JPH0274026A - 電子ビーム装置 - Google Patents

電子ビーム装置

Info

Publication number
JPH0274026A
JPH0274026A JP22622788A JP22622788A JPH0274026A JP H0274026 A JPH0274026 A JP H0274026A JP 22622788 A JP22622788 A JP 22622788A JP 22622788 A JP22622788 A JP 22622788A JP H0274026 A JPH0274026 A JP H0274026A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
electron beams
blanking
diaphragm
signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22622788A
Other languages
English (en)
Inventor
Masanori Sugata
菅田 正徳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP22622788A priority Critical patent/JPH0274026A/ja
Publication of JPH0274026A publication Critical patent/JPH0274026A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、電子ビーム描画装置や走査電子顕微鏡等の電
子ビーム装置に関し、特に、これらの電子ビーム装置に
用いられる絞り板の汚れを防止するようにした電子ビー
ム装置に関する。
[従来の技術] 例えば、可変面積型電子ビーム描画装置では、電子銃か
らの電子ビームを2枚の絞り板の開口を通過させると共
に、該絞り板の間に偏向器を配置し、最初の絞り板の開
口を通過した電子ビームの2枚目の絞り板上の照射位置
を該偏向器によって変化させ、各種断面の電子ビームを
形成するようにしている。又、走査電子顕微鏡等の電子
ビーム装置でも、対物レンズ等に、電子ビームの周辺部
をカットするための絞り板が使用されている。
[発明が解決しようとする課題] 上述した絞り板には、常に電子ビームが照射されること
になり、この電子ビームの衝撃により、周囲の有機ガス
分子が該絞り板に付着し、汚れが生じる。この汚れが生
じると、電子が帯電し、ビームの非点収差が発生したり
、ビームの集束に悪影響を及ぼすことになる。又、可変
面積型電子ビーム描画装置では、汚れによって絞り板の
開口の形状が変化してしまい、描画の精度が悪化するこ
とになる。
この絞り板の汚れを防止するための手法として、該絞り
板を300℃以上に加熱することが有効であることが良
く知られている。しかしながら、絞り板にヒータを埋め
込んでこのヒータに加熱電流を供給して加熱したり、絞
り板自体を高抵抗材料で形成し、絞り板自体に加熱電流
を供給して加熱すると、該電流の供給によって磁場が発
生する。
該磁場は、絞り板を通過する電子ビームを不正に偏向す
ることから、該磁場の発生は好ましいことではない。
本発明は、上述した点に鑑みてなされたもので、ビーム
に対する磁場の影響を無くして絞り板を加熱し、絞り板
の汚れを防止するようにした電子ビーム装置を提供する
ことを目的としている。
[課題を解決するための手段] 本発明に基づく電子ビーム装置は、電子ビームの通逆を
制限する絞り板を備えた電子ビーム装置において、該絞
り板を加熱する手段と、該加熱手段の電源と、該絞り板
の開口を通過する電子ビームをブランキングする手段と
、該絞り板の温度を検出する検出手段と、該検出手段か
らの検出信号と基準温度信号とを比較する比較回路と、
該比較回路からの信号と該ブランキング信号とに基づい
て、該検出信号強度が該基準温度信号強度以下となった
期間と電子ビームのブランキング期間が一致した期間の
み該電源から該加熱手段に電流を供給するように制御す
る制御回路とを備えたことを特徴としている。
〔実施11F’lJ] 第1図は本発明に基づく電子ビーム装置の要部を示して
いる。図中1は電子ビーム光軸0に沿って配置された絞
り板、2は電子ビームのブランキング電極である。該絞
り板1には加熱ヒータが埋め込まれており、該ヒータに
は、加熱電源3からの加熱電流がスイッチ4を介して供
給される。該絞り板1の温度は、サーミスタ温度計等の
温度検出回路5によって検出され、この温度信号は比較
回路6に供給されるが、該比較回路6には、基準温度信
号源7からの基準温度信号が供給されている。該比較回
路6からの信号はAND回路8に供給される。fflA
ND回路8には、ブランキング信号源9からのブランキ
ング信号も供給されている。
該ブランキング信号源9からのブランキング信号は増幅
器10を介してブランキング電極2に供給される。
上述した如き構成において、光軸Oに沿って電子ビーム
が照射され、該電子ビームの一部は絞り板1の開口を通
過し、又、その残りの部分は絞り板に衝突して吸収され
る。又、電子ビームは、ブランキング信号源9からブラ
ンキング電極2に印加される電圧に応じてブランキング
され、絞り板1方向への照射が阻止される。該電子ビー
ムがブランキングされる場合は、電子ビーム描画装置に
あっては、描画パターンに応じて飛び飛びに電子ビーム
が被露光材料に照射される場合であり、走査電子顕微鏡
等では、走査信号の帰線期間となる。
第2図の(C)は、このようなブランキング信号#、9
からブランキング電極2に印加されるブランキング信号
を示している。
該絞り板1は、汚れが付着しないような温度、例えば、
T1に維持されるように制御される。該絞り板1の温度
は温度検出回路5によって検出され、比較回路6に供給
されて基準温度信号R7からの温度T1に比例した信号
と比較される。該比較回路6は、検出温度が基準温度T
lより低くなるとハイレベル信号を発生する。第2図(
a)は温度信号を示しており、絞り板1の温度がT1よ
り低くなった期間、第2図(b)に示すように、ハイレ
ベル信号を発生する。該第2図(b)に示す比較回路6
の出力信号は、ブランキング信号源9からの第2図(c
)に示す信号と共にAND回路8に供給される。
該AND回路8は、供給される両信号が共にハイレベル
の時に第2図(d)に示すハイレベル信号を発生する。
該AND回路8の出力信号は、スイッチ4に供給される
が、該スイッチ4はAND回路8からの信号がハイレベ
ルの期間オンとなり、その期間のみ電R3からスイッチ
4を介して絞り板1のヒータに加熱電流が供給されるこ
とになる。
この結果、第2図(a)に示すように、絞り板1の温度
はほぼ1゛l に維持されることになる。又、絞り板1
に加熱rd流が供給される期間は、電子ビームのブラン
キング期間であり、該電流の供給によって発生した磁場
が電子ビームの照射に悪影響を与えることはない。
以上本発明の一実施例を詳述したが、本発明はこの実施
例に限定されることなく幾多の変形が可能である。例え
ば、絞り板にヒータを埋め込むようにしたが、絞り板目
体を高抵抗物質で形成し、絞り板目体に加熱電流を流す
ことによって絞り板の加熱を行っても良い。又、加熱電
流値を一定としたが、絞り板の温度に応じて加熱電流強
度を変化させても良い。
[効果] 以上詳述したように、本発明においては、電子ビームの
ブランキング期間のみ絞り板の加熱電流を流すようにし
またので、電子ビームが不正に偏向されたり、集束に悪
影響を与えることなく、絞り板を汚れが付着しないよう
に加熱することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の要部を示す図、第2図は第
1図の装置の信号波形を示す図である。 1・・・絞り板    2・・・ブランキング電極3・
・・加熱型R4・・・スイッチ 5・・・温度検出回路 6・・・比較回路7・・・基準
信号源  8・・AND回路9・・・ブランキング信号
源 10・・・増幅器

