JPH0271566A - Mos型fetゲート駆動用太陽電池アレイ - Google Patents
Mos型fetゲート駆動用太陽電池アレイInfo
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- JPH0271566A JPH0271566A JP62334937A JP33493787A JPH0271566A JP H0271566 A JPH0271566 A JP H0271566A JP 62334937 A JP62334937 A JP 62334937A JP 33493787 A JP33493787 A JP 33493787A JP H0271566 A JPH0271566 A JP H0271566A
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- cell array
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- mos type
- silicon semiconductor
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- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/548—Amorphous silicon PV cells
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光によって太陽電池が生成する起電力をMO
S型FETのゲートに入力して、該MOS型FETを駆
動する半導体リレーに用いられるMOS型FETゲート
駆動用太陽電池アレイに関するものである。
S型FETのゲートに入力して、該MOS型FETを駆
動する半導体リレーに用いられるMOS型FETゲート
駆動用太陽電池アレイに関するものである。
〔従来の技術]
従来より、MOS型FETを利用した半導体リレーが存
在し、その基本構造の簡略回路図を第8図に示す。
在し、その基本構造の簡略回路図を第8図に示す。
即ち、20は発光ダイオード(以下、LEDと称す)で
あり、このLED20は制御回路21による制御電流に
よって発光するものである。
あり、このLED20は制御回路21による制御電流に
よって発光するものである。
22は太陽電池であり、LED20の光を受けて出力電
圧を発生ずる。
圧を発生ずる。
この太陽電池22の出力電圧は、MOS型FET23の
ゲート電圧として与えられ、MOS型FET23はこれ
によって、ソース−ドレイン間をオン・オフさせるもの
である。
ゲート電圧として与えられ、MOS型FET23はこれ
によって、ソース−ドレイン間をオン・オフさせるもの
である。
但し、24は放電抵抗である。
ここで、太陽電池22として用いられるものとしては、
例えば、第9図に断面図を示すような構造でなるもので
ある。
例えば、第9図に断面図を示すような構造でなるもので
ある。
即ち、多結晶または単結晶系のシリコン半導体基板25
に酸化絶縁膜26を形成して個々のセルを独立させ、こ
こに、単結晶または多結晶系のp型シリコン半導体層2
7、n型シリコン半導体層28等を積層させ、隣合うセ
ルを直列に接続してなるものである。
に酸化絶縁膜26を形成して個々のセルを独立させ、こ
こに、単結晶または多結晶系のp型シリコン半導体層2
7、n型シリコン半導体層28等を積層させ、隣合うセ
ルを直列に接続してなるものである。
[発明が解決しようとする問題点]
このような半導体リレーに用いられる太陽電池にあって
は、結晶系のシリコン半導体を使用しているために、ま
ず、酸化絶縁膜26を形成してセルを分離する必要があ
り、また、多数のマスクパターンを使用して、半導体層
を形成する必要がある為、その製作工程が複雑で、集積
化が困難であり、薄膜のものを形成し難く、コストの高
いものであるという問題点を有する。
は、結晶系のシリコン半導体を使用しているために、ま
ず、酸化絶縁膜26を形成してセルを分離する必要があ
り、また、多数のマスクパターンを使用して、半導体層
を形成する必要がある為、その製作工程が複雑で、集積
化が困難であり、薄膜のものを形成し難く、コストの高
いものであるという問題点を有する。
〔問題点を解決するための手段]
本発明は上記問題点に濫みて、発光ダイオードの光によ
って起電力を生成する太陽電池と、該太陽電池の出力電
圧がゲートに供給されるMOS型FETと、を有する半
導体リレーに用いられ、多数段直列に接続された非晶質
シリコン系半導体セルでなるMOS型FETゲート駆動
用太陽電池アレイを構成するものである。
って起電力を生成する太陽電池と、該太陽電池の出力電
圧がゲートに供給されるMOS型FETと、を有する半
導体リレーに用いられ、多数段直列に接続された非晶質
シリコン系半導体セルでなるMOS型FETゲート駆動
用太陽電池アレイを構成するものである。
本発明は、上述のような構成からなり、非晶質シリコン
系半導体セルが多数段直列に接続された太陽電池アレイ
