JPH0283277A - 多孔質セラミックス焼結体の製造方法 - Google Patents
多孔質セラミックス焼結体の製造方法Info
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- JPH0283277A JPH0283277A JP23556488A JP23556488A JPH0283277A JP H0283277 A JPH0283277 A JP H0283277A JP 23556488 A JP23556488 A JP 23556488A JP 23556488 A JP23556488 A JP 23556488A JP H0283277 A JPH0283277 A JP H0283277A
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Landscapes
- Porous Artificial Stone Or Porous Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はセラミックス粒子の成形体を加圧ガス雰囲気中
で焼結させて、気孔？そ分布が狭い多孔質体を歩留まり
良く製造する方法に関するものである。
で焼結させて、気孔？そ分布が狭い多孔質体を歩留まり
良く製造する方法に関するものである。
【従来の技術］
従来、一般にセラミックス粒子の焼結は、粒子の再配列
、体積拡散、蒸発−凝縮、粒成長と言う過程を経て進行
するものである。そして、多孔質体の気孔径の制御は、
出発原料の粒径、焼結温度などにより行なっているもの
であった。
、体積拡散、蒸発−凝縮、粒成長と言う過程を経て進行
するものである。そして、多孔質体の気孔径の制御は、
出発原料の粒径、焼結温度などにより行なっているもの
であった。
しかしながら、従来の方法によるものにあっては、孔径
の分布幅が広く、目的の気孔径を得るのが困難であった
。また、気孔径の制御も焼結温度や保持時間に滝めて敏
感なため、非常にシビアな管理が必要であり、歩留まり
も低いものであった［発明が解決しよ・）とする課題］ 本発明はり、ｉｉ！天情に鑑み５種々検討した結果。
の分布幅が広く、目的の気孔径を得るのが困難であった
。また、気孔径の制御も焼結温度や保持時間に滝めて敏
感なため、非常にシビアな管理が必要であり、歩留まり
も低いものであった［発明が解決しよ・）とする課題］ 本発明はり、ｉｉ！天情に鑑み５種々検討した結果。
発明されたもので、セラミックス粒子の成形体を加圧ガ
ス雰囲気中で焼結することにより、焼結を■害すること
もなく、気孔の消失を抑制して、気孔ｔ￥分布の失い多
孔質体を歩留まり良＜、５８！逍するものである。
ス雰囲気中で焼結することにより、焼結を■害すること
もなく、気孔の消失を抑制して、気孔ｔ￥分布の失い多
孔質体を歩留まり良＜、５８！逍するものである。
［課題を解決するための手段］
一般に多孔質セラミックスは、気孔を確保するため、微
粉量を減らした粒度構成とするか、気孔形成剤として炭
素（Ｃ）などを添加した原料配合物を使用して、成形、
焼成する方法が行なわれている。また、焼結助剤を添加
する方法或は焼結温度を高くする方法などがある。
粉量を減らした粒度構成とするか、気孔形成剤として炭
素（Ｃ）などを添加した原料配合物を使用して、成形、
焼成する方法が行なわれている。また、焼結助剤を添加
する方法或は焼結温度を高くする方法などがある。
しかしながら、加圧ガス雰囲気中で焼結し、気孔径分布
の狭い多孔質セラミックスを製造して、歩留り（焼結時
の変形による不良および気孔径分布から外れた焼結体を
不良として除いた後の良品の割合で）の良い焼結体を製
造する方法はなかった。
の狭い多孔質セラミックスを製造して、歩留り（焼結時
の変形による不良および気孔径分布から外れた焼結体を
不良として除いた後の良品の割合で）の良い焼結体を製
造する方法はなかった。
本発明は多孔質セラミックスの製造方法において、後記
実施例でも明らかなように、気孔径分布が狭く歩留りの
良い製造方法である。
実施例でも明らかなように、気孔径分布が狭く歩留りの
良い製造方法である。
なお、焼結時のガス圧力は２ ａｔｍ以上が良好であり
、焼結時のガス圧力を換＾ることにより気孔径分布を、
選定できる。
、焼結時のガス圧力を換＾ることにより気孔径分布を、
選定できる。
例えばＡＩｔｏｓの５０〜６０μｍの気孔径分布のもの
を選ぶなら、 １５ａｔ■にて焼結を行ない、また、５
〜７μｍの気孔径分布のものを選びたいなら、３ａｔ、
＋ｍにて焼結を行なう、このときの歩留りは５０〜６０
ＬＬｍの気孔径分布のもののときは、８０％であり、５
〜７μｍの気孔径分布のもののときは、９０％であった
。
を選ぶなら、 １５ａｔ■にて焼結を行ない、また、５
〜７μｍの気孔径分布のものを選びたいなら、３ａｔ、
＋ｍにて焼結を行なう、このときの歩留りは５０〜６０
ＬＬｍの気孔径分布のもののときは、８０％であり、５
〜７μｍの気孔径分布のもののときは、９０％であった
。
このように、本発明は多孔質セラミックスの製造方法に
おいて、焼結時にＮ、またはＡｒなどの高圧ガス雰囲気
下においてｖ１結するものである。
おいて、焼結時にＮ、またはＡｒなどの高圧ガス雰囲気
下においてｖ１結するものである。
また、本発明は多孔質セラミックスのうら５例えばＡｌ
ｕｍｓとかＳｉＣ、ムライト、ジルコニア、ゴージエラ
イトのような固相焼結されるセラミックス全般に適用さ
れるものである。
ｕｍｓとかＳｉＣ、ムライト、ジルコニア、ゴージエラ
イトのような固相焼結されるセラミックス全般に適用さ
れるものである。
なお、本発明は従来の製造方法のうち、セラミックス粒
子の成形体を 高圧ガス中で焼成するもので、その他
のことは、従来の方法と同じである０例えば、有機結合
材を加えるとか、焼結助剤を加えること及び使用するガ
スの種類等は従来の方法と何等代らないものである。
