスピンコート法が好まし
い。
■電荷移動錯体及びポリマーを別々の蒸着源ボートに仕
込むか、又はドナー、アクセブタ及びポリマーを別々の
蒸着源ボートに仕込み、同一基板上に同時に蒸着する方
法。この場合、ボートの温度は別々に制御する。この方
法では薄膜がゴミなどの異物で汚染されることが少ない
という利点がある。また、電極も同じ装置で形或できる
ため、簡便である。ただし、この方法では使用できるポ
リマーが制限される。
■ドナー、アクセブタ及びポリマーの均一溶液(■と同
様の溶液)を水面上に滴下して、水面上に薄膜を展開し
、この薄膜をラングミュア・プロジェット法で用いられ
る垂直浸漬法又は水平付着法により基板上に移し取る方
法。薄膜の厚さは用いられるドナー、アクセブタ、ポリ
マー、溶媒によって異なるが、10〜100 rv程度
である。
■電荷移動錯体を分散させたポリマーの溶液を基板上に
キャストする方法。この場合、電荷移動錯体はポリマー
溶液に溶解しておらず、電荷移動錯体の微粒子がポリマ
ー溶液に均一に分散している。
■電荷移動錯体を分散させたポリマーの溶液(■と同様
の溶液)を水面上に滴下して、水面上に薄膜を展開し、
この薄膜を垂直浸漬法又は水平付着法により基板上に移
し取る方法。
■電荷移動錯体を分散させたポリマーの溶融液を基板上
で固化する方法。この場合も、電荷移動錯体の微粒子が
ポリマー溶融液に均一に分散している。
(作用) 本発明の有機薄膜素子では、簡便な方法で電荷移動錯体
を絶縁性のポリマー薄膜中に安定に固定でき、電場によ
って電荷移動量を極めて効率よく制御することができる
。また、素子の耐熱性や機械的強度も改善される。本発
明の有機薄膜素子のように電場によって電荷移動量を制
御するものでは、誘電率が6以上のポリマーを用いれば
電荷移動錯体に有効に電場を印加でき、素子の動作電圧
が大幅に低下する。
(実施例) 以下、本発明の実施例を説明する。
実施例1〜3では第1図に示す表示素子を作製した。第
1図において、ガラス基板1の表面には、透明電極2、
電荷移動錯体を分散させたポリマー薄膜3、厚さ50n
mの半透明の金電極4が順次形成されている。また、透
明電極2には、銀ペーストにより0.3關径の金線(図
示せず)がリード線として接続されている。
実施例1 テトラチアフルバレンとテトラクロロベンゾキノンとの
錯体1IIgを蒸着源ボートAに、ボリフッ化ビニリデ
ン5mgを蒸着源ボートHにそれぞれ収容した。透明電
極2が形成されたガラス基板1を蒸着源からlOca離
れた位置に設置し、銅板を通して液体窒素で冷却した。
蒸着装置内を10−’Torrまで減圧した後、各ボー
トをゆっくり加熱した。この際、ボートBの方をより高
温にした。各蒸着源ボートに取り付けた水晶発振膜厚計
によりフラックス量を測定し、ポリマーの7ラックス量
が錯体のフラックス量の5倍になった時点で、シャッタ
ーを開き、基板上に錯体とポリマーとを共蒸着した。タ
ーリーステップにより測定したところ、膜厚200 n
sのポリマー薄膜3が形成されていた。また、ポリマー
薄膜3中には錯体が均一に分散していた。このポリマー
薄膜3上に金電極4を蒸着し、表示素子を作製した。
この表示素子は、室温下において、電圧を印加しない場
合には黄色を呈し、IOVの印加電圧で黄色から赤紫色
への色変化を生じた。これは電圧の印加により電荷移動
量が増加し、錯体のイオン性が強まったためである。こ
の色変化の応答速度は2 nsecであった。また、i
o’回の繰り返し動作に対しても、特性の変化は認めら
れなかった。
実施例2 テトラチアフルバレン、テトラクロロベンゾキノン、及
びポリメチルメタクリレートをクロロホルムに溶解し、
透明電極2が形成されたガラス基板1上にスピンコート
して、ポリマー薄“膜3を形成し、このポリマー薄膜3
上に金電極4を蒸着し、表示素子を作製した。
この表示素子は、室温下において、20Vの印加電圧で
黄色から赤紫色への色変化を生じた。この色変化の応答
速度は6 nsecであった。また、10’回の繰り返
し動作に対しても、特性の変化は認められなかった。
実施例3 ジヒドロキシメチルテトラチアフルバレンとアジピン酸
との脱水重縮合により合成したポリエステル、及びテト
ラクロロベンゾキノンをクロロホルムに溶解し、透明電
極2が形成されたガラス基板1上にスピンコートして、
ポリマー薄膜3を形成し、このポリマー薄膜3上に金電
極4を蒸着し、表示素子を作製した。
この表示素子は、室温下において、18Vの印加電圧で
黄色から赤紫色への色変化を生じた。この色変化の応答
速度は6 nseeであった。また、10’回の繰り返
し動作に対しても、特性の変化は認められなかった。
実施例4〜7ではスイッチング素子を作製した。
実施例4 ベリレン、テトラシアノキノジメタン、及びシアノエチ
ル化セルロールをクロロホルムージメチルアセトアミド
の混合溶媒に溶解し、この溶液を水面上に滴下してポリ
マー薄膜を展開した。このポリマー薄膜をテフロンバー
を用いて表面圧がl2dyn/amになるまで圧縮した
。水平付着法により、金電極が形成された基板上にこの
ポリマー薄膜を移し取った。この操作を繰り返すことに
より、金電極上に合計lO層のポリマー薄膜を累積した
。このポリマー薄膜上に金電極を蒸着し、スイッチング
素子を作製した。
このスイッチング素子は、室温下において、電圧を印加
しないときには10’Ω/cmの抵抗率を示したが、8