の出力電圧がMOS型FETのゲート電圧として供給さ
れて半導体リレーを構成するものである。
系半導体セルが多数段直列に接続された太陽電池アレイ
の出力電圧がMOS型FETのゲート電圧として供給さ
れて半導体リレーを構成するものである。
本発明の詳細を図示した実施例に基づいて説明する。
第1図、第2図はそれぞれ、一般的に用いられている太
陽電池アレイの説明用斜視図である。
陽電池アレイの説明用斜視図である。
即ち、■は太陽電池の受光面側に配設されるガラス等の
透明材料からなる絶縁基板である。
透明材料からなる絶縁基板である。
この絶縁基板1の上に、インジウム−錫酸化物(以下、
ITOと称す)または二酸化錫(以下、SnO2と称す
)等の透明導電膜からなる下部電極2、非晶質シリコン
半導体層3、アルミニウム等の金属成分でなる上部電極
4を順次積層したものである。
ITOと称す)または二酸化錫(以下、SnO2と称す
)等の透明導電膜からなる下部電極2、非晶質シリコン
半導体層3、アルミニウム等の金属成分でなる上部電極
4を順次積層したものである。
この逆に受光面と荷設する面側から絶縁基板、下部電極
、非晶質シリコン半導体層、下部電極を積層させて、絶
縁基板の反対側を受光面としたものであっても同様であ
る。
、非晶質シリコン半導体層、下部電極を積層させて、絶
縁基板の反対側を受光面としたものであっても同様であ
る。
第1図、第2図のいずれの場合も、隣合う単位セル5の
下部電極2及び上部電極4を接続して、複数の単位セル
5を直列に接続するものであるが、第1図の場合には、
単位セル5の長さ方向の先端部に下部電極2及び上部電
極4を引き出して接続しており、第2面の場合は単位セ
ル5の長さ方向側面において接続している。
下部電極2及び上部電極4を接続して、複数の単位セル
5を直列に接続するものであるが、第1図の場合には、
単位セル5の長さ方向の先端部に下部電極2及び上部電
極4を引き出して接続しており、第2面の場合は単位セ
ル5の長さ方向側面において接続している。
例えば、第2図に示した太陽電池アレイの集積部分の断
面構造を第3図に示す。
面構造を第3図に示す。
即ち、当該太陽電池アレイの受光面側に設けられる絶縁
基板1上に下部電極2が設けられ、小面積の単位セルに
対応して、エツチングまたはレーザービーム等によって
分離される。
基板1上に下部電極2が設けられ、小面積の単位セルに
対応して、エツチングまたはレーザービーム等によって
分離される。
この上に、グロー放電分解法等で非晶質シリコン系半導
体N3が積層され、これも透明電極2と同様に小面積の
単位セル毎にレーザービーム等で分離される。
体N3が積層され、これも透明電極2と同様に小面積の
単位セル毎にレーザービーム等で分離される。
更に、上部電極4を電子ビーム蒸着等によって形成し、
化学エツチング等により各単位セル毎に分離する。
化学エツチング等により各単位セル毎に分離する。
このようにした太陽電池アレイは、非晶質シリコン半導
体を用いているから、製作が容易であり、またコストの
低いものを提供することが可能となるが、更にエネルギ
ー変換効率を高めるために第4図に断面図を示すような
ものを用いる。
体を用いているから、製作が容易であり、またコストの
低いものを提供することが可能となるが、更にエネルギ
ー変換効率を高めるために第4図に断面図を示すような
ものを用いる。
即ち、非晶質半導体層3の受光面側から、p型アモルフ
ァスシリコンカーバイド3a、 i型アモルファスシ
リコン3b、 n型アモルファスシリコン3Cの順に積
層させたPINヘテロ接合型の非晶質シリコン半導体層
を用いる。
ァスシリコンカーバイド3a、 i型アモルファスシ
リコン3b、 n型アモルファスシリコン3Cの順に積
層させたPINヘテロ接合型の非晶質シリコン半導体層
を用いる。
このような太陽電池アレイを用いてMOS型電界効果ト
レンジスタ(以下MOS型FETと称す)を駆動するの
であるが、この時の簡略回路図を第5図に示す。
レンジスタ(以下MOS型FETと称す)を駆動するの
であるが、この時の簡略回路図を第5図に示す。
6はLEDであり、このLED6は制御卸回路7の制御
電流に基づいて発光するものである。
電流に基づいて発光するものである。
8はリレー回路であり、このリレー回路8には前記LE
D6の光を受けて起電力を発生する太陽電池9と、該太
陽電池9の出力電圧がゲート電圧として与えられるMO
S型FETl0とを含むものである。
D6の光を受けて起電力を発生する太陽電池9と、該太
陽電池9の出力電圧がゲート電圧として与えられるMO
S型FETl0とを含むものである。
但し、11は放電抵抗である。
制御回路7内に制御電流が発生して、LED6が発光し
たとき、この光を受けた太陽電池9は起電力を発生し、
この太陽電池9の出力電圧はMOS型FETl0のゲー
ト電圧として与えられているから、MOS型FETl0
はオンする。
たとき、この光を受けた太陽電池9は起電力を発生し、
この太陽電池9の出力電圧はMOS型FETl0のゲー
ト電圧として与えられているから、MOS型FETl0
はオンする。
LED6が消灯した時には、太陽電池9に並列に接続さ
