JP2007270146A - 表示素子用導電性高分子薄膜及びその製造方法並びにそれを用いてなるエレクトロクロミック表示素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】p型導電性高分子とアニオン性の両親媒性化合物とから複合体を形成させ、又はn型導電性高分子とカチオン性の両親媒性化合物とから複合体を形成させ、次いでかかる複合体の溶液を調製した後、ラングミュア−ブロジェット(LB)法により分子レベルで膜厚を制御して、成膜することにより、表示素子用導電性高分子薄膜を製造する。また、この高分子薄膜を用いて、エレクトロクロミック表示素子が構成される。
【選択図】なし
Description
1.0MのHCl溶液に、アニリン及びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩(DBSNa)を加えて、アニリンを取り込んだドデシルベンゼンスルホン酸(DBSA)ミセルを形成せしめた後、酸化剤の過硫酸アンモニウムを用いて、重合を行い、その後クロロホルムで抽出することにより、ポリアニリン(PANI)/DBSA複合体のクロロホルム溶液を調製した。
3−ヘキシルチオフェンの1当量に対して約3当量の割合の塩化第二鉄(Fe:3価)(MERCK社製)を用い、窒素雰囲気下、かかる塩化第二鉄をクロロホルムに溶解させ、更にこれに、窒素雰囲気下で、前記割合の3−ヘキシルチオフェン(東京化成工業株式会社製)をゆっくりと滴下した。そして、その滴下終了直後から、氷浴にて冷却しつつ、一昼夜撹拌した。このようにして得られた反応溶液をメタノール溶液に注ぎ込み、黒色の沈殿物を得た。この沈殿物をメタノールで洗浄して、ポリ−3−ヘキシルチオフェン(PHT)を得た。次いで、この得られたPHTの1mMクロロホルム溶液と、ポリ−N−ドデシルアクリルアミド(分子量Mn:20800、Mw:32900、分子量分布Mw/Mn:1.58)(PDDA)の1mMクロロホルム溶液とを、1:1のモル比で混合し、均一に撹拌して、PHT/PDDA複合体のクロロホルム溶液を得た。
図2に示される成膜法に従い、先ず、LBトラフ(SSS FS−1、USIシステム社製)を用いて、下部水相を20℃に保ち、そして所定の導電性高分子複合体のクロロホルム溶液を所定量滴下した後、一定の圧縮速度(26cm2 /min)で25mN/mまで圧縮して、導電性高分子複合体の単分子膜を水面上に形成した。次いで、25mN/mの定圧に保ちながら、昇降速度10mm/minで、ITOガラス(25mm×33mm、10Ω/□、甲子光学工業株式会社製又は日本曹達株式会社製)上に、垂直浸漬法により、単分子膜を所定層数転写した。
ポテンショスタット(HA−301、北斗電工株式会社製)を用いて、所定の三極セルで、表1に示される所定の支持電解質溶液中において電流−電位測定を行った。
ポテンショスタット(HA−301、北斗電工株式会社製)を用いて、所定の二極セルで、表1に示される所定の支持電解質溶液中において電流−電圧測定を行った。
吸光光度計(日立計測器サービス株式会社製)を用いて、上記のEC素子の電流−電圧測定法に従う電流−電圧測定を、吸収スペクトル測定用石英セル(10mm×10mm×45mm)内で行い、電圧に対する吸光度スペクトル及び応答速度を測定した。
前記導電性高分子の調製法(A)に記載の手法を用いて、PANI/DBSA複合体のクロロホルム溶液を調製した。この調製されたPANI/DBSA複合体は、クロロホルムに可溶であった。また、この調製したPANI/DBSA複合体を、溶液状態のまま保管した。そして、前記導電性高分子薄膜の成膜法に記載の手法を用いて、単分子膜を1層転写した。累積比は約1.0となった。
前記導電性高分子の調製法(A)に記載の手法を用いて、PANI/DBSA複合体のクロロホルム溶液を調製し、前記導電性高分子薄膜の成膜法に記載の手法を用いて、単分子膜を20層転写した。各層の累積比は約1.0であった。
前記導電性高分子の調製法(B)に記載の手法を用いて、PHT/PDDA複合体のクロロホルム溶液を調製し、前記導電性高分子薄膜の成膜法に記載の手法を用いて、単分子膜を20層転写した。各層の累積比は約1.0であった。
