JPH0294387A - 薄膜el素子 - Google Patents

薄膜el素子

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Publication number
JPH0294387A
JPH0294387A JP63248177A JP24817788A JPH0294387A JP H0294387 A JPH0294387 A JP H0294387A JP 63248177 A JP63248177 A JP 63248177A JP 24817788 A JP24817788 A JP 24817788A JP H0294387 A JPH0294387 A JP H0294387A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
conductive paste
conductive
types
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP63248177A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Matsunaga
浩二 松永
Yosuke Fujita
洋介 藤田
Atsushi Abe
阿部 惇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP63248177A priority Critical patent/JPH0294387A/ja
Publication of JPH0294387A publication Critical patent/JPH0294387A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、キャラクタやグラフィックス等の表示に用
いる薄膜EL素子に間するものである。
従来の技術 従来より電場発光蛍光体を用いた固体映像表示装置とし
てX−Yマトリックス表示装置が知られている。この装
置は、電場発光層の両面に水平平行電極群と垂直平行電
極群とを互いに直行するように配置し、それぞれの電極
群に接続された給電線により外部駆動回路を通して信号
を加えて、画電極群の交点部分の電場発光層(以下EL
発光体層と略称する)を発光させ(この交点部分面を絵
素と称する)、発光した絵素の組合せによって文字記号
、図形などを表示させるものであ・る。
第4図および第5図に従来の薄膜E L素子の断面構造
を示す。ここで用いられる固体映像表示装置の表示板と
しては、通常ガラスなどの透光性基板1上に透明な平行
電極群である透明電極2を形成し、その上に第1誘電体
層3、EL発光体層4、第2誘電体層5を順次積層し、
さらにそのLに背面電極6を下層の透明電極2に直交す
る配置で積層して形成する。一般に透明電極2としては
平滑な透光性基板l上に酸化錫や錫添加酸化インジウム
(以下ITOと略称する)を被着し、所望の形状にパタ
ーンニングすることにより形成される。
これに直交し、対向する背面電極6としてはA1などの
金属膜を真空蒸着などにより成膜し所望の形状にパター
ンニングすることにより形成される。
ここで、透明電極2と背面電極6とを外部回路と接続す
る方法として半田付が一般に用いられている。ところが
、透明電極2のITOおよび背面電極6のAIともに半
田付性が悪い。そこで、透明電極2および背面電極6の
外部導出電極7の作り方として、1つの方法は、背面電
極6のパターンニングが終了したのちにストライブ状の
窓が形成されたメタルマスクを用いて真空蒸着法により
ストライブ状の金属膜7(たとえばNi/Cr)を成膜
する(第4図参照)。また、別の方法として、背面電極
6用のAI膜を成膜したのちに周辺に外部導出電極用の
金属膜8(たとえばNi)を成膜しエツチング用のレジ
ストパターンを形成し湿式エツチングにより背面電極6
と外部導出電極のパターンを形成する(第5図参照)と
いった方法がとられている。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、メタルマスクを用いる方法では、l)精
細度が小さいものはできない、2)大画面には向かない
、3)メタルマスクの取扱いが難しい、4)下部電極(
透明電極および背面電極)との位置合わせが難しいとい
った問題がある。
また、湿式エツチング法では、l)外部導出電極用の金
属膜はEl、素子の周辺にのみ成膜しなくてはならない
ので、背面電極用の金属膜を成膜したのちに有効表示部
分を覆うような成膜用のマスクに替えて外部導出電極用
の金属膜を成膜しなければならない、2)エツチングを
成膜した金属膜の数だけ行わなければならないため工程
が複雑になるといった問題がある。
本発明は、このような従来の方法の課題を解決すること
を目的とする。
課題を解決するための手段 本発明は、透光性基板上に、透明電極、第1誘電体層、
EL発光体層、第2誘電体層および背面電極を順次積層
してなる薄膜EL素子において、透明電極と背面電極の
両方の外部導出電極を同時に、熱硬化温度が200℃以
下の導電ペーストで導電成分の含有率が異なる少なくと
も2種類の導電ペーストを用い、背面電極を形成したの
ちに導電成分の含有率が大きい導電ペーストが最上層に
、含有率が最上層よりも小さい導電ペーストが下層にな
るようにスクリーン印刷法で積層したのちに熱硬化して
形成したものである。
作用 透明電極と背面電極の両方の外部導出電極をスクリーン
印刷法により導電ペーストの印刷で同時に形成すること
ができる。しかも、最1層に導電成分の含有率が大きな
導電ペーストを用いることにより外部回路との接続を半
田付で行うことができる。
実施例 以下に、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図および第2図は、本発明にかかる薄膜EL素子の
背面電極および透明電極の外部導出電極部分の構造を表
す断面図を、第3図は同じくその平面図を示す。
第1図、第2図および第3図において、1は透光性基板
であり、2は透明電極である。その上に第1誘電体層3
、EL発光体層4、第2誘電体層5、そして背面電極6
が形成されている。透明電極2の第1の外部導出電極9
および背面電極6の第2の外部導出電極10は、透明電
極2および背面電極6にそれぞれ一部が重なるように形
成されている。そして、第1および第2の外部導出電極
9.10は導電成分の異なる2種類の導電ペーストから
