JPH0247649U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0247649U JPH0247649U JP12678888U JP12678888U JPH0247649U JP H0247649 U JPH0247649 U JP H0247649U JP 12678888 U JP12678888 U JP 12678888U JP 12678888 U JP12678888 U JP 12678888U JP H0247649 U JPH0247649 U JP H0247649U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- pattern
- forming
- wafer
- resist film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
Description
第1図および第2図は本考案に係るマスクの構
造を示す断面図と平面図、第3図は本考案におけ
るマスクによつて露光されたレジスト膜を示す断
面図、第4図および第5図は従来のマスクの構造
を示す平面図と断面図、第6図は従来のマスクに
よつて露光されたレジスト膜を示す断面である。 1……ガラス基板、2……レジスト膜、4……
パターン、5……パターン部、11……白塗り部
、A……マスク。
造を示す断面図と平面図、第3図は本考案におけ
るマスクによつて露光されたレジスト膜を示す断
面図、第4図および第5図は従来のマスクの構造
を示す平面図と断面図、第6図は従来のマスクに
よつて露光されたレジスト膜を示す断面である。 1……ガラス基板、2……レジスト膜、4……
パターン、5……パターン部、11……白塗り部
、A……マスク。
Claims (1)
- レジスト膜が塗布されたウエハ上にパターンを
形成するパターン部を有する基板上であつて、前
記ウエハの外周縁に対応する部位に現像液に対し
てレジスト不溶部分を形成するマスク部を設けた
ことを特徴とするマスクの構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12678888U JPH0247649U (ja) | 1988-09-28 | 1988-09-28 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12678888U JPH0247649U (ja) | 1988-09-28 | 1988-09-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0247649U true JPH0247649U (ja) | 1990-03-30 |
Family
ID=31378623
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12678888U Pending JPH0247649U (ja) | 1988-09-28 | 1988-09-28 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0247649U (ja) |
-
1988
- 1988-09-28 JP JP12678888U patent/JPH0247649U/ja active Pending