JPH02772A - ヒドロキシケトン化合物の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、除草活性を有する化合物を製造する上で有用
な中間体である一般式（１）メチル基を表わす。〕 で示されるアルデヒド化合物とアセト酢酸塩とを一般式 ％式％ 〔式中、ＲａおよびＲ４は同一または相異なり、また、
Ｒ８とＲ４とが結合して環をなしていてもよいセカンダ
リ−炭化水素基を表わす。〕で示される第二級アミンお
よび相間移動触媒の〔式中、Ｘは低級アルキル基、低級
アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロ低級アルキル基また
はハロ低級アルコキシ基を表わし　Ｒ１およびＲ２は同
一または相異なり、水素原子またはメチル基を表わす。

〕 で示されるヒドロキシケトン化合物の製造法に関するも
のである。

〈従来の技術〉 これまで、特開昭５４−４６７４９号公報、特開昭５４
−１１５８４９号公報、特開昭６８−２６４４５１号公
報、特願昭６２−１６７６８８号、特願昭６２−１６９
５４８号、欧州特許第２５８５８７号明細書等に一般式
（［１）化合物は、下記の経路にて製造することができ
るが、その際にＷｉｔｔｉｇ反応を行うため、特に工業
的規模の実施においては、原料のＷｉｔｔｉｇ試薬が高
価なこと、反応終了後の後処理において、分液の悪さや
、含燐廃水の処理等の問題があった。

＼ 〔式中、Ｘ、ＲおよびＲは前記と同じ意味を表わし、Ｒ
は低級アルキル基を、Ｒは低級アルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルキニル基またはハロ低級アルケニル基
を表わす。〕 で示される化合物等が除草活性を有することが記されて
いる。

〈発明が解決しようとする課題〕 ところで、上記−数式（ＩＤで示される除草性Ｉ　Ｒ２ Ｉ　Ｒ２ （ＩＤ ＲＲおよびＸは前記と同じ意味を表わす。〕〈課題を解
決するための手段〉 本発明者らは、−数式Ｃ１１）で示される除草性化合物
のより有利な製造法、特に−数式（ＩＶ）で示される化
合物のより有利な製造法について鋭意検討した結果、−
数式（Ｉ）で示されるヒドロキシケトン化合物を経由す
ることにより、目的を達成できることを見出し、さらに
該ヒドロキシケトン化合物のより有利な製造法を見出し
本発明に至った。

以下、本発明の製造法について説明する。

本発明による製造法は、−数式（ＩＩＩ）で示されるア
ルデヒド化合物とアセト酢酸塩とを一般式％式％（１ 〔式中、Ｒ１およびＲ４は同一または相異なり、また、
ＲとＲとが結合して環をなしていてもよいセカンダリ−
炭化水素基を表わす。〕で示される第二級アミンおよび
相間移動触媒の存在下に反応させることによる一般式Ｃ
Ｉ）で示される化合物の製造法である。

本製造法において用いられるアセト酢酸塩としては、例
えば、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属塩があげ
られ、該塩はアセト酢酸エステルを加水分解して反応系
内で生成させたものを用いることもできる。

また、一般式〔ｖ〕で示される第二級アミンとしては、
例えばジイソプロピルアミン、ジシクロヘキシルアミン
、ジセカンダリープチルアミン、２．５−ジメチルピロ
リジン、２，６−シメチルピペリジン等があげられ、相
間移動触媒としては、例えば臭化テトラブチルアンモニ
ウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム等のアンモ
ニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等の
スルホン酸塩、臭化セチルトリブチルホスホニウム等の
ホスホニウム塩、トリス（２−（２−メトキシエトキシ
）エチルシアミン等のアミンなどがあげられる。第二級
アミンおよび相聞移動触媒の使用量は触媒量、通常一般
式（ＩＩＩ）で示されるアルデヒド化合物に対して０．
０５倍モル以上あればよく、一般には０．１〜０．２倍
モル程度用いられる。