なっており、最上層の導電ペースト11は導電成分が例
えば80wt%以上含まれており、下層の導電ペースト
12は例えば80νt%以下の導電成分を含む導電ペー
ストからなっている。
次に、更に、具体的な例を示す。透光性基板lは、ガラ
ス基板であり、コーニング社の7059ガラスを用いた
。なお、透光性基板1の大きさは240mmX180m
mで厚さ1.1mmである。透光性基板l上に、直流ス
パッタリング法によりガス圧0.8Pa(アルゴン対酸
素の分圧比5:4)で厚さ600nmのITO膜を形成
した。このときの■To膜の抵抗率は2.2X10−’
Ω・Cl11であった。
その後ITO膜をフォトリソグラフィの技術によりスト
ライブ状に加工した。パターン間隔0.3mmで、0.
23mm幅のパターンを形成した。このようにして、ス
トライブ状の透明電極2を形成した。
その上にチタン酸ジルコン酸ストロンチウム[S r 
(T ixZ r +−x) 03]を基板温度400
℃でスパッタリングすることにより、厚ざ600nmの
酸化物誘電体膜を第1誘電体N3として形成した。さら
に、その上に共蒸着法により、基板温度200℃で厚さ
500nnのマンガン添加硫化亜鉛膜からなるEL発光
体層4を形成した。真空中450℃で1時間熱処理の後
、その上にタンタル酸バリウム[B a T a20s
l tA粘結体、基板温度150℃でスパッタリングす
る事により厚さ200nmの酸化物誘電体膜を第2誘電
体層5として形成した。さらに、その上に厚さ150n
mのAI膜を真空蒸着し、蒸着したAI膜をフォトリソ
グラフィ技術により、透明電極2とは直交する方向にス
トライブ状に加工し背面電極6とした。
透明電極2と背面電極6の外部導出電極9゜10は、2
種類の導電ペーストを用いて形成した。
下層の導電ペース)12は導電成分としてAgが40w
t%含まれた導電ペーストであり、スクリーン印刷法に
より透明電極2と背面電極6の両方の端部に重なるよう
に印刷し空気中40℃で30分間乾燥した。乾燥後の厚
みが10amであった。
その上に、最上層の導電ペースト11として導電成分が
80wt%含まれた導電ペーストを下層の導電ペースト
12に重なるように印刷し空気中150℃で30分間乾
燥した。乾燥後の厚みが下層の導電ペース)12と最上
層の導電ペースト11の両方を合わせて約201i m
になった。
以上のようにして作成した薄膜EL素子の外部導出電極
9.IOと外部回路の端子電極(Cu箔のパターンにS
nメツキを施しである)とを半田付により接続したとこ
ろ、半田食われもなく良好な接続を得ることができた。
なおここで用いた半田はPb−5n系の半田にAgが2
wt%含まれたものである。
発明の効果 以上のように請求項1の本発明によれば、導電成分の含
有率が異なる少なくとも2種類の導電ペーストを用いて
薄膜EL素子の外部導出電極を形成しているので、半田
付性の優れた電極を形成することができる。更に、請求
項2の本発明は、最上層に導電成分の含有率が大きい導
電ペーストを用いているため、半田とのなじみが良くな
り半田付性が向上する。また、導電成分の含有率が高い
導電ペーストのみでは半田付性が向上した分だけ半田食
われがおこりやすくなるが、下層に最上層よりも含有率
が小さい導電ペーストを用いて多層構造にしているため
、半田食われが起こりにくくなりしかも基板との密着性
も向上する。
さらに、パターン形成がスクリーン印刷、硬化が200
℃以下と低いため、工程が簡素化でき薄膜EL素子の製
造コストの低減に寄与できる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は本発明にかかる薄膜EL素子の一
実施例の断面図、第3図は同じく本発明にかかる薄膜E
L素子の平面図、第4図および第5図は従来の薄膜EL
パネルの断面図を示す。 1・・・透光性基板、2・・・透明電極、3・・・第1
誘電体層、4・・・EL発光体層、5・・・第2誘電体
層、6・・・背面電極、9・・・第1の外部導出電極、
lO・・・第2の外部導出電極、11・・・最上層の導
電ペースト、12・・・下層の導電ペースト。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか1名第1 図 第2図 法光吐墓板 透明電極 第13δ町ト電イ2トA憂 εL発光体層 第2誘電体層 6背面電極 9第1のタト郭導出電極 ]0第2のタト邦MEfN羽2 11!&上1の導電ペースト 12下層の導電ペースト

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)透光性基板上に、透明電極、第1誘電体層、EL
    発光体層、第2誘電体層、及び背面電極が順次積層され
    てなる薄膜EL素子において、前記透明電極および前記
    背面電極の外部導出電極が、熱硬化温度が200℃以下
    の導電ペーストで導電成分の含有率が異なる少なくとも
    2種類の導電ペーストを用い前記背面電極を形成したの
    ちに前記2種類の導電ペーストを積層して形成されたこ
    とを特徴とする薄膜EL素子。
  2. (2)少なくとも2種類の導電ペーストの積層において
    、最上層の導電ペーストの導電成分の含有率が下層の導
    電ペーストの導電成分の含有率よりも大きいことを特徴
    とする請求項1記載の薄膜EL素子。
JP63248177A 1988-09-30 1988-09-30 薄膜el素子 Pending JPH0294387A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4836106A (en) * 1987-10-30 1989-06-06 International Business Machines Corporation Direct offset master by resistive thermal printing

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US4836106A (en) * 1987-10-30 1989-06-06 International Business Machines Corporation Direct offset master by resistive thermal printing

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