vの印加電圧で抵抗率はlOlΩ/co+に変化し、ス
イッチングを生じた。これは電圧の印加により電荷移動
量が増加し、錯体のイオン性が強まったためである。こ
のスイッチングの応答速度は5 nsecであった。ま
た、105回の繰り返し動作に対しても、特性の変化は
認められなかった。
実施例5 ベリレンとテトラシアノキノジメタンとの電荷移動錯体
の微粒子を、ポリメチルメタクリレートのクロロホルム
溶液に分散させ、金電極が形成された基板上にスピンコ
ートし、膜厚600 nmのポリマー薄膜を形成した。
このポリマー薄膜上に金電極を蒸着し、スイッチング素
子を作製した。
このスイッチング素子は、室温下において、電圧を印加
しないときには108Ω/3の抵抗率を示したが、l5
vの印加電圧で抵抗率はlo3Ω/aI1に変化し、ス
イッチングを生じた。このスイッチングの応答速度はt
onsecであった。また、10’回の繰り返し動作に
対しても、特性の変化は認められなかった。
実施例6 ペリレンとテトラシアノキノジメタンとの電荷移動錯体
の微粒子を、ポリメチルメタクリレートのクロロホルム
溶液に分散させ、これを水面上に滴下してポリマー薄膜
を展開した。このポリマー薄膜をテフロンバーを用いて
表面圧が25dyn/amになるまで圧縮した。水平付
着法により、金電極が形成された基板上にこのポリマー
薄膜を移し取った。この操作を繰り返すことにより、金
電極上に合計lO層のポリマー薄膜を累積した。このポ
リマー薄膜上に金電極を蒸着し、スイッチング素子を作
製した。
このスイッチング素子は、室温下において、電圧を印加
しないときには10’Ω/co+の抵抗率を示したが、
7vの印加電圧で抵抗率は10’Ω/cII1に変化し
、スイッチングを生じた。このスイッチングの応答速度
は5 nsecであった。また、10’回の繰り返し動
作に対しても、特性の変化は認められなかった。
実施例7 ベリレンとテトラシアノキノジメタンとの電荷移動錯体
の微粒子を、ポリオクタデシルメタクリレートの溶融液
に分散させ、金電極が形成された基板上にスビンコート
し、ポリマー薄膜を形威した。このポリマー薄膜上に金
電極を蒸着し、スイッチング素子を作製した。
このスイッチング素子は、室温下において、電圧を印加
しないときにはlO7Ω/anの抵抗率を示したが、1
2Vの印加電圧で抵抗率は102Ω/cII1に変.化
し、スイッチングを生じた。このスイッチングの応答速
度は10nsecであった。また、1G’回の繰り返し
動作に対しても、特性の変化は認められなかった。
[発明の効果] 以上詳述したように本発明の有機薄膜素子は、極めて簡
便に製造することができ、しかも低い電圧においても極
めて高速に動作し、かつ繰り返し動作に対しても安定で
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例1〜3において作製された表示
素子の断面図である。 1・・・ガラス基板、2・・・透明電極、3・・・ポリ
マー薄膜、4・・・金電極。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)電荷移動錯体を分散させたポリマー薄膜又はポリ
    マー鎖中に電荷移動錯体を含むポリマー薄膜を構成単位
    とする有機薄膜素子において、前記電荷移動錯体の電荷
    移動量を電場によって制御することを特徴とする有機薄
    膜素子。
  2. (2)電荷移動錯体を分散させたポリマー薄膜を構成す
    るポリマーの誘電率が6以上であることを特徴とする請
    求項(1)記載の有機薄膜素子。
JP1240754A 1989-09-19 1989-09-19 有機薄膜素子 Pending JPH03104281A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005500682A (ja) * 2001-08-13 2005-01-06 アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド メモリセル
JP2005223194A (ja) * 2004-02-06 2005-08-18 Japan Science & Technology Agency 電荷移動錯体分子による点状発光源、及びその製造方法
JP2007142056A (ja) * 2005-11-16 2007-06-07 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 有機半導体装置の製造方法
JP2007270146A (ja) * 2006-03-10 2007-10-18 Nagoya Institute Of Technology 表示素子用導電性高分子薄膜及びその製造方法並びにそれを用いてなるエレクトロクロミック表示素子

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JP2005500682A (ja) * 2001-08-13 2005-01-06 アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド メモリセル
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