JP2005043898A - 液晶表示装置及びこれに含まれる表示板の製造方法 - Google Patents

液晶表示装置及びこれに含まれる表示板の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】人間の目で視認されないように、ステッチ不良を最少に抑制する。
【解決手段】アクティブ領域を含む基板上に、ネガティブ型の感光性物質からなる有機膜を形成した次に、アクティブ領域を互いに隣接した第1ショットと第2ショットとを含む複数のショットに分割して有機膜を露光し、有機膜を現像して、画素領域に対応し開口部0を有するブラックマトリックス220を形成する。この時、第1ショットと第2ショットの境界部分a及びbが、ブラックマトリックス220の開口部0を横切ったり、ブラックマトリックス220の境界線内に位置するように設計する。
【選択図】 図5

Description

本発明は、液晶表示装置及びその表示板の製造方法に関し、さらに詳細には、基板を分割露光して製造するにあたって、ステッチによる画像表示むらの発生を最少化することができる、液晶表示装置及びその表示板の製造方法に関する。
一般に、液晶表示装置において、マトリックス配列を有する各々の単位画素には、透明な導電物質からなり、表示動作を行う画素電極が形成されている。このような画素電極は、配線を通じて印加される信号によって駆動されるが、配線には、互いに交差しマトリックス配列の単位画素を画定するゲート線とデータ線とがあり、これら信号線は、薄膜トランジスタなどのスイッチング素子を通じて画素電極と連結されている。この時、スイッチング素子は、ゲート線からの走査信号によって画素電極に伝達されるデータ線からの画像信号の伝達を制御する。
このような液晶表示装置は、複数の信号線と画素電極、及びこれらを電気的に連結する薄膜トランジスタが配置されている薄膜トランジスタ表示板と、画素電極と対向する対向電極と画素に開口部を有するブラックマトリックスが形成されている対向表示板とを含む。
このような液晶表示装置の製造方法では、一般に、マスクの大きさより液晶表示装置(以下、LCDという)パネルのアクティブ領域が大きい場合、このアクティブ領域にパターンを形成するためにアクティブ領域を分割し、ステップアンドリピート工程を実施する分割露光が必要である。即ち、一つのアクティブ領域を二つ以上のショットで露光することが要求される。この場合、実際のショットでは、転移(shift)、回転(rotation)、捩じれ(distortion)などの歪曲が発生するため、ショット間のミスアライン(miss align)でステッチ不良が生じ、画像表示時に、互いに異なるショット間の輝度差や、ショット間の境界のむらとして現れる。
特に、対向表示板の製造時に、ネガティブ型の感光性を有し、黒色顔料を含む有機膜で形成し、これを分割露光で形成する場合、ショット間の境界でむらによるステッチ不良が発生する。これは、ミスアラインを勘案してショット間の境界を互いに隣接するショットで二重露光を施しているが、有機物質はネガティブ型の感光性を有するため、露光された部分が残され、二重露光を施したショット間の境界における有機膜の構造的(morphology)特徴が変化し、画像表示時にむらとして生じる。
本発明の目的は、人間の目で視認できないように、上記したようなステッチ不良を最少に抑制できる液晶表示装置及びその表示板の製造方法を提供することにある。
このような目的を達成するために本発明による実施例では、アクティブ領域を含む基板上に、ネガティブ型の感光性物質からなる有機膜を形成した次に、アクティブ領域を互いに隣接する第1ショットと第2ショットとを含む複数のショットで分割して有機膜を露光し、有機膜を現像して、画素領域に対応する開口部を有するブラックマトリックスを形成する。この時、第1ショットと第2ショットの境界部分が開口部を横切るように設計する。
ここで、第1ショットと第2ショットの境界部分に、第1ショット及び第2ショットが重なるステッチ領域を設け、ステッチ領域は、少なくとも二つ以上の露光領域と遮光領域に分割された領域を単位ステッチ領域として形成され、第1ショットから第2ショットへ向けて露光領域または遮光領域を順次増加または減少させる。
単位ステッチ領域は、一つ以上の画素領域、または一つの画素領域、または一つの画素領域を2つ以上に分割して単位として設定することが好ましい。単位ステッチ領域の境界線も、互いに隣接するブラックマトリックスの開口部を横切ることが好ましい。