子の成形体を 高圧ガス中で焼成するもので、その他
のことは、従来の方法と同じである０例えば、有機結合
材を加えるとか、焼結助剤を加えること及び使用するガ
スの種類等は従来の方法と何等代らないものである。
［実施例］
次に本発明の実施例について説明する。
平均粒径０．６μｍのＡＩｔｏｓ粒子を使用し、これに
有機結合材を加えコールド・アイス・スタティック法（
ＣＩＰ）または押し出し成形法により、３０ｍｍＸ ２
０ｓ＊Ｘ ５００■−の成形体を製造した。
有機結合材を加えコールド・アイス・スタティック法（
ＣＩＰ）または押し出し成形法により、３０ｍｍＸ ２
０ｓ＊Ｘ ５００■−の成形体を製造した。
また、平均粒径０．８μｍのＳｉＣに、はう素（Ｂｌお
よび／または炭素（Ｃ）など焼結助剤を加えて３０−讃
×２０−−ｘｓＯＯｍ■の成形体を製造した。
よび／または炭素（Ｃ）など焼結助剤を加えて３０−讃
×２０−−ｘｓＯＯｍ■の成形体を製造した。
得られた成形体を、表１の如き焼結条件で焼結したとこ
ろ、同表にしめした気孔径分布および歩留りで多孔質セ
ラミックスの焼結体を得ること力１できた。
ろ、同表にしめした気孔径分布および歩留りで多孔質セ
ラミックスの焼結体を得ること力１できた。
［究明の効果］
本発明は上記衣より明らかなように、焼結温度とガスの
種類は同じものを使用しているにも抱ねらず、ガス圧を
３ａｔｍにすると、５〜７μｍの気孔径分布のものが、
歩留まり９０％でできるのに対して、従来の方法（ｌａ
ｔｅ）によると５気孔ｒＭ分布として０．１−１０μｍ
のものが、歩留まり６０％でしか、５８！逍することが
できないものである。
種類は同じものを使用しているにも抱ねらず、ガス圧を
３ａｔｍにすると、５〜７μｍの気孔径分布のものが、
歩留まり９０％でできるのに対して、従来の方法（ｌａ
ｔｅ）によると５気孔ｒＭ分布として０．１−１０μｍ
のものが、歩留まり６０％でしか、５８！逍することが
できないものである。
このように、本発明によると気孔径分布の狭いしかも、
歩留りの良い方法で多孔質セラミックスを製造すること
ができるものである。
歩留りの良い方法で多孔質セラミックスを製造すること
ができるものである。
また、本発明はＡｌ＊Ｏｓ 、 ＳｉＣ、ムライト、ジ
ルコニア、コージェライトなど固相焼結するセラミック
スなら使用することができるものである。
ルコニア、コージェライトなど固相焼結するセラミック
スなら使用することができるものである。
従来、出発原料の粒径、焼結温度、保持時間などにより
制御されていた気孔径分布が、ガス圧の制御のみにより
容易になり、歩留りを向上させることができる。
制御されていた気孔径分布が、ガス圧の制御のみにより
容易になり、歩留りを向上させることができる。
Claims (1)
- セラミックス粒子の成形体を、所定のガス圧中で焼結さ
せて所望の気孔径分布の焼結体を得ることを特徴とする
多孔質セラミックスの製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63235564A JP2628713B2 (ja) | 1988-09-20 | 1988-09-20 | 多孔質セラミックス焼結体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63235564A JP2628713B2 (ja) | 1988-09-20 | 1988-09-20 | 多孔質セラミックス焼結体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0283277A true JPH0283277A (ja) | 1990-03-23 |
| JP2628713B2 JP2628713B2 (ja) | 1997-07-09 |
Family
ID=16987859
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63235564A Expired - Lifetime JP2628713B2 (ja) | 1988-09-20 | 1988-09-20 | 多孔質セラミックス焼結体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2628713B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03284313A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-16 | Ngk Insulators Ltd | 多孔質セラミックフィルタの製法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4982714A (ja) * | 1972-12-13 | 1974-08-09 |
-
1988
- 1988-09-20 JP JP63235564A patent/JP2628713B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4982714A (ja) * | 1972-12-13 | 1974-08-09 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03284313A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-16 | Ngk Insulators Ltd | 多孔質セラミックフィルタの製法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2628713B2 (ja) | 1997-07-09 |
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