反応温度は一般に０〜１００℃、通常１０〜６０°Ｃで
あり、反応時間は通常８０分〜２４時間である。

本反応は、通常、水と有機溶媒との二層系で行われ、用
いられる有機溶媒としては、例えばジクロロメタン、ク
ロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類
、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類
などがあげられる。

本反応においては、次式 ％式％ に示されるように、反応系内に炭酸水素イオンが発生す
るが、必要により適当な酸（例えば塩酸等）を添加する
ことによってｐＨ６〜８に調節して、炭酸水素イオンを
分解することにより、反応をより円滑にすすめることが
できる。反応終了後は有機層を分取しくその際に、必要
により塩酸等の酸を添加する）、常法に従って処理する
ことにより、目的とするヒドロキシケトン化合物が得ら
れる。また、必要により再結晶、クロマトグラフィー等
で精製することもできる。

本発明の製造法により製造される一般式（Ｉ）のヒドロ
キシケトン化合物において、Ｘとしては例えば２−メチ
ル基、８−メチル基、４−メチル基、２−エチル基、８
−エチル基、４−エチル基、２−プロピル基、８−プロ
ピル基、４−プロピル基、２−イソプロピル基、８−イ
ソプロピル基、４−イソプロピル基、２−ブチル基、８
−ブチル基、４−ブチル基、２−メトキシ基、８−メト
キシ基、４−メトキシ基、２−エトキシ基、３−エトキ
シ基、４−エトキシ基、２−プロポキシ基、８−プロポ
キシ基、４−プロ、ポキシ基、２−イソプロポキシ基、
８−イソプロポキシ基、４−イソプロポキシ基、２−ブ
トキシ基、８−ブトキシ基、４−ブトキシ基、２−フル
オロ、８−フルオロ、４−フルオロ、２−クロロ、８−
クロロ、４−クロロ、２−ブロモ、８−ブロモ、４−ブ
ロモ、２−ヨード、８−ヨード、４−ヨード、２−ジフ
ルオロメチル基、８−ジフルオロメチル基、４−ジフル
オロメチル基、２−トリフルオロメチル基、８−トリフ
ルオロメチル基、４−トリフルオロメチルｉ、２−）リ
フルオロメトキシ基、８−トリフルオロメトキシ基、４
−トリフルオロメトキシ基、２−（１，１，２，２−テ
トラフルオロエトキシ）基、８−（１，１，２，２−テ
トラフルオロエトキシ）基、４−（１，１，２，２−テ
トラフルオロエトキシ）基などが挙げられる。

〈実施例〉 以下、本発明を製造例および比較例にて説明するが、本
発明は仁れらの製造例のみに限定されるものではない。

製造例１ アセト酢酸メチル９．８６Ｎを水１５ｍに溶かし、反応
液を２５℃以下に保つよう冷却しながら８０％水酸化ナ
トリウム水溶［１２，６７Ｎを滴下した。３０〜８５°
Ｃで８時間撹拌した後濃塩酸を加えてｐＨを７．０とし
た。次いでジイソプロピルアミン１．０１Ｆおよび臭化
テトラブチルアンモニウム２．４２１を加え、さらに濃
塩酸を加えてｐＨを６゜９とした。８−（４−メチルフ
ェニルチオ）ブタナールのトルエン溶液（含量８６．８
％）　２７．２ノを加え、４６〜６０℃で９時間撹拌し
た。有機層を分取し、６％酢酸水溶液次いで飽和食塩水
で順次洗浄した。無水硫ｒ、！Ｉｌマグネシウムで乾燥
し、減圧下に溶媒を除去して粗製の４−ヒドロキシ−６
−（４−メチルフェニルチオ）−２−へフタノン１２．
６１Ｆ（純度８０．９％）を得た。