れた放電抵抗11によって放電されて、MOS型FET
l0はオフする。
れた放電抵抗11によって放電されて、MOS型FET
l0はオフする。
このようにして、MOS型FETl0は太陽電池9の出
力電圧によってオン・オフするが、一般的なMOS型F
ETがオンするゲート電圧は、3〜4■以上であり、非
晶質シリコン半導体でなる太陽電池の単位セル当たりの
起電力が0.5■であれば、6個の単位セルを直列に接
続すれば、3■の電圧が得られ、MOS型FETのゲー
トを駆動するに充分であると考えられる。
力電圧によってオン・オフするが、一般的なMOS型F
ETがオンするゲート電圧は、3〜4■以上であり、非
晶質シリコン半導体でなる太陽電池の単位セル当たりの
起電力が0.5■であれば、6個の単位セルを直列に接
続すれば、3■の電圧が得られ、MOS型FETのゲー
トを駆動するに充分であると考えられる。
第6図は本発明に係るMOS型FETゲート駆動用太陽
電池アレイの作成例の説明用平面図である。
電池アレイの作成例の説明用平面図である。
即ち、3m[Il×4ffII11の大きさでなる絶縁
基板1上に、単位セル5を24個直列になるように作成
したもので、互いに隣合う単位セルの下部電極2と上部
電極4は、電極接続部I2において直列に接続されてい
る。
基板1上に、単位セル5を24個直列になるように作成
したもので、互いに隣合う単位セルの下部電極2と上部
電極4は、電極接続部I2において直列に接続されてい
る。
また、直列接続の両端に位置する単位セルにおいては、
下部電極取り出し部13及び上部電極取り出し部14に
よって、全体の電極部を形成している。
下部電極取り出し部13及び上部電極取り出し部14に
よって、全体の電極部を形成している。
この太陽電池アレイを利用して、第5図のような回路を
形成し、LED6として0.5mW/cmを照射し、放
電抵抗11としてIMΩを接続した場合、太陽電池9は
IOV以上の出力電圧が得られ、MOS型FETl0は
極めて良好に動作した。
形成し、LED6として0.5mW/cmを照射し、放
電抵抗11としてIMΩを接続した場合、太陽電池9は
IOV以上の出力電圧が得られ、MOS型FETl0は
極めて良好に動作した。
図例のものは、単位セルを24個直列に接続したもので
あるが、絶縁基板1上における配列等は任意であり、ま
た、少なくとも6段以上の直列接続であれば、MOS型
FETl0が良好に動作するものであるため、この6段
以上であれば段数も任意に選択することができるもので
ある。
あるが、絶縁基板1上における配列等は任意であり、ま
た、少なくとも6段以上の直列接続であれば、MOS型
FETl0が良好に動作するものであるため、この6段
以上であれば段数も任意に選択することができるもので
ある。
第7図は本発明に係るMOS型FETゲート駆動用太陽
電池アレイの他の作成例の説明用断面図である。
電池アレイの他の作成例の説明用断面図である。
即ち、受光面側に配されるガラス等の透明材料からなる
絶縁基板1上に、ITOまた5nC)+等の透明導電膜
からなる下部電極2を形成する。
絶縁基板1上に、ITOまた5nC)+等の透明導電膜
からなる下部電極2を形成する。
更に、単位セル5を形成する非晶質シリコン半導体層3
a、3b、3cを積層するが、この非晶質シリコン半導
体層は、例えば、第4図に示したように受光面側からp
型アモルアスシリコンカーバイドa a s i型ア
モルファスシリコン3b、 n型アモルファスシリコン
3cを積層したPINへテロ接合型の非晶質シリコン半
導体層を用いる。
a、3b、3cを積層するが、この非晶質シリコン半導
体層は、例えば、第4図に示したように受光面側からp
型アモルアスシリコンカーバイドa a s i型ア
モルファスシリコン3b、 n型アモルファスシリコン
3cを積層したPINへテロ接合型の非晶質シリコン半
導体層を用いる。
このようにした非晶質シリコン半導体層3に更に同様の
非晶質シリコン半導体層3を積層し、単位セル5が12
段直列に接続するように、非晶質シリコン半導体層3を
積層する。
非晶質シリコン半導体層3を積層し、単位セル5が12
段直列に接続するように、非晶質シリコン半導体層3を
積層する。
この12段直列に接続した非晶質シリコン半導体層3の
受光面と荷設する面に、アルミニウム等の金属成分でな
る上部電極4を形成し、12段直列に接続した非晶質シ
リコン半導体層3の起電力を取り出すものである。
受光面と荷設する面に、アルミニウム等の金属成分でな
る上部電極4を形成し、12段直列に接続した非晶質シ
リコン半導体層3の起電力を取り出すものである。
図例のものは、単位セル5を12段直列に接続したもの
を2連接続して、第6図に示した単位セル24個を直列
に接続したものと同様の出力電圧を得るものである。
を2連接続して、第6図に示した単位セル24個を直列
に接続したものと同様の出力電圧を得るものである。
第7図に示したようなMOS型FETゲート駆動用太陽
電池アレイにあっては、第6図に示すものに比して、小
さな面積で同様の電力を得られる為、装置の小型化を図