本発明の一実施例による液晶表示装置は、ゲート線と、ゲート線と交差して画素領域を画定するデータ線、画素領域に形成されている画素電極、ゲート線、データ線、及び画素電極と連結されている薄膜トランジスタを有する薄膜トランジスタ表示板とネガティブ型の感光性有機物質からなり、画素領域に開口部を有しているブラックマトリックスを有する対向表示板を含む。この時、ブラックマトリックスは、互いに隣接する第1ショットと第2ショットを含む複数のショットに分割し露光する写真工程で形成されており、第1ショットと前記第2ショットの境界に二重露光された部分を含み、二重露光された部分はゲート線またはデータ線と重なっている。
第1ショットと第2ショットの境界部分に、第1ショット及び第2ショットが重なるステッチ領域を設け、ステッチ領域は、少なくとも二つ以上の露光領域と遮光領域とに分割された領域を単位ステッチ領域として構成され、二重露光された部分は、単位ステッチ領域の境界線に沿って形成されている。この時、二重露光された部分は、ブラックマトリックスの境界内に位置し、ブラックマトリックスの形状に沿って形成される。
液晶表示装置用表示板の製造工程において、互いに隣接するショット間の境界線をブラックマトリックスの開口部を横切るように設定し、分割露光を実施した場合、ブラックマトリックスの境界線内に二重露光された部分が位置しても、信号線と二重露光された部分を重畳させることにより、むらによるステッチ不良を最少に抑えることができる。
添付した図面を参考にして、本発明の実施例について本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施することができるように詳細に説明する。しかし、本発明は多様な形態で実現することができ、ここで説明する実施例に限定されるものではない。
図面は、各種層及び領域を明確に表現するために、厚さを拡大して示している。明細書全体を通じて類似した部分については同一な図面符号を付けている。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の“上に”あるとする時、これは他の部分の“すぐ上に”ある場合に限らず、その中間に更に他の部分がある場合も含む。逆に、ある部分が他の部分の“すぐ上に”あるとする時、これは中間に他の部分がない場合を意味する。
以下、本発明の実施例による液晶表示装置及びその表示板の製造方法について、図面を参照して詳細に説明する。
まず、本発明の実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法によって完成した対向表示板の構造について、具体的に説明する。
図1は、本発明の実施例による液晶表示装置用対向表示板の構造を示した平面図である。図2は、本発明の第1実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法におけるショット間の境界部分を示した平面図である。図3は、本発明の第2実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法において互いに隣接するショット間の境界部分であるステッチ領域を示した平面図である。図4は、本発明の実施例による液晶表示装置用対向表示板の製造方法におけるショット間の境界部分であるステッチ領域での単位ステッチ領域の平面図である。図5は、本発明の第1実施例及び第2実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法におけるショット間の境界線及び単位ステッチの平面図である。ここで、図5は、製造工程時に互いに異なるショットの境界が位置する部分も示している。
図1のように、本発明の実施例による液晶表示装置用対向表示板には、マトリックス状に配列されている画素領域を画定する開口部0を有するブラックマトリックス220が形成されている。この時、ブラックマトリックス220は、互いに隣接する画素領域の間から漏れる光を遮断し、液晶表示装置の表示特性を向上させる機能を有する。
このような本発明の液晶表示装置用対向表示板の製造方法では、黒色顔料を含むネガティブ型の感光性物質を絶縁基板上に塗布して、ブラックマトリックス用有機膜を形成し、遮光部と透過部を有するマスクを用いた写真工程で有機膜を露光及び現像してブラックマトリックス220を形成する。この時、有機膜のうち遮光部に対応する部分は、現象工程で除去されブラックマトリックス220の開口部0を形成し、透過部に対応する部分は、現象工程で残されブラックマトリックス220を形成している。
このような本発明の実施例による液晶表示装置用対向表示板の製造方法において、マスクの大きさよりも液晶表示装置用対向表示板のアクティブ領域、即ち、マトリックス状に配列されている画素領域の集合からなる領域が大きい場合に、アクティブ領域にブラックマトリックス220を形成するために、アクティブ領域を分割してステップアンドリピート工程を行う分割露光が必要である。これは、一つのアクティブ領域を二つ以上のショット(shot)に分割露光するものである。