前記導電性高分子の調製法(A)に記載の手法を用いて、PANI/DBSA複合体のクロロホルム溶液を調製し、前記導電性高分子薄膜の成膜法に記載の手法を用いて、単分子膜を60層転写した。各層の累積比は約1.0であった。
前記導電性高分子の調製法(A)及び導電性高分子の調製法(B)に記載の手法を用いて、PANI/DBSA複合体及びPHT/PDDA複合体のそれぞれのクロロホルム溶液を調製し、前記導電性高分子薄膜の成膜法に記載の手法を用いて、単分子膜を20層転写した。各層の累積比は約1.0であった。そして、PHT/PDDA複合体LB膜(正極)/PANI/DBSA複合体LB膜(負極)からなる異種導電性高分子を用いたEC表示素子を作製した。
前記導電性高分子の調製法(A)に記載の手法において、DBSNaを用いずに溶液重合を行ったところ、クロロホルムに溶解しないPANIが得られた。このPANIは、溶媒に可溶化されていなかったため、前記導電性高分子薄膜の成膜法に記載の手法を用いて単分子膜を成膜することは出来なかった。
前記導電性高分子の調製法(A)に記載の手法で調製したPANI/DBSA複合体クロロホルム溶液を用いて、ITO基板上に、溶媒キャスト法により、クロロホルムを蒸発させて、膜を形成した。膜厚は、およそ1μmであった。この得られたキャスト膜を用いて、前記エレクトロクロミック(EC)素子の電流−電圧測定法及びエレクトロクロミック(EC)素子の吸収スペクトル測定法に記載の手法を用いて、電流−電圧測定を実施した。電圧を0.5V印加しても、呈色変化が見られなかった。これは、膜厚が厚く、且つ分子レベルで膜制御が出来ていないため、膜抵抗が大きくなり、±0.5Vの駆動電圧では、表示素子として機能しなかったものと考えられる。
前記[実施例5]に記載のPHT/PDDA複合体LB膜(正極)の代わりに、前記導電性高分子の調製法(A)に記載の手法で調製したPANI/DBSA複合体クロロホルム溶液を用いてITO基板上に溶媒キャスト法によりクロロホルムを蒸発させて膜を形成したものを用い、前記[実施例5]に記載のPANI/DBSA複合体LB膜(負極)を用いない以外は、前記[実施例5]と同様の手法で、EC表示素子を作製した。
前記[実施例5]に記載のPHT/PDDA複合体LB膜(正極)、並びにPANI/DBSA複合体LB膜(負極)の代わりに、前記導電性高分子の調製法(B)に記載の手法で調製したPHT/PDDA複合体のクロロホルム溶液を用いて、ITO基板上に溶媒キャスト法によりクロロホルムを蒸発させて、膜を形成したものを用いた以外は、前記[実施例5]と同様の手法で、EC表示素子を作製した。
Claims (5)
- p型導電性高分子とアニオン性の両親媒性化合物とから形成される複合体、又はn型導電性高分子とカチオン性の両親媒性化合物とから形成される複合体を用いて、ラングミュア−ブロジェット(LB)法により分子レベルで膜厚を制御して、成膜されていることを特徴とする表示素子用導電性高分子薄膜。
- p型導電性高分子とアニオン性の両親媒性化合物とから複合体を形成させ、又はn型導電性高分子とカチオン性の両親媒性化合物とから複合体を形成させ、次いでかかる複合体の溶液を調製した後、ラングミュア−ブロジェット(LB)法により基板(S)上に分子レベルで膜厚を制御し、成膜することを特徴とする表示素子用導電性高分子薄膜の製造方法。
- 透明電極(S−1)上、及び/又は透明電極に対向する電極(S−2)上に、請求項1に記載の導電性高分子薄膜の層が設けられていることを特徴とするエレクトロクロミック表示素子。
- 前記透明電極(S−1)上及び前記透明電極に対向する電極(S−2)上にそれぞれ設けられている前記導電性高分子薄膜の層が、互いに異種の導電性高分子から構成されていることを特徴とする請求項3に記載のエレクトロクロミック表示素子。
- 前記透明電極に対向する電極(S−2)上に設けられている前記導電性高分子からなる薄膜の層が、ポリアニリン又はポリアニリン誘導体を含む組成物で構成されていることを特徴とする請求項3又は請求項4に記載のエレクトロクロミック表示素子。
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