ることが可能となるものである。
電池アレイにあっては、第6図に示すものに比して、小
さな面積で同様の電力を得られる為、装置の小型化を図
ることが可能となるものである。
4゜
本発明に係るMOS型FETゲート駆動用太陽電池アレ
イは上述のような構成からなり、非晶質シリコン系半導
体層を用いているため、その作成が容易であり、またコ
ストの低いものを提供することが可能となるものである
。
イは上述のような構成からなり、非晶質シリコン系半導
体層を用いているため、その作成が容易であり、またコ
ストの低いものを提供することが可能となるものである
。
また、集積化が容易に行えるために、多数段の直列接続
を行うことが可能であり、MOS型FETのゲート電圧
を供給するに充分な太陽電池アレイを容易に作成するこ
とができるものである。
を行うことが可能であり、MOS型FETのゲート電圧
を供給するに充分な太陽電池アレイを容易に作成するこ
とができるものである。
更に、非晶質シリコン系半導体層を利用しているので、
積層体が薄型に形成することが可能となり、当該太陽電
池アレイが組み込まれる半導体リレー等の形状を小型化
することが可能となるものである。
積層体が薄型に形成することが可能となり、当該太陽電
池アレイが組み込まれる半導体リレー等の形状を小型化
することが可能となるものである。
第1図、第2図は本発明に係るMOS型FETゲート駆
動用太陽電池アレイの説明用斜視図、第3図は本発明に
係るMOS型FETゲート駆動用太陽電池アレイの説明
用断面図、第4図は本発明に係るMOS型FETゲート
駆動用太陽電池アレイの説明用断面図、第5図は本発明
に係るMOS型FETゲート駆動用太陽電池アレイが用
いられる半導体リレーの簡略回路図、第6図は本発明に
係るMOS型FETゲート駆動用太陽電池アレイの作成
例の説明用平面図、第7図は本発明に係るMOS型FE
Tゲート駆動用太陽電池アレイの他の作成例の説明用断
面図、第8図は従来例の簡略回路図、第9図は従来例の
説明用断面図である。 1 : 3 : 4 : 6 : 8 : 10: 12: 13: 14: 絶8!基板、 2:下部電極、非晶質シリ
コン半導体層、 上部電極、 5:単位セル、LED、
7:制御回路、リレー回路、 9
;太陽電池、MOS型FET、 tl:放電抵抗
、電極接続部、 下部電極取り出し部、 上部電極取り出し部。 第1図 ら 第 図 第2図 第 図 第 図 第 図
動用太陽電池アレイの説明用斜視図、第3図は本発明に
係るMOS型FETゲート駆動用太陽電池アレイの説明
用断面図、第4図は本発明に係るMOS型FETゲート
駆動用太陽電池アレイの説明用断面図、第5図は本発明
に係るMOS型FETゲート駆動用太陽電池アレイが用
いられる半導体リレーの簡略回路図、第6図は本発明に
係るMOS型FETゲート駆動用太陽電池アレイの作成
例の説明用平面図、第7図は本発明に係るMOS型FE
Tゲート駆動用太陽電池アレイの他の作成例の説明用断
面図、第8図は従来例の簡略回路図、第9図は従来例の
説明用断面図である。 1 : 3 : 4 : 6 : 8 : 10: 12: 13: 14: 絶8!基板、 2:下部電極、非晶質シリ
コン半導体層、 上部電極、 5:単位セル、LED、
7:制御回路、リレー回路、 9
;太陽電池、MOS型FET、 tl:放電抵抗
、電極接続部、 下部電極取り出し部、 上部電極取り出し部。 第1図 ら 第 図 第2図 第 図 第 図 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)発光ダイオードの光によって起電力を生成する太陽
電池と、 該太陽電池の出力電圧がゲートに供給されるMOS型F
ETと、 を有する半導体リレーに用いられ、多数段直列に接続さ
れた非晶質シリコン系半導体セルでなるMOS型FET
ゲート駆動用太陽電池アレイ。 2)非晶質シリコン系半導体セルが、6段以上直列に接
続されてなる特許請求の範囲第1項記載のMOS型FE
Tゲート駆動用太陽電池アレイ。 3)非晶質シリコン系半導体セルが、アモルファスシリ
コンカーバイド層を含むヘテロ接合である特許請求の範
囲第1項または第2項記載のMOS型FETゲート駆動
用太陽電池アレイ。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62334937A JPH0271566A (ja) | 1987-10-28 | 1987-12-28 | Mos型fetゲート駆動用太陽電池アレイ |
EP19890900913 EP0347471A4 (en) | 1987-12-28 | 1988-12-26 | Solar cell array for driving mosfet gates |
PCT/JP1988/001330 WO1989006439A1 (en) | 1987-12-28 | 1988-12-26 | Solar cell array for driving mosfet gates |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62-274018 | 1987-10-28 | ||
