JPH029885B2 - - Google Patents
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- JPH029885B2 JPH029885B2 JP59209278A JP20927884A JPH029885B2 JP H029885 B2 JPH029885 B2 JP H029885B2 JP 59209278 A JP59209278 A JP 59209278A JP 20927884 A JP20927884 A JP 20927884A JP H029885 B2 JPH029885 B2 JP H029885B2
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- JP
- Japan
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- rolling mill
- plate thickness
- rolling
- deviation
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Links
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 53
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 3
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 12
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 9
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21B—ROLLING OF METAL
- B21B37/00—Control devices or methods specially adapted for metal-rolling mills or the work produced thereby
- B21B37/46—Roll speed or drive motor control
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21B—ROLLING OF METAL
- B21B2261/00—Product parameters
- B21B2261/02—Transverse dimensions
- B21B2261/04—Thickness, gauge
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、隣り合う圧延機のロール速度差にて
ストリツプ板厚変動を修正制御する、タンデム圧
延の自動板厚制御に関する。
ストリツプ板厚変動を修正制御する、タンデム圧
延の自動板厚制御に関する。
この種の板厚制御の従来例を第２図を参照して
説明する。第２図に示すように圧延スタンドを上
流側から第１、第２と呼ぶことにし、板厚、速度
等を図に示す記号で表わすとすると、第ｉスタン
ドの出側板厚hiは、 hi＝Hi×Vri-1（１＋fi-1）／Vri（１＋fi） …(1) 但し、fiは第ｉスタンドの先進率、fi-1は第ｉ
−１スタンドの先進率である。
説明する。第２図に示すように圧延スタンドを上
流側から第１、第２と呼ぶことにし、板厚、速度
等を図に示す記号で表わすとすると、第ｉスタン
ドの出側板厚hiは、 hi＝Hi×Vri-1（１＋fi-1）／Vri（１＋fi） …(1) 但し、fiは第ｉスタンドの先進率、fi-1は第ｉ
−１スタンドの先進率である。
従来はこの(1)式を用いてストリツプ３の板厚を
制御しているが、この先進率は、圧延荷重、摩擦
係数などで変化する性質を持ち、正確には推定さ
れない。そこで従来はこの先進率を一定と仮定
し、先進率に対応した制御ゲインを設定してい
る。
制御しているが、この先進率は、圧延荷重、摩擦
係数などで変化する性質を持ち、正確には推定さ
れない。そこで従来はこの先進率を一定と仮定