また、カラムクロマトグラフィーにて処理し、ｎも’１
．５８２２ 製造例２ アセト酢酸メチル９．８６ｆを水１５−に溶かし、反応
液を２６℃以下に保つよう冷却しながら８０％水酸化ナ
トリウム水溶［１２，６７Ｆを滴下した。８０〜８６℃
で８時間撹拌した後、濃塩酸を加えてｐＨを７．０とし
た。次いでジセカンダリープチルアミン０．ＴＴ’ｌお
よび臭化テトラブチルアンモニウム２．４２Ｎを加え、
さらに濃塩酸を加えてｐＨを６．８とした。８−（８−
メトキシフェニルチオ）プロパナールのトルエン溶液（
含量８４．６％）　２７．０　Ｏｆを加え、４５〜５０
°Ｃで９時間撹拌した。有機層を分取し、５％酢酸水溶
液次いで飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下に溶媒を除去して粗製の４−ヒド
ロキシ−６−（３−メトキシフェニルチオ）−２−へキ
サノン１１．６４り（純度８２．８％）を得た。

収率　７９％ また、カラムクロマトグラフィーにて処理し、精製品を
得た。

ｎＤ　１．５６４７ 製造例８ アセト酢酸メチル９．８６９を水１５−に溶かし、反応
液を２５°Ｃ以下に保つよう冷却しながら８０％水酸化
ナトリウム水溶液１２．６７Ｎを滴下した。８０〜８５
°Ｃで８時間撹拌した後濃塩酸を加えてｐＨを７．０と
した。次いで２．６−シメチルピペリジン１．１８Ｆお
よび臭化テトラブチルアンモニウム１．９ＪＭを加え、
さらに濃塩酸を加えてｐＨを６．８〜６．９とした。８
−（４−フルオロフェニルチオ）−２−メチルプロパナ
ールのトルエン溶［（含ｊｌａｇ、＋ｓ％）２７、１９
を加え、４５〜５０℃で８時間撹拌した。有機層を分取
し、５９６酢酸水溶液次いで飽和食塩水で順次洗浄した
。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を除去
して粗製の６−（４−フルオロフェニルチオ）−４−ヒ
ドロキシ−５−メチル−２−ヘキサノンを得た。カラム
クロマトグラフィーにて処理し、精製品５．１５Ｆを得
た。

収率　４０．２％ ｎ”　　　１．５８９６ 製造例４ アセト酢酸メチル９．８６　ｆを水１５−に溶かし、反
応液を２５°Ｃ以下に保つよう冷却しながら８０％水酸
化ナトリウム水浴液１２．６７ｇを滴下した。８０〜８
５℃で８時間撹拌した後濃塩酸を加えてｐＨを７．０と
した。次いで２．６−シメチルピペリジン０．６８１お
よび臭化テトラブチルアンモニラ、ム１．９８ｇを加え
、さらに濃塩酸を加えてｐＨを６．８とした。８−（２
−フルオロフェニルチオ）ブタナールのトルエン溶！（
含ｆｉｌＢ６．１％）　２７．４９を加え、４５〜５０
°Ｃで９時間撹拌した。有機層を分取し、５％酢酸水溶
液次いで飽和食塩水で順次洗浄した。

無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を除去し
て粗製の６−（２−フルオロフェニルチオ）−４−ヒト
臼キシ−２−ヘプタノン１４．１６Ｆ（純度８８．９％
）を得た。

収率　９８，６％ また、カラムクロマトグラフィーにて処理し、精製品を
得た。

ｎＤ　１．５８６８ 製造例５ アセト酢酸メチル９．８６９を水１５−に溶かし、反応
液を２５℃以下に保つよう冷却しながら８０％水酸化ナ
トリウム水溶液１２．６７Ｆを滴下した。８０〜８５°
Ｃで８時間撹拌した後濃塩酸を加えてｐＨを７．０とし
た。次いでジシクロヘキシルアミン２．’？２１１およ
び臭化テトラブチルアンモニウム２．９０ｆＩを加え、
さらに濃塩酸を加えてｐＨを６．８とした。８−（４−
クロロフェニルチオ）プロパナールのトルエン溶液！］
含量８８．６％）２５．９２ノを加え、４５〜５０°Ｃ
で８時間撹拌した。有機層を分取し、５％酢酸水溶液次
いで飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下に溶媒を除去して粗製の６−（４−ク
ロロフェニルチオ）−４−ヒドロキシ−２−へキサノン
１１．６８Ｎ（純度８７．８％）を得た。

