JPH0268548A

JPH0268548A - 感光材料処理装置

Info

Publication number: JPH0268548A
Application number: JP22179988A
Authority: JP
Inventors: Takashi Nakamura; 敬中村
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1988-09-05
Filing date: 1988-09-05
Publication date: 1990-03-08

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〈産業上の利用分野〉本発明は、例えば感光材料に湿式現像、漂白・定着のよ
うな処理を施すための感光材料処理装置に関するもので
ある。

〈従来の技術〉感光材料の湿式現像は、処理槽内に満たされた処理液（
例えば現像液）中に感光材料を所定時間漬浸することに
よって行われる。

感光材料を連続的に処理する感光材料処理装置では、処
理槽内おける処理液の液面レベルが一定であるのが好ま
しいが、実際には、次のような要因から、処理槽内の処
理液の量は増減している。

即ち、処理液の減少要因としては、感光材料による処理
液の持ち出し、処理液の蒸発等があり、処理液の増加要
因としては、処理液の供給、前段工程からの処理液の持
ち込み等がある。

特に、処理液の供給は処理槽内の新鮮な処理液を供給し
、劣化した処理液と置換することにより適正な処理を維
持するという点で必須であるが、その供給量は、処理液
の持ち出しおよび蒸発による減少量に比べて多いため、
処理槽内の液面レベルは増加する傾向にある。

このように液面レベルが増加の一途をたどれば、処理槽
上方の開放部から処理液が溢れ出し、その処理液が隣接
する異種処理液の処理槽内へ混入してその処理槽での処
理に悪影響を及ぼし、あるいはその他の箇所へ流れ出し
て、汚損する等の問題を生じる。

従って、処理液の液面レベルを一定に保つ方法として、
液面レベルを一定に保つように処理液の供給量を制御す
る方法がギえられている。

しかるに、この方法では、処理槽内の処理液量を一定に
保つことが優先されるため、処理液の劣化が著しい場合
には、新鮮な処理液が十分に供給されず、上述した処理
液供給の本来の目的が十分に達成されないことがある。

〈発明が解決しようとする課題〉本発明は、このような従来技術の欠点に鑑みてなされた
もので、処理液の供給量を制御することなく、処理槽内
の処理液液面を一定レベルに維持することができる感光
材料処理装置を提供することを目的とする。

〈課題を解決するための手段〉このような目的は、以下の本発明により達成される。

即ち、本発明は、処理槽内に処理液を供給しつつ該処理
槽内に感光材料を搬送して、感光材料の処理を行う感光
材料処理装置であって、排液量の調整により前記処理槽
内の処理液の液面レベルを一定に保つように構成したこ
とを特徴とする感光材料処理装置である。

ここで、前記排液量の調整は、前記処理槽の常用液面か
らの自然溢流によって行われるものであるのが好ましい
。

または、前記排液量の調整は、前記処理槽内の液面レベ
ルを検出し、これに基いて制御することによって行われ
るものであるのが好ましい。

また、前記処理槽内の処理液の液面に浮上してこの液面
を覆い得る手段を有するものであるのが好ましい。

〈作　用〉この構成に基く本発明の作用は、処理槽内に処理液を供
給しつつ処理を行う感光材料処理装置において、処理槽
内に供給された処理液によって処理液液面が所定の液面
レベルを超える状態になった際に、余剰の処理液を、処
理槽から自動的にオーバーフローさせ、または、排液ポ
ンプ手段によって自動的に処理槽外へ排出し、あるいは
、電磁弁手段を開路することにより自動的に自然放流さ
せるようにして、処理槽内の処理液液面を常に一定の液
面レベルに維持するようにしたことにある。

〈実施例〉以下、本発明を添付図面に示す各実施例に基いて詳細に
説明する。

なお、図示の各実施例に係る感光材料処理装置ＩＡ〜Ｉ
Ｄは、例えばシート状の感光材料１００の現像処理、漂
白・定着処理および水洗処理を行うための並設された複
数個の処理槽を有するが、説明をより簡明にするために
、図中での処理槽の記載は１個のみとする。

第１図において、本発明の一構成例である感光材料処理
装置ＩＡは、処理槽１０を有し、該処理槽１０内には、
所定の処理液２が所定の液面レベルまで満たされている
。　この処理液２は、感光材料の処理の種類により決定
されるもので、例えば現像液、漂白・定着液、安定液、
反転液、洗浄水等が挙げられる。

そして、この処理槽１０の対向する一対の側壁１１．１
２には、それぞれ前段工程（図示せず）から搬送されて
来た感光材料１００をこの処理槽１０内に導入するため
の搬入通路１３および処理済の感光材料１００を槽外へ
搬出するための搬出通路１４が設けられている。