JP27401887 | 1987-10-28 | ||
JP62334937A JPH0271566A (ja) | 1987-10-28 | 1987-12-28 | Mos型fetゲート駆動用太陽電池アレイ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0271566A true JPH0271566A (ja) | 1990-03-12 |
Family
ID=26550863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62334937A Pending JPH0271566A (ja) | 1987-10-28 | 1987-12-28 | Mos型fetゲート駆動用太陽電池アレイ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0271566A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100341157C (zh) * | 2002-08-07 | 2007-10-03 | 伊斯曼柯达公司 | 包括一组有机发光器件的有机发光设备 |
WO2010022214A1 (en) * | 2008-08-21 | 2010-02-25 | Applied Materials, Inc. | Selective etch of laser scribed solar cell substrate |
JP2018521508A (ja) * | 2016-03-28 | 2018-08-02 | エルジー・ケム・リミテッド | 有機太陽電池モジュール及びその製造方法 |
US10483376B1 (en) | 2015-11-09 | 2019-11-19 | Unisantis Electronics Singapore Pte. Ltd. | Method for producing a semiconductor device |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5613779A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-10 | Shunpei Yamazaki | Photoelectric converter and its preparation |
JPS61198917A (ja) * | 1984-11-21 | 1986-09-03 | テルモス・インコ−ポレイテツド | 光起電デバイス |
-
1987
- 1987-12-28 JP JP62334937A patent/JPH0271566A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5613779A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-10 | Shunpei Yamazaki | Photoelectric converter and its preparation |
JPS61198917A (ja) * | 1984-11-21 | 1986-09-03 | テルモス・インコ−ポレイテツド | 光起電デバイス |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100341157C (zh) * | 2002-08-07 | 2007-10-03 | 伊斯曼柯达公司 | 包括一组有机发光器件的有机发光设备 |
WO2010022214A1 (en) * | 2008-08-21 | 2010-02-25 | Applied Materials, Inc. | Selective etch of laser scribed solar cell substrate |
US10483376B1 (en) | 2015-11-09 | 2019-11-19 | Unisantis Electronics Singapore Pte. Ltd. | Method for producing a semiconductor device |
JP2018521508A (ja) * | 2016-03-28 | 2018-08-02 | エルジー・ケム・リミテッド | 有機太陽電池モジュール及びその製造方法 |
JP2020031231A (ja) * | 2016-03-28 | 2020-02-27 | エルジー・ケム・リミテッド | 有機太陽電池モジュール及びその製造方法 |
US10847724B2 (en) | 2016-03-28 | 2020-11-24 | Lg Chem, Ltd. | Organic solar cell module and method for manufacturing same |
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