収率　７６．４％ また、ジイソプロピルエーテルとヘキサンの混合液より
再結晶して精製品を得た。

融点−４６，０〜４７．５℃ 製造例６ 製造例６において、ジシクロヘキシルアミン２．７２Ｎ
のかわりに２．６−シメチルピペリジン１．７古用い、
゛また、臭化テトラブチルアンモニウムの使用量を５．
７９Ｎにした他は製造例５と同様にして粗製の６−（４
−クロロフェニルチオ）−４−ヒドロキシ−２−へキサ
ノン１２．４５ＩＣ純度９４．６％）を得た。

収率　８８．１％ 製造例７ アセト酢酸メチル９．８６Ｆを水１５ｍ１に溶かし、反
応液を２６°Ｃ以下に保つよう冷却しながら８０％水酸
化ナトリウム水溶液１２．６７Ｆを滴下した。８０〜８
５℃で８時間撹拌した後濃塩酸を加えてｐＨを７．０と
した。次いで２．６−シメチルピペリジン１．１８１！
および臭化テトラブチルアンモニウム２．４２１を加え
、さらに濃塩酸を加えてｐＨを６．８とした６８−（４
−ブロモフェニルチオ）フロパノールのトルエン溶液（
含量８１．２％）２９゜４５Ｆを加え、４５〜６０°Ｃ
で９時間撹拌した。有機層を分取し、５％酢酸水溶液次
いで飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下に溶媒を除去して粗製の６−（４−ブ
ロモフェニルチオ）−４−ヒドロキシ−２−へキサノン
１８．７４ｆ（純度８８，９％）を得た。

収率　９６．５％ また、ジイソプロピルエーテルより再結晶して、精製品
を得た。

融点　５８．０〜５４．０℃ 製造例８ アセト酢酸メチル１．５１ノを水２．０−にだかし、反
応液を２５℃以下に保つよう冷却しながら８０％水酸化
ナトリウム水溶［１，８２ｆ’ｉ’ｍ下した。８０〜８
６°Ｃで６時間撹拌した後濃塩酸を加えてｐＨを７．０
とした。次いで２．６−シメチルピペリジン０．２８１
および臭化テトラブチルアンモニウム０．８２９を加え
、さらに濃塩酸を加えてｐＨを６，９とした。８−（４
−トリフルオロメチルフェニルチオ）プロパナールのト
ルエン溶液（含量４０．５％＞５．７Ｂｌを加え、８０
〜８５℃で６時間さらに室温で１２時間撹拌した。有機
層を分取し、７％塩酸次いで飽和食塩水で順次洗浄した
。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を除去
して粗製の４−ヒドロキシ−６−（４−トリフルオロメ
チルフェニルチオ）−２−へキサノン８．２９１（純度
８６，０％）を得た。

収率　９５６８％ また、ジイソプロピルエーテルより再結晶して精製品を
得た。

融点　７８．０〜７４．６°Ｃ 製造例９ 製造例８において、臭化テトラブチルアンモニウム０．
８２　ｆのかわりに塩化ベンジルトリエチルアンモニウ
ム０．２８Ｆを用いた他は製造例８と同様にして、粗製
の４−ヒドロキシ−６−（４−トリフルオロメチルフェ
ニルチオ）−２−ヘキサノン２．６６Ｆ（純度７７．１
％）を得た。

収率　７０．２％ 製造例１０ 製造例８において、臭化テトラブチルアンモニウム０．
８２ＦのかわりにトリスＣ２−Ｃ２−メトキシエトキシ
）エチルシアミン０．８２１を用いた他は製造例８と同
様にして、粗製の４−ヒドロキシ−６−（４−）リフル
オロメチルフェニルチオ）−２−へキサノン８．０４ｆ
ｌｔ１度８０．５％）を得た。

収率　８８，９％ ε品造例１１ 製造例８において、臭化テトラブチルアンモニウム０．
８２ｆのかわりに臭化セチルトリブチルホスホニウム０
．４９１を用いた他は製造例８と同様にして、粗製の４
−ヒドロキシ−６−（４−トリフルオロメチルフェニル
チオ）−２−へキサノン８．８４ＩＣ純度７５．２％）
を得た。