図2のように、本発明の第1実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法では、有機膜を形成し、マスクを用いた写真エッチング工程において分割露光を行う場合、互いに隣接する二つのショット、例えば、左側のAショット(白色部分で示す)と、右側のBショット(黒色部分で示す)に分割して露光する。
この時、写真エッチング工程において、マスクのミスアラインによってAショットとBショットとの間の境界で有機膜が露光されない場合には、有機膜が除去され画素領域の間から光が漏れる問題が発生する。これを防止するために、互いに隣接するAショットとBショットとの間の境界部分は、ミスアラインを勘案してAショットで露光させ、Bショットでも露光させる。
しかしながら、露光された部分が残りブラックマトリックス220をなすネガティブ型の感光性物質からなる有機膜のうち、二重露光された部分は、1回のみの露光部分と比べて、奇形的な特徴が異なり、画像表示時にむらとして現れる。
このような問題点を解決するために、本発明の第1実施例による対向表示板の製造方法では、AショットとBショットとの間の境界線a、bが、図5のように、画素領域を画定する開口部0を横切るようにマスクを整列し、AショットとBショットとに分割露光してブラックマトリックス220を形成する。この時、“a”はショット間の境界線が横方向に位置する場合であり、“b”はショット間の境界線が縦方向に位置する場合のものである。したがって、本発明の第1実施例による液晶表示装置用対向表示板の製造方法において、分割露光でブラックマトリックス220を形成する際に、AショットとBショット間の境界線a、bが、図5のように、開口部0を横切るように有機膜を分割露光することで、二重露光部分a´、b´を最少に抑えることができる。これにより、画像表示時のむらを最小に抑制し、表示特性を向上することができる。
一方、AショットとBショットの露光工程において、マスクのミスアラインによってショット間の境界に位置する開口部0が他の開口部0と異なる大きさに形成される場合には、ショット間の境界に位置する画素の開口率が異なり、AショットとBショット間の輝度差が生じ、境界部分が帯状に視認されるステッチ不良が生じ得る。
このような問題点を解決するために、図3に示したように、本発明の第2実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法では、露光工程を分割露光で行う場合、互いに隣接する左側のAショットと右側のBショット間に互いに重畳するステッチ領域を設けて露光する。
この時、図4のように、ステッチ領域のうち、Aショットで遮光もしくは露光される領域と、Bショットで遮光もしくは露光される領域は互いに重ならず、ステッチ領域を複数の単位ステッチ領域に分割して遮光領域と透過領域とを構成し、AショットとBショットで遮光領域と透過領域を択一的に構成する。ここで、ステッチ領域の分割は、複数の単位ステッチ領域、例えば、N×M個の単位ステッチ領域(単位ステッチ領域とはステッチ領域をN×M(N、Mは自然数)の区域に分ける時に基本となる一領域を示す;以下同様である)からなる。ここで、列方向に配列され、単位ステッチ領域に対し、Aショットでは右方向に向かうほど露光領域が減少して配置され、Bショットでは左方向に向かうほど遮光領域が次第に増加して配置されており、Aショット及びBショットで遮光領域と露光領域は択一的(一意的)である。
ここで、単位ステッチ領域は、一以上の画素、または一画素、または一画素を2つまたはそれ以上に分割してなされる小領域を一つの単位ステッチ領域として使用する。
この時にも、図5のように、単位ステッチ領域は、その境界線cが開口部0を通るように画定され、写真工程で有機膜を露光及び現像してブラックマトリックス220を形成する。したがって、本発明の第2実施例による液晶表示装置用対向表示板の製造方法においても、分割露光でブラックマトリックス220を形成する際に、単位ステッチ領域の境界線cが開口部0を横切るように有機膜を分割露光することによって、二重露光された部分c´を最少に抑えることができ、これにより、画像表示時に表示むらの発生を最小に抑制し、表示特性を向上させることができる。また、ステッチ領域を設定し、これを再び単位ステッチ領域に分割し、AショットとBショットで択一的に分割して、ミスアラインが生じても画素の開口率が急激に変化することを防止し、ステッチ不良の発生を防止することができる。