し、先進率に対応した制御ゲインを設定してい
る。
しかし、圧延材の変形抵抗変化あるいは、入側
板厚変動による圧延荷重変化により先進率が変化
し、また、低速域および加減速中において、先進
率一定が成立せず、これを一定と仮定した制御で
は、その分の制御誤差を生ずることが分かつた。
板厚変動による圧延荷重変化により先進率が変化
し、また、低速域および加減速中において、先進
率一定が成立せず、これを一定と仮定した制御で
は、その分の制御誤差を生ずることが分かつた。
本発明は隣り合う圧延機のロール速度差にてス
トリツプ板厚変動を修正制御する、タンデム圧延
の自動板厚制御において、先進率の変動等による
制御エラーを低減することを目的とする。
トリツプ板厚変動を修正制御する、タンデム圧延
の自動板厚制御において、先進率の変動等による
制御エラーを低減することを目的とする。
上記目的を達成するために本発明においては、
圧延材の移動方向に連続して設けられた第１およ
び第２圧延機による圧延において、第２圧延機の
入側板厚偏差Δh1に対応して、該偏差Δh1を得た
点の第２圧延機通過時の、第１圧延機のロール速
度Vr1を修正する、タンデム圧延における自動板
厚制御において： 第１圧延機のロール速度Vr1を（ａ／ｂ）・Δh1
に比例する値分修正する。ここで、 ａ：第２圧延機入側板厚変動に対する第２圧延機
出側板厚変動の比の推定値、 ｂ：第１圧延機のロール速度変動に対する第２圧
延機出側板厚変動の比の推定値、 である。
圧延材の移動方向に連続して設けられた第１およ
び第２圧延機による圧延において、第２圧延機の
入側板厚偏差Δh1に対応して、該偏差Δh1を得た
点の第２圧延機通過時の、第１圧延機のロール速
度Vr1を修正する、タンデム圧延における自動板
厚制御において： 第１圧延機のロール速度Vr1を（ａ／ｂ）・Δh1
に比例する値分修正する。ここで、 ａ：第２圧延機入側板厚変動に対する第２圧延機
出側板厚変動の比の推定値、 ｂ：第１圧延機のロール速度変動に対する第２圧
延機出側板厚変動の比の推定値、 である。
すなわち本発明では、上記(1)式の、ロール速度
変化に対するストリツプ板厚の修正効果を示す影
響係数を、第２圧延機の入側板厚偏差Δh1、第１
圧延機出側圧延材の走行速度偏差ΔVs1および第
２圧延機出側圧延材の走行速度偏差ΔVs2の複数
回のサンプリング値により影響係数を推定し、こ
の係数に板厚偏差Δh1を乗じた値分の第１圧延機
ロール速度修正を行なう。
変化に対するストリツプ板厚の修正効果を示す影
響係数を、第２圧延機の入側板厚偏差Δh1、第１
圧延機出側圧延材の走行速度偏差ΔVs1および第
２圧延機出側圧延材の走行速度偏差ΔVs2の複数
回のサンプリング値により影響係数を推定し、こ
の係数に板厚偏差Δh1を乗じた値分の第１圧延機
ロール速度修正を行なう。
マスフロー一定則より、h1・V1＝h2・V2であ
るので、これらの変化量を各記号にΔを付して示
すと、 （h1＋Δh1）・（V1＋ΔV1） ＝（h2＋Δh2）・（V2＋ΔV2） である。これより、 Δh2＝Δh1（V1／V2）＋h1（ΔV1／V2） −h2（ΔV2／V2） …(2) である。第１圧延機のロール速度Vr1がΔVr1変
化すると、 h1・（V1＋ΔV1′） ＝（h2＋Δh2′）・（V2＋ΔV2′） であるので、 Δh2′＝h1（ΔV1′／V2） −h2（ΔV2′／V2） …(3) である。
るので、これらの変化量を各記号にΔを付して示
すと、 （h1＋Δh1）・（V1＋ΔV1） ＝（h2＋Δh2）・（V2＋ΔV2） である。これより、 Δh2＝Δh1（V1／V2）＋h1（ΔV1／V2） −h2（ΔV2／V2） …(2) である。第１圧延機のロール速度Vr1がΔVr1変
化すると、 h1・（V1＋ΔV1′） ＝（h2＋Δh2′）・（V2＋ΔV2′） であるので、 Δh2′＝h1（ΔV1′／V2） −h2（ΔV2′／V2） …(3) である。
ここで、Δh1によりΔh2を生ずる影響係数をａ
として、 Δh2＝ａ・Δh1 とし、ΔVr1によりΔh2を生ずる影響係数をｂと
して、 Δh2＝ｂ・ΔVr1 とすると、 (2)式＝ａ・Δh1、 (3)式＝bΔVr1 と置くことになる。
