JPH028368A - 自動成膜装置 - Google Patents
自動成膜装置Info
- Publication number
- JPH028368A JPH028368A JP15967088A JP15967088A JPH028368A JP H028368 A JPH028368 A JP H028368A JP 15967088 A JP15967088 A JP 15967088A JP 15967088 A JP15967088 A JP 15967088A JP H028368 A JPH028368 A JP H028368A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- laser light
- sputtering
- photodetector
- chamber
- Prior art date
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- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ｃ産業上の利用分野〕
本発明は、自動成膜装置、特にスパッタおよび蒸着等に
より薄膜を作成する自動成膜装置に関する。
より薄膜を作成する自動成膜装置に関する。
従来の自動成膜装置は、真空なチェンバーから取り出し
て成膜された薄膜の反射率を測定していた。
て成膜された薄膜の反射率を測定していた。
しかしながら、このような上述した従来の自動成膜装置
は、チェンバーから成膜した基板を取り出して薄膜の反
射率を測定しているため、次の成膜条件へのフィードバ
ックに時間がかかってしまうという欠点があった。
は、チェンバーから成膜した基板を取り出して薄膜の反
射率を測定しているため、次の成膜条件へのフィードバ
ックに時間がかかってしまうという欠点があった。
本発明の自動成膜装置は、チェンバー内に成膜した膜面
上にレーザ光が入射するように設置したレーザ光発生器
と、膜面より反射したレーザ光を入射するように設置し
たフォトディテクタと、ディテクタ出力信号を処理し成
膜条件を制御する成膜条件制御部を有して構成される。
上にレーザ光が入射するように設置したレーザ光発生器
と、膜面より反射したレーザ光を入射するように設置し
たフォトディテクタと、ディテクタ出力信号を処理し成
膜条件を制御する成膜条件制御部を有して構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施例を示す概略図である。
第１図に示す自動成膜装置は、スパッタ装置のチェンバ
ー代理人に基板３上に成膜された膜ヘレーザ光が入射す
るようにレーザ光発生器１が設置され、膜より反射した
レーザ光が入射するようにフォトディテクタ２が設置さ
れている。
ー代理人に基板３上に成膜された膜ヘレーザ光が入射す
るようにレーザ光発生器１が設置され、膜より反射した
レーザ光が入射するようにフォトディテクタ２が設置さ
れている。
基板３に成膜された膜の反射率はフォトディテクタ２へ
のレーザ光入射光量により測定され測定値信号はスパッ
タ条件制御用コントローラ７に送られる。スパッタ条件
制御用コントローラ７は測定された反射率により次のス
パッタ条件を決定しスパッタ制御部６を制御して次の成
膜にそなえる。
のレーザ光入射光量により測定され測定値信号はスパッ
タ条件制御用コントローラ７に送られる。スパッタ条件
制御用コントローラ７は測定された反射率により次のス
パッタ条件を決定しスパッタ制御部６を制御して次の成
膜にそなえる。
上述の実施例では成膜条件制御部としてスパッタ条件制
御用コントローラおよびスパッタ制御部からなる例を示
したが、これらは一体として構成されていてもよく、ま
た蒸着によるものであってもよい。
御用コントローラおよびスパッタ制御部からなる例を示
したが、これらは一体として構成されていてもよく、ま
た蒸着によるものであってもよい。
本発明の自動成膜装置は、チェンバー内にレーザ光発生
器とフォトディテクタを追加し成膜直後の膜の反射率を
測定できるため、次の成膜条件の決定が迅速に行なえる
ので、成膜条件のフィードバックに要する時間が短縮で
きるから安定に大量の成膜を連続して行なうことができ
るという効果がある。
器とフォトディテクタを追加し成膜直後の膜の反射率を
測定できるため、次の成膜条件の決定が迅速に行なえる
ので、成膜条件のフィードバックに要する時間が短縮で
きるから安定に大量の成膜を連続して行なうことができ
るという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す概略図である。
１・・・・・・レーザ光発生器、２・・・・・・フォト
ディテクタ、３・・・・・・基板、４・・・・・・ター
ゲット、５・・・・・・シャッタ、６・・・・・・スパ
ッタコントローラ、７・・・・・・スパッタ条件制御部
、１０・・・・・・チェンバー代理人 弁理士 内
原 晋
ディテクタ、３・・・・・・基板、４・・・・・・ター
ゲット、５・・・・・・シャッタ、６・・・・・・スパ
ッタコントローラ、７・・・・・・スパッタ条件制御部
、１０・・・・・・チェンバー代理人 弁理士 内
原 晋
Claims (1)
- チェンバーと、前記チェンバー内に成膜した基板の膜面
上にレーザ光が入射するように配置されたレーザ光発生
器と、膜面より反射したレーザ光を入射するように設置
したフォトディテクタと、ディテクタ出力信号を処理し
成膜条件を制御する成膜条件制御部を含むことを特徴と
する自動成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15967088A JPH028368A (ja) | 1988-06-27 | 1988-06-27 | 自動成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15967088A JPH028368A (ja) | 1988-06-27 | 1988-06-27 | 自動成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH028368A true JPH028368A (ja) | 1990-01-11 |
Family
ID=15698768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15967088A Pending JPH028368A (ja) | 1988-06-27 | 1988-06-27 | 自動成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH028368A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110236569A1 (en) * | 2010-03-29 | 2011-09-29 | Weiller Bruce H | Systems and methods for preventing or reducing contamination enhanced laser induced damage (c-lid) to optical components using gas phase additives |
-
1988
- 1988-06-27 JP JP15967088A patent/JPH028368A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110236569A1 (en) * | 2010-03-29 | 2011-09-29 | Weiller Bruce H | Systems and methods for preventing or reducing contamination enhanced laser induced damage (c-lid) to optical components using gas phase additives |
| US9498846B2 (en) * | 2010-03-29 | 2016-11-22 | The Aerospace Corporation | Systems and methods for preventing or reducing contamination enhanced laser induced damage (C-LID) to optical components using gas phase additives |
| US10155284B2 (en) | 2010-03-29 | 2018-12-18 | The Aerospace Corporation | Systems and methods for preventing or reducing contamination enhanced laser induced damage (C-LID) to optical components using gas phase additives |
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