収率　８６．０％ 製造例１２ アセト酢酸メチル２．００ｆを水８．０艷に溶かし、反
応液を２５°Ｃ以下に保つよう冷却しながら８０％水酸
化ナトリウム水溶液２．５８９を滴下した。８０〜８５
°Ｃで８時間撹拌した浸漬塩酸を加えてｐＨを７．０と
した。次いで２．６−シメチルピペリジン０．１２　ｆ
および臭化テトラブチルアンモニウム０．８２ｆを加え
、さらに濃塩酸を加えてｐＨを６．８〜６．９とした。

８−（４−（１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ
）フェニルチオ〕プロパナールのトルエン溶液（含量８
５．８％）４．００ｆを加え、４５〜６０°Ｃで８時間
撹拌した。有機層を分取し、５％酢酸水溶液次いで飽和
食塩水で順次洗浄した。

無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を除去し
て粗製の４−ヒドロキシ−６−（４−（ｌ、１．２．２
−テトラフルオロエトキシ）フェニルチオクー２−ヘキ
サノンを得た。イソプロピルエーテルとヘキサンの混合
液より再結晶して精製品０．８２１を得た。

収率　４８．２％ 融点　５５．０〜５７．０℃ 比較例１ アセト酢酸メチル１．５１１／を水２−に溶かし、反応
液を８５°Ｃ以下に保つよう冷却しながら８０％水酸化
ナトリウム水溶Ｐ＆１．８２９を滴下した。室温で６時
間撹拌した後、濃塩酸を加えてｐＨを８とした。３−メ
チルピペリジン０．２゜ｆを加え、濃塩酸でｐＨを６に
した後、８−（４−トリフルオロメチルフェニルチオ）
プロパナールのトルエン溶ＫＩＣ含ｆｌ、５４．２％）
４．５１を加え室温で８時間撹拌した。濃塩酸を加えて
中性とした後、有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を除去し
て得た残渣２．９（１’をガスクロマトグラフィーにて
分析したところ、目的とする４−ヒドロキシ−６−（４
−１リフルオロメチルフエニルチオ）−２−へキサノン
１０．６％、その脱水された６−（４−トリフルオロメ
チルフェニルチオ）−８−ヘキセン−２−オン２７．９
％、原料化合物である８−（４−１リフルオロメチルフ
エニルチオ）プロパナール１１．４％、副生成物である
４、６−ビス（４−トリフルオロメチルフェニルチオ）
−２−ヘキサノン２７．０％であった。

比較例２ アセト酢酸メチル１．５１ｆＩを水２−に溶かし、反応
液を８６°Ｃ以下に保つよう冷却しながら８０％水酸化
ナトリウム水溶液１．８２ｆＩを滴下した。室温で６時
間撹拌した後、濃塩酸を加えてｐＨを８とした。ジ−ｎ
−ブチルアミン０．２６１を加え、濃塩酸ｅｐＨを６に
した後、８−（４−１リフルオロメチルフエニルチオ）
プロパナールのトルエン溶液（含ｆｆ１４０．５％）５
．７８ノを加え８０〜８５℃で６時間、さらに室温で１
２時間撹拌した。濃塩酸を加えて中性とした後、有機層
を分取し、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。減圧下に溶媒を除去して得た残渣２．９８ｆ
をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、目的と
する４−ヒドロキシ−６−（４−）リフルオロメチルフ
ェニルチオ）−２−へキサノン１７．２％、その脱水す
した６−（４−）リフルオロメチルフェニルチオ）−８
−ヘキセン−２−オン９．５％、原料化合物である８−
（４−）リフルオロメチルブー フェニルチオ）プロパタール５．１％、副生成物である
４、６−ビス（４−トリフルオロメチルフェニルチオ）
−２−ヘキサノン５８．２％であった。