として、 Δh2＝ａ・Δh1 とし、ΔVr1によりΔh2を生ずる影響係数をｂと
して、 Δh2＝ｂ・ΔVr1 とすると、 (2)式＝ａ・Δh1、 (3)式＝bΔVr1 と置くことになる。
これらより、Δh1によるΔh2を零とするに必要
な第１圧延機のロール速度修正分ΔVr1は、 ΔVr1＝ａ／ｂ・Δh1 となる。このようにすると、ａおよびｂが求まれ
ばよい。次にａおよびｂの推定方法を説明する。
一例として最小自乗法での推定を説明すると、ｉ
＝ｍ〜ｎの測定番号とし、ｎ＞ｍとすると、 ：Δhiの平均値、：ΔHiの平均値、1 ：Δh1iの平均値1 ：ロール速度偏差ΔVr1iの平均値 でａおよびｂを求める。なお、所定周期でh1およ
びVs1の測定値をサンプリングし、順次記憶する
と共に、サンプリング位置をトラツキングして、
サンプリング位置のVs2を測定し、Vs2の各時点
の測定値をh1およびVs1と対応付けて記憶し、記
憶値より上述の演算を行なう。
な第１圧延機のロール速度修正分ΔVr1は、 ΔVr1＝ａ／ｂ・Δh1 となる。このようにすると、ａおよびｂが求まれ
ばよい。次にａおよびｂの推定方法を説明する。
一例として最小自乗法での推定を説明すると、ｉ
＝ｍ〜ｎの測定番号とし、ｎ＞ｍとすると、 ：Δhiの平均値、：ΔHiの平均値、1 ：Δh1iの平均値1 ：ロール速度偏差ΔVr1iの平均値 でａおよびｂを求める。なお、所定周期でh1およ
びVs1の測定値をサンプリングし、順次記憶する
と共に、サンプリング位置をトラツキングして、
サンプリング位置のVs2を測定し、Vs2の各時点
の測定値をh1およびVs1と対応付けて記憶し、記
憶値より上述の演算を行なう。
なお、上記では最小自乗法でａおよびｂを求め
る例を示したが、この他の推定法、たとえばカル
マンフイルタによる推定法、を用いてもよい。
又、以上では簡単のため変数を絶対値で取り扱つ
て来たが、実際の制御を行なう際は無次元化して
行なう方が好ましい。
る例を示したが、この他の推定法、たとえばカル
マンフイルタによる推定法、を用いてもよい。
又、以上では簡単のため変数を絶対値で取り扱つ
て来たが、実際の制御を行なう際は無次元化して
行なう方が好ましい。
第１図に本発明を一態様で実施する装置構成の
概要を示す。この例では、ゲイン演算装置１３が
前述の最小自乗法により影響係数ａ／ｂを算出し
てロール速度修正量演算装置１２に与える。
概要を示す。この例では、ゲイン演算装置１３が
前述の最小自乗法により影響係数ａ／ｂを算出し
てロール速度修正量演算装置１２に与える。
ゲイン演算装置１３には、板厚計４より第１圧
延機出側板厚測定値h1が、板速度計５1より圧延
機１，２間のストリツプの所定量の移動当り１パ
ルスの割合の第１指速パルスが、また板速度計５
２より圧延機２出側のストリツプの所定量の移動
当り１パルスの割合の第２指速パルスが、与えら
れる。
延機出側板厚測定値h1が、板速度計５1より圧延
機１，２間のストリツプの所定量の移動当り１パ
ルスの割合の第１指速パルスが、また板速度計５
２より圧延機２出側のストリツプの所定量の移動
当り１パルスの割合の第２指速パルスが、与えら
れる。
演算装置１３は、第１指速パルスをカウントし
てその値が所定値ｊになる毎にサンプリングパル
スを発生する。また、第１指速パルスおよび第２
指速パルスをそれぞれカウントして速度データ
Vs1およびVs2を得る。
てその値が所定値ｊになる毎にサンプリングパル
スを発生する。また、第１指速パルスおよび第２
指速パルスをそれぞれカウントして速度データ
Vs1およびVs2を得る。
演算装置１３は、サンプリングパルスを発生す
ると板厚偏差Δh1および速度偏差ΔVs1を演算し
て、次に示すメモリ１の内容を右に１番地分シフ
トトしてからメモリ１の第０番地にΔh1および
ΔVs1をメモリし、またΔVs2を演算し、次に示す
メモリ２の内容を右に１番地分シフトしてからメ
モリ２の第ｍ番地にΔVs2をメモリする。
ると板厚偏差Δh1および速度偏差ΔVs1を演算し
て、次に示すメモリ１の内容を右に１番地分シフ
トトしてからメモリ１の第０番地にΔh1および
ΔVs1をメモリし、またΔVs2を演算し、次に示す
メモリ２の内容を右に１番地分シフトしてからメ