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)電子ビームの通過を制限する絞り板を備えた電子
    ビーム装置において、該絞り板を加熱する手段と、該加
    熱手段の電源と、該絞り板の開口を通過する電子ビーム
    をブランキングする手段と、該絞り板の温度を検出する
    検出手段と、該検出手段からの検出信号と基準温度信号
    とを比較する比較回路と、該比較回路からの信号と該ブ
    ランキング信号とに基づいて、該検出信号強度が該基準
    温度信号強度以下となった期間と電子ビームのブランキ
    ング期間が一致した期間のみ該電源から該加熱手段に電
    流を供給するように制御する制御回路とを備えた電子ビ
    ーム装置。
JP22622788A 1988-09-09 1988-09-09 電子ビーム装置 Pending JPH0274026A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22622788A JPH0274026A (ja) 1988-09-09 1988-09-09 電子ビーム装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22622788A JPH0274026A (ja) 1988-09-09 1988-09-09 電子ビーム装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0274026A true JPH0274026A (ja) 1990-03-14

Family

ID=16841885

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22622788A Pending JPH0274026A (ja) 1988-09-09 1988-09-09 電子ビーム装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0274026A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013012454A (ja) * 2010-09-16 2013-01-17 Jfe Steel Corp 電子線を用いた顕微鏡あるいは分析装置用の試料加熱ホルダー、およびそれを用いた試料加熱方法
WO2013038910A1 (ja) * 2011-09-14 2013-03-21 Jfeスチール株式会社 電子線を用いた顕微鏡あるいは分析装置用の試料加熱ホルダー、およびそれを用いた試料加熱方法
JP2014175573A (ja) * 2013-03-12 2014-09-22 Nuflare Technology Inc 荷電粒子ビーム描画装置、アパーチャユニット及び荷電粒子ビーム描画方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013012454A (ja) * 2010-09-16 2013-01-17 Jfe Steel Corp 電子線を用いた顕微鏡あるいは分析装置用の試料加熱ホルダー、およびそれを用いた試料加熱方法
WO2013038910A1 (ja) * 2011-09-14 2013-03-21 Jfeスチール株式会社 電子線を用いた顕微鏡あるいは分析装置用の試料加熱ホルダー、およびそれを用いた試料加熱方法
JP2014175573A (ja) * 2013-03-12 2014-09-22 Nuflare Technology Inc 荷電粒子ビーム描画装置、アパーチャユニット及び荷電粒子ビーム描画方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100241995B1 (ko) 하전입자빔 노광장치
KR930007369B1 (ko) 집속 이온빔 처리장치 및 그의 사용방법
US4423305A (en) Method and apparatus for controlling alignment of an electron beam of a variable shape
JPH0523015B2 (ja)
JPH0274026A (ja) 電子ビーム装置
JP4301724B2 (ja) 電子ビーム露光装置及び電子レンズ
JPH0234415B2 (ja)
JPH03134944A (ja) 電子線装置
JPH0353439A (ja) 電子光学鏡筒
JP2000260382A (ja) 荷電粒子ビーム装置
JP2863558B2 (ja) 集束イオンビーム装置の電荷中和装置
JP3649008B2 (ja) 電子線装置
JP4535602B2 (ja) 電子ビーム露光装置及び電子レンズ
JPH0587014B2 (ja)
JP3455005B2 (ja) 荷電ビーム露光装置
JPS62229645A (ja) 集束イオンビ−ム装置
JPH05304080A (ja) 荷電粒子ビーム描画方法
JPH04522Y2 (ja)
JPS6231488B2 (ja)
JPS59201416A (ja) 荷電粒子線ブランキング装置
JPH11250843A (ja) 集束イオンビーム装置
JPH03261057A (ja) 荷電粒子ビーム装置
JPS62219445A (ja) 電子線装置
JP2003323858A (ja) 電子ビーム処理装置及び電子ビーム形状測定方法
JPS5922369B2 (ja) 電子線描画装置