比較例８ アセト酢酸メチル１．５１ｙを水２ｒｎｔに溶かし、反
応液を８５°Ｃ以下に保つよう冷却しながら３０％水酸
化ナトリウム水溶液１．８２９を滴下した。室温で６時
間撹拌した後、濃塩酸を加えてｐＨを８とした。トリエ
チルアミンＱ、２０ｆを加え、濃塩酸でｐｆ（を６にし
た後、８−（４−トリフルオロメチルフェニルチオ）プ
ロパナールのトルエン溶液（含ｆｆ１５４．２％）４．
５Ｆを加え室温で８時間撹拌した。濃塩酸を加えて中性
とした後、有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を除去して得
た残渣２．８Ｏｆをガスクロマトグラフィーにて分析し
たところ、目的とする４−ヒドロキシ−６−（４−トリ
フルオロメチルフェニルチオ）−２−へキサノン８０．
６％、その脱水された６−（４−トリフルオロメチルフ
ェニルチオ）−８−ヘキセン−２−オン１２．７％、原
料化合物である８−（４−）リフルオロメチルフェニル
チオ）プロパナール４１．７％、副生成物である４、６
−ビス（４−トリフルオロメチルフェニルチオ）−２−
へキサノン０．７％であった。

比較例４ アセト酢酸メチル１．５１Ｎを水２ｔｎｔに浴かし、反
応液を８５°Ｃ以下に保つよう冷却しながら８０％水酸
化ナトリウム水溶［１，８２ｇを滴下した。室温で６時
間撹拌した後、濃塩酸を加えてｐＨを８とした。ピリジ
ン０．１６　ｆを加え、濃塩酸でｐＦＩを６にした後、
８−（４−トリフルオロメチルフェニルチオ）プロパナ
ールのトルエン溶液（含ｆｆ１５４．２％＞４．５１を
加え室温で８時間撹拌した。濃塩酸を加えて中性とした
後、有ＢＡ膚を分取し、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を除去して得た残
渣２．５５Ｎをガスクロマトグラフィーにて分析したと
ころ、目的とする４−ヒドロキシ−６−（４−トリフル
オロメチルフェニルチオ）−２−へキサノン８．１％、
その脱水された６−（４−）リフルオロメチルフェニル
チオ）−８−ヘキセン−２−オン９．８％、原料化合物
である８−（４−トリフルオロメチルフェニルチオ）プ
ロパナール６６．７％、副生成物である４、６−ビス（
４−トリフルオロメチルフェニルチオ）−２−へキサノ
ン１．１％であった。

次に、本発明化合物より一般式（ＩＤで示される化合物
を製造する反応例を参考例として示す。

参考例１ ４−ヒドロキシ−６−（４−トリフルオロメチルフェニ
ルチオ）−２−へキサノン２０．７５１をトルエン１０
０ｍ１に溶かし、シュウ酸１．００ｆを加え、７５分間
還流撹拌して脱水反応を行った。反応液を飽和重曹水で
洗浄し、次いで飽和食塩水で２回洗浄した。無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後減圧下に溶媒を除去して、目的の６
−（４−）リフルオロメチルフェニルチオ）８−ヘキセ
ン−２−オンの粗製物１８．５ｙ（純度９７％）を得た
。

ｎＤ　１．５２７４ 〈発明の効果〉 本発明方法により、有用な除草性化合物を製造するため
の中間体が有利に製造できる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ
   ゲン原子、ハロ低級アルキル基またはハロ低級アルコキ
   シ基を表わし、Ｒ＾１およびＲ＾２は同一または相異な
   り、水素原子またはメチル基を表わす。〕 で示されるアルデヒド化合物とアセト酢酸塩とを一般式 Ｒ＾３−ＮＨ−Ｒ＾４ 〔式中、Ｒ＾３およびＲ＾４は同一または相異なり、ま
   た、Ｒ＾３とＲ＾４とが結合して環をなしていてもよい
   セカンダリー炭化水素基を表わす。〕で示される第二級
   アミンおよび相間移動触媒の存在下に反応させることを
   特徴とする一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘ、Ｒ＾１およびＲ＾２は前記と同じ意味を表
   わす。〕 で示されるヒドロキシケトン化合物の製造法。