モリ２の第ｍ番地にΔVs2をメモリする。
メモリ１
番地 ０、１、２、３……ｍ……ｎ
メモリ２
番地 ｍ……ｎ
なお、ｍは板厚計４直下のストリツプ部が第２
圧延機のロールに到達するまでのサンプリングパ
ルス発生数に対応する。このような記憶処理によ
り、メモリ１と２の同じ番地番号の領域には、ス
トリツプ上で同じ位置のデータΔh1，ΔVs1およ
びΔVs2がメモリされていることになる。たとえ
ば、メモリ２の番地ｍのデータΔVs2は、メモリ
１の番地ｍのデータΔh1，ΔVs1を得た点が第２
圧延機２に到達したときのものである。
圧延機のロールに到達するまでのサンプリングパ
ルス発生数に対応する。このような記憶処理によ
り、メモリ１と２の同じ番地番号の領域には、ス
トリツプ上で同じ位置のデータΔh1，ΔVs1およ
びΔVs2がメモリされていることになる。たとえ
ば、メモリ２の番地ｍのデータΔVs2は、メモリ
１の番地ｍのデータΔh1，ΔVs1を得た点が第２
圧延機２に到達したときのものである。
演算処理装置１３は、サンプリングパルスを発
生するごとに上述のようにサンプリング、演算お
よび記憶更新を行なうと共に、同じくサンプリン
グパルスを発生するごとに、記憶処理を終えた時
点で、メモリ１および２の、番地ｍ〜ｎのデータ
に基づいた、上述のａおよびｂの演算と、ａ／ｂ
の演算を実行し、それを終了するとａ／ｂを示す
信号を演算装置１２に更新出力する（装置１２へ
与えているａ／ｂ信号の更新）。これにより、演
算装置１２には、板速度計５1が第１指速パルス
をｊ個発生する毎に、最新の測定データに基づい
た影響係数演算値すなわち推定値ａ／ｂが更新し
て与えられる。
生するごとに上述のようにサンプリング、演算お
よび記憶更新を行なうと共に、同じくサンプリン
グパルスを発生するごとに、記憶処理を終えた時
点で、メモリ１および２の、番地ｍ〜ｎのデータ
に基づいた、上述のａおよびｂの演算と、ａ／ｂ
の演算を実行し、それを終了するとａ／ｂを示す
信号を演算装置１２に更新出力する（装置１２へ
与えているａ／ｂ信号の更新）。これにより、演
算装置１２には、板速度計５1が第１指速パルス
をｊ個発生する毎に、最新の測定データに基づい
た影響係数演算値すなわち推定値ａ／ｂが更新し
て与えられる。
演算装置１２には、影響係数ａ／ｂと共に、板
厚計４の検出板厚h1信号が、遅延装置１１を介し
て、板厚計４−第２圧延機２間板移動時間の遅延
を付して与えられる。演算装置１２は、板厚偏差
Δh1を演算し、ΔVr1＝（ａ／ｂ）・Δh1を速度修正
分の信号として速度制御装置２１に与える。
厚計４の検出板厚h1信号が、遅延装置１１を介し
て、板厚計４−第２圧延機２間板移動時間の遅延
を付して与えられる。演算装置１２は、板厚偏差
Δh1を演算し、ΔVr1＝（ａ／ｂ）・Δh1を速度修正
分の信号として速度制御装置２１に与える。
速度制御装置２１は、ロール速度をその時の値
Vr1よりΔVr1を減算した値に修正する。
Vr1よりΔVr1を減算した値に修正する。
以上説明したように、本発明では圧延状態より
影響係数を推定および更新して、圧延状態に応じ
た速度修正をするので、圧延状態の変動に対応し
た自動板厚制御が行なわれ、制御エラーが低減す
る。
影響係数を推定および更新して、圧延状態に応じ
た速度修正をするので、圧延状態の変動に対応し
た自動板厚制御が行なわれ、制御エラーが低減す
る。
第１図は本発明を一態様で実施する装置構成の
概要を示すブロツク図、第２図は従来の自動板厚
制御で用いられる装置構成の概要を示すブロツク
図である。 １：第１圧延機、２：第２圧延機、３：ストリ
ツプ、４：板厚計、５，５1，５2：板速度計、１
１：遅延装置、１２：ロール速度修正量演算装
置、１３：ゲイン演算装置、２１：速度制御装
置、２２：電動機。
概要を示すブロツク図、第２図は従来の自動板厚
制御で用いられる装置構成の概要を示すブロツク
図である。 １：第１圧延機、２：第２圧延機、３：ストリ
ツプ、４：板厚計、５，５1，５2：板速度計、１
１：遅延装置、１２：ロール速度修正量演算装
置、１３：ゲイン演算装置、２１：速度制御装