一方、本発明の第2実施例による液晶表示装置用対向表示板の製造方法とは異なって、AショットとBショット間の境界部分でステッチ領域の単位ステッチ領域を画素領域と設定し、単位ステッチ領域の境界線がブラックマトリックス220と重なるようにマスクを設計し、写真工程により対向表示板を完成することができる。この時には、単位ステッチ領域の境界線に対応して二重露光された部分がブラックマトリックス220の形状に沿って形成されるが、二重露光された部分を対向表示板と対向する薄膜トランジスタ表示板の信号線と重畳するように二つの表示板を整列して、液晶表示装置を完成する。これについて図面を参照して、具体的に説明する。
図6は、本発明の一実施例による液晶表示装置の構造を示した配置図である。図7は、図6に示す液晶表示装置のVII-VII´線に沿った断面図である。図6に、赤、緑、青のカラーフィルターを示す線は具体的に図示していない。
本発明の一実施例による液晶表示装置は、薄膜トランジスタ表示板100と、これと対向する対向表示板200と、これら100、200の間に形成されている液晶層(図示せず)とを含む。それぞれの表示板100、200内側には、液晶層の液晶分子を任意の方向に配向するための配向膜(図示せず)が各々形成されている。
本発明の実施例による液晶表示装置の薄膜トランジスタ表示板100には、下部絶縁基板110上に、ゲート信号を伝達する複数のゲート線121が形成されている。ゲート線121は主に横方向にのびており、各ゲート線121の一部は、複数のゲート電極124を構成する。そして、各ゲート線の他の一部は、下方向に突出し複数の拡張部127を構成する。
ゲート線121は、物理的な性質が異なる二つの膜、即ち、ゲート信号の遅延や電圧降下を実質的に生じさせないような低い比抵抗(resistivity)の金属、例えば、アルミニウム(Al)やアルミニウム合金などのアルミニウム系列の金属からなる導電膜と、他の物質、特にIZO(indium zin coxide)またはITO(indium tin oxide)との物理的、化学的、電気的な接触特性の優れた物質、例えば、モリブデン(Mo)、モリブデン合金(例:モリブデン-タングステン(MoW)合金)、クロム(Cr)などからなる導電膜とを含むことができる。その例として、クロム/アルミニウム-ネオジム(Nd)合金を挙げられる。
ゲート線121の側面は各々傾斜されており、傾斜角は基板110の表面に対し約30〜80°である。
ゲート線121上には、窒化ケイ素(SiNx)などからなるゲート絶縁膜140が形成されている。
ゲート絶縁膜140上部には、水素化非晶質シリコン(非晶質シリコンをa-Siと称する)などからなる複数の線状半導体151が形成されている。線状半導体151は、主に縦方向にのびており、ここから複数の突出部154がゲート電極124に向けてのびている。また、線状半導体151は、ゲート線121とぶつかる地点の付近で幅が大きくなり、ゲート線121の広い面積を覆っている。
半導体151の上部には、シリサイドまたはn型不純物が高濃度にドーピングされているn+水素化非晶質シリコンなどの物質からなる複数の線状抵抗性接触部材161及び島状抵抗性接触部材165が形成されている。線状接触部材161は、複数の突出部163を有しており、この突出部163と島状接触部材165は対をなして、半導体151の突出部154上に位置する。
半導体151と抵抗性接触部材161、165の側面も傾斜しており、傾斜角は約30〜80°である。
抵抗性接触部材161、165及びゲート絶縁膜140上には、各々複数のデータ線171と、複数のドレイン電極175、及び複数の維持蓄電器用導電体177が形成されている。
データ線171は、主に縦方向にのびてゲート線121と交差し、データ電圧を伝達する。各データ線171からドレイン電極175に向けてのびた複数の枝がソース電極173を構成する。一対のソース電極173とドレイン電極175は互いに分離されており、ゲート電極124に対して互いに反対側に位置する。ゲート電極124、ソース電極173、及びドレイン電極175は、半導体151の突出部154と共に薄膜トランジスタ(TFT)をなしており、薄膜トランジスタのチャネルは、ソース電極173とドレイン電極175間の突出部154に形成される。
維持蓄電器用導電体177は、ゲート線121の拡張部127と重なっている。
データ線171、ドレイン電極175、及び維持蓄電器用導電体177は、モリブデン(Mo)やモリブデン合金を含むが、二重膜もしくは三重膜の構造の場合には、アルミニウム系列の導電膜を含むことができる。二重膜の構造の場合、アルミニウム系列の導電膜は、モリブデン系列の導電膜の下部に位置するのが好ましく、三重膜の構造の場合には、中間層に位置するのが好ましい。
