JPH03103440U - - Google Patents

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JPH03103440U
JPH03103440U JP1990011019U JP1101990U JPH03103440U JP H03103440 U JPH03103440 U JP H03103440U JP 1990011019 U JP1990011019 U JP 1990011019U JP 1101990 U JP1101990 U JP 1101990U JP H03103440 U JPH03103440 U JP H03103440U
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Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の一実施例を示す露光マスクの
一部分の平面図、第２図〜第４図は第１図の露光
マスクを用いてネガ型フオトレジストを分割露光
した場合に形成されるブラツクストライプのパタ
ーン図、第５図はフオトレジストの露光処理を複
数回に分けて行なう分割露光方法を示す図、第６
図は従来の露光マスクの一部分の平面図、第７図
はネガ型フオトレジストを分割露光により露光処
理したときの、１回目露光時と２回目露光時のフ
オトレジスト露光状態と、現像処理後のフオトレ
ジストのパターンを示す図、第８図は従来の露光
マスクを用いてネガ型フオトレジストを分割露光
した場合に形成されるブラツクストライプのパタ
ーン図である。 ２１……透明基材、２２……マスク線、２２ａ
……直線部、２２ｂ……境界部、２３……ブラツ
クストライプ、ｄ……二重露光領域。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 画像表示装置の表示面にフオトリソグラフイ法
    でブラツクストライプを形成するのに用いられる
    露光マスクにおいて、透明基材面に前記ブラツク
    ストライプの間隔に対応するピツチで多数本のマ
    スク線を形成してなり、かつ前記マスク線を、短
    い直線部がその長さ方向に連続し、かつこの各直
    線部がマスク線幅方向に交互にずれたパターンに
    形成したことを特徴とするブラツクストライプ形
    成用露光マスク。
JP1990011019U 1990-02-08 1990-02-08 ブラックストライプ形成用露光マスク Expired - Lifetime JPH0745080Y2 (ja)

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JP1990011019U JPH0745080Y2 (ja) 1990-02-08 1990-02-08 ブラックストライプ形成用露光マスク

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JP1990011019U JPH0745080Y2 (ja) 1990-02-08 1990-02-08 ブラックストライプ形成用露光マスク

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Publication Number Publication Date
JPH03103440U true JPH03103440U (ja) 1991-10-28
JPH0745080Y2 JPH0745080Y2 (ja) 1995-10-11

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JP1990011019U Expired - Lifetime JPH0745080Y2 (ja) 1990-02-08 1990-02-08 ブラックストライプ形成用露光マスク

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JP (1) JPH0745080Y2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005043898A (ja) * 2003-07-24 2005-02-17 Samsung Electronics Co Ltd 液晶表示装置及びこれに含まれる表示板の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005043898A (ja) * 2003-07-24 2005-02-17 Samsung Electronics Co Ltd 液晶表示装置及びこれに含まれる表示板の製造方法

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JPH0745080Y2 (ja) 1995-10-11

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