置、２２：電動機。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 圧延材の移動方向に連続して設けられた第１
および第２圧延機による圧延において、第２圧延
機の入側板厚偏差Δh1に対応して、該偏差Δh1を
得た点の第２圧延機通過時の、第１圧延機のロー
ル速度Vr1を修正する、タンデム圧延における自
動板厚制御において： 第１圧延機のロール速度Vr1を（ａ／ｂ）・Δh1
に比例する値分修正することを特徴とするタンデ
ム圧延における自動板厚制御方法、ここで、 ａ：第２圧延機入側板厚変動に対する第２圧延機
出側板厚変動の比の推定値、 ｂ：第１圧延機のロール速度変動に対する第２圧
延機出側板厚変動の比の推定値。 ２ 圧延中に第２圧延機の入側板厚偏差Δh1、第
１圧延機出側圧延材の走行速度偏差ΔVs1および
第２圧延機出側圧延材の走行速度偏差ΔVs2を複
数回測定し、複数回の測定値よりａおよびｂを推
定する、前記特許請求の範囲第１項記載のタンデ
ム圧延における自動板厚制御方法。 ３ ｉ＝ｍ〜ｎの測定番号とし、ｎ＞ｍとする
と、 ：Δhiの平均値、：ΔHiの平均値、1 ：Δh1iの平均値、1 ：ロール速度偏差ΔVr1iの平均値 でａおよびｂを推定する前記特許請求の範囲第２
項記載のタンデム圧延における自動板厚制御方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59209278A JPS6188911A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | タンデム圧延における自動板厚制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59209278A JPS6188911A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | タンデム圧延における自動板厚制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6188911A JPS6188911A (ja) | 1986-05-07 |
| JPH029885B2 true JPH029885B2 (ja) | 1990-03-05 |
Family
ID=16570294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59209278A Granted JPS6188911A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | タンデム圧延における自動板厚制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6188911A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2898523B1 (fr) * | 2006-03-14 | 2009-02-27 | Alstom Power Conversion Sa | Procede de laminage d'une bande de tole. |
| JP6031344B2 (ja) * | 2012-12-05 | 2016-11-24 | 株式会社日立製作所 | 圧延制御装置、圧延制御方法および圧延制御プログラム |
| CN104226697B (zh) * | 2013-06-09 | 2016-04-13 | 上海梅山钢铁股份有限公司 | 冷连轧机动态变规格速度控制方法 |
| CN104550266B (zh) * | 2013-10-18 | 2016-09-21 | 沈阳东宝海星金属材料科技有限公司 | 周期性变厚度带材轧制过程中的厚度软测量方法 |
-
1984
- 1984-10-05 JP JP59209278A patent/JPS6188911A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6188911A (ja) | 1986-05-07 |
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