データ線171、ドレイン電極175、及び維持蓄電器用導電体177もゲート線121と同様に、その側面が約30〜80°各々傾斜している。
抵抗性接触部材161、165は、その下部の半導体151と、その上部のデータ線171、及びドレイン電極175の間のみに存在し、接触抵抗を低くする役割をする。線状半導体151は、ソース電極173とドレイン電極175との間を始めとして、データ線171及びドレイン電極175で遮られず露出された部分を有しており、ほとんどのところで、線状半導体151の幅がデータ線171の幅よりも小さいが、前述したように、ゲート線121と接する部分で幅が大きくなり、ゲート線121とデータ線171間の絶縁を強化する。
データ線171、ドレイン電極175、及び維持蓄電器用導電体177と、露出された半導体151部分の上には、平坦化特性の優れて感光性のある有機物質、またはプラズマ化学気相蒸着(PECVD)で形成される、a-Si:C:O、a-Si:O:Fなどの低誘電率絶縁物質などからなる保護膜180が形成されている。
データ線171とドレイン電極175との間の半導体151が露出された部分に保護膜180の有機物質が接することを防止するために、保護膜180の有機膜の下部に窒化ケイ素や酸化ケイ素からなる絶縁膜を追加してもよい。
保護膜180には、ドレイン電極175、維持蓄電器用導電体177を各々露出する複数の接触孔185、187が形成されている。
保護膜180上には、IZOまたはITOからなる複数の画素電極190が形成されている。
画素電極190は、接触孔185、187を通じてドレイン電極175及び維持蓄電器用導電体177と各々物理的・電気的に連結され、ドレイン電極175からデータ電圧の印加を受け、導電体177にデータ電圧を伝達する。
データ電圧が印加された画素電極190は、共通電圧の印加を受ける対向表示板200の共通電極270と共に電場を生成することによって、液晶層の液晶分子を再配列させる。
また、前記のように、画素電極190と共通電極270は、蓄電器(以下、液晶蓄電器という)をなし、薄膜トランジスタのターンオフ後にも印加された電圧を維持するが、電圧維持能力を強化するために液晶蓄電器と並列に連結された他の蓄電器(これを維持蓄電器という)を設けており、維持蓄電器は、画素電極190及びこれと隣接するゲート線121(これを前段ゲート線という)の重畳などで作られ、維持蓄電器の静電容量、即ち、保持容量を増やすために、ゲート線121が拡張された拡張部127を形成して重畳面積を大きくし、その一方で、画素電極190と連結され拡張部127と重なる維持蓄電器用導電体177を保護膜180の下に設けて、二つの間の距離を短くする。一方、ゲート線121と同一の層で、画素電極と重畳して維持蓄電器を構成する維持電極を追加することもできる。
さらに、画素電極190は、隣接するゲート線121及びデータ線171と重なって開口率を向上させているが、重ならないこともある。
一方、薄膜トランジスタ表示板100と対向する対向表示板200には、ガラスなどの透明な絶縁物質からなる上部絶縁基板210、その下面に形成され、マトリックス状の画素領域に開口部を有し、ネガティブ型の感光性有機物質からなるブラックマトリックス220、ブラックマトリックス220で画定される画素に形成されて順次に配置されている赤、緑、青のカラーフィルター230、カラーフィルター230を覆っているオーバーコート膜250、及びITOまたはIZOなどの透明な導電物質からなる共通電極270を含む。
このような本発明の実施例による液晶表示装置の対向表示板において、ブラックマトリックス220は、前記したように、分割露光を利用した写真工程で形成される。この時、本発明の第2実施例による製造工程と同様に、互いに隣接するショット間にステッチ領域を設け、単位ステッチ領域は画素領域を上下または左右の1/2に設定して分割露光を行う。そうすれば、単位ステッチ領域の境界線に対応して二重露光された部分220´は、図6及び図7のように、ブラックマトリックス220の境界線内に位置して形成される。
以上のような構造の本発明の実施例による液晶表示装置は、薄膜トランジスタ表示板100と、これと対向する対向表示板200を整列して結合し、その間に液晶を注入し液晶層を形成して完成する。この時、単位ステッチ領域の境界線に対応してブラックマトリックス220の境界内に位置する二重露光された部分220´は、ゲート線121及びデータ線171で遮られるように重なって整列され、画像表示時にむらが発生することを防止することができる。
一方、本発明の実施例では、赤、緑、青のカラーフィルター230が対向表示板200に形成されているが、本発明の他の実施例では、赤、緑、青のカラーフィルター230は、薄膜トランジスタ表示板に配置することもできる。このような実施例では、赤、緑、青のカラーフィルター230は、保護膜180の上部または下部に位置するのが好ましい。
以上で、本発明の好ましい実施例を参照して説明したが、該当技術分野の熟練した当業者は、特許請求の範囲に記載された本発明の技術思想及び範囲から逸脱しない範囲内で本発明を多様に修正及び変更させることができることが明らかであろう。
本発明の実施例による液晶表示装置用対向表示板の平面図である。 本発明の第1実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法で、ショット間の境界部分を示した平面図である。 本発明の第2実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法で、互いに隣接したショット間の境界部分であるステッチ領域を示した平面図である。 本発明の実施例による液晶表示装置用対向表示板の製造方法で、ショット間の境界部分であるステッチ領域における単位ステッチ領域を示した平面図である。 本発明の第1実施例及び第2実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法で、ショット間の境界線及び単位ステッチ領域を示した平面図である。 本発明の一実施例による液晶表示装置の配置図である。 図6の液晶表示装置のVII-VII´線による断面図である。
符号の説明
100、200 表示板
121 ゲート線
124 ゲート電極
127 拡張部
140 ゲート絶縁膜
151 半導体
154 突出部
161、165 抵抗性接触部材
171 データ線
175 ドレイン電極
177 維持蓄電器用導電体
180 保護膜
185、187 接触孔
190 画素電極
220 ブラックマトリックス
270 共通電極
230 カラーフィルター
250 オーバーコート膜
300 液晶層

Claims (7)

  1. アクティブ領域を含む基板上に、ネガティブ型の感光性物質からなる有機膜を形成する段階、
    前記アクティブ領域を互いに隣接した第1ショットと第2ショットとを含む複数のショットに分割して前記有機膜を露光する段階、
    前記有機膜を現像し、画素領域に対応し開口部を有するブラックマトリックスを形成する段階を含み、
    前記第1ショットと前記第2ショットの境界部分は、前記開口部を横切るように形成される、液晶表示装置用表示板の製造方法。
  2. 前記第1ショットと前記第2ショットの境界部分に、前記第1ショット及び前記第2ショットが重なるステッチ領域を設け、前記ステッチ領域は少なくとも二つ以上の露光領域と遮光領域とに分割された領域を単位ステッチ領域として構成され、前記第1ショットから前記第2ショットへ向ける方向に沿って前記露光領域または前記遮光領域を次第に増加もしくは減少させる、請求項1に記載の液晶表示装置用表示板の製造方法。
  3. 前記単位ステッチ領域は、一つ以上の画素領域、または一画素領域、または一画素領域を2つ以上に分割して形成される領域を単位としている、請求項2に記載の液晶表示装置用表示板の製造方法。
  4. 前記単位ステッチ領域の境界線は、互いに隣接する前記ブラックマトリックスの開口部を横切る、請求項2に記載の液晶表示装置用表示板の製造方法。
  5. ゲート線、前記ゲート線と交差して画素領域を画定するデータ線、前記画素領域に形成されている画素電極、前記ゲート線と、前記データ線及び前記画素電極と連結されている薄膜トランジスタを有する薄膜トランジスタ表示板、
    ネガティブ型の感光性有機物質からなり、前記画素領域に開口部を有するブラックマトリックスを備える対向表示板を含み、
    前記ブラックマトリックスは、互いに隣接する第1ショットと第2ショットとを含む複数のショットに分割して露光する写真工程で形成され、前記第1ショットと前記第2ショットの境界には二重露光された部分を有し、前記二重露光された部分は、前記ゲート線または前記データ線と重なっている液晶表示装置。
  6. 前記第1ショットと前記第2ショットの境界部分に、前記第1ショット及び前記第2ショットが重なるステッチ領域を設け、前記ステッチ領域は少なくとも二つ以上の露光領域と遮光領域とに分割された領域を単位ステッチ領域として構成されており、前記二重露光された部分は、前記単位ステッチ領域の境界線に沿って形成される、請求項5に記載の液晶表示装置。
  7. 前記二重露光された部分は、前記ブラックマトリックスの境界内に位置し、前記ブラックマトリックスの境界に沿ってなされる、請求項6に記載の液晶表示装置。
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