この場合、搬入通路１３と搬出通路１４とは、それぞれ
の側壁１１および１２から上向きに傾斜して突出する中
空構造のものとして形成され、しかも、それぞれの先端
側開口１３ａ、１４ａが処理液２の常用液面（処理中に
維持される液面の平均レベル）より上方に位置し、かつ
、それぞれの基端側開口１３ｂ、１４ｂが常用液面より
下方に位置するように構成されている。

なお、前記搬入通路１３および搬出通路１４の断面形状
、開口面積等は、通過する感光材料１００の種類、サイ
ズ（幅、厚さ）、柔軟性等の性状等に応じて適宜決定さ
れるが、例えば、感光材料１００が幅３５ｍｍのフィル
ムである場合には、各通路１３．１４の開口の横断面は
、幅が４０〜５０ｍｍ、厚さが１〜２０ｍｍの矩形、ま
たは、短径が５ｍｍ程度、長径が４０ｍｍ程度の楕円形
とされる。

そして、搬入通路１３の先端側聞口１３ａの近傍位置お
よび搬出通路１４の先端側聞口１３ａの近傍位置には、
それぞれクロスオーバローラ１５および１９が設置され
、これらのクロスオーバローラ１５．１９によりて、前
段工程から搬送されて来た感光材料１００を搬入通路１
３へ案内し、また、搬出通路１４を出た処理済の感光材
料１００を後段工程へ搬送する。

一方、処理槽１０には、処理液２中に漬浸して槽内搬送
手段１６が設置されている。

この槽内搬送手段１６は、処理槽１０内における感光材
料１００を搬送経路（槽内搬送経路）１７に沿って進行
させるための複数の搬送ローラ１６ａと、槽内の上下位
置において、感光材料１００の進行方向を反転させるた
めの上側及び下側の搬送方向反転手段１６ｂ、１６ｃと
を有する。

なお、クロスオーバローラ１５．１９および槽内の各搬
送ローラ１６ａは、例えば、円筒面にゴム等の弾性材料
が被覆された単位ローラによるローラ対のような、一般
に用いられているものが適用される。

また、両方の搬送方向反転手段１６ｂ、１６ｃは、例え
ば、感光材料１００に機械的かつ物理的な害を与えない
ような曲率半径の案内ローラと、その周囲に沿って円弧
状に湾曲する反転ガイドとで構成される。

従って、前段工程からクロスオーバローラ１５を経て搬
送されて来る感光材料１００は、先端側聞口１３ａから
搬入通路１３を通って処理槽１０内に搬入され、槽内搬
送手段１６によって処理槽１０内を槽内搬送経路１７に
沿って進行し、搬出通路１４の基端側開口１４ａから搬
出通路１４を経て搬出側のクロスオーバローラ１９に至
る。

また、処理槽１０の底壁のほぼ中央には、後述する処理
液供給手段２０によって供給される新しい処理液２を槽
内へ受入れるための処理液供給用開口１８が形成されて
いる。

この処理液供給手段２０は、適宜の処理液貯蔵タンク２
１と、このタンク２１と前記処理槽１０側の供給用開口
１８との間を連通ずる導液管２２と、との導液管２２の
途中に設けられた適宜の送液ポンプ２３と、処理作業中
に処理槽１０内に処理液２を補充するため、例えば感光
材料処理装置ＩＡの始動と同時に送液ポンプ２３を作動
せしめるポンプ駆動回路２４とから構成される。

一方、処理槽１０内の上部開放部付近には、処理液２の
液面を大気から遮断するための遮蔽手段が設けられてい
る。

この遮蔽手段は、処理液の液面が開放していることに伴
う、処理液の蒸発、液温低下、変質（酸化）または処理
槽２内へのゴミ、塵の侵入を防止するための対策として
設けられたものであり、例えば、処理槽１０内の処理液
液面の全面を実質的に覆う浮蓋３０Ａとして構成されて
いる。

そして、その構造及び材料としては、 ■　処理液２に対して浮力を有し、かつ、処理槽１０の
内周壁面に対し僅かな間隙（上記の効果を妨げるには至
らない程度に小さい間隙）を有する状態で処理液２の液
面に浮び、 ■　前記処理液２との接触に対して化学的に安定であり
、特に処理液に溶出してその処理性に悪影響を及ぼすこ
とがなく、 ■　気体および液体不透過性を有する。

という条件を満たすものであれば、剛性体でも、可撓性
体でも、弾性体でも、また、これらの中空体であっても
よい。

なお、処理液２の交換、清掃等の理由によって浮蓋３０
Ａが搬入通路１３および搬出通路１４よりも下方に下る
ことも考えられるため、このような場合でも、浮蓋３０
Ａが感光材料１００、槽内搬送手段１６等と接触するこ
とがないように、これらの通路１３．１４より上方の側
壁１１および１２に、浮、１ｉ３０Ａを係止し得るスト
ッパ３１．３２を設置するのが好ましい。

しかして、処理槽１０の第１図中左一方の側壁１１には
、搬入通路１３の下面に沿う形で、上に向って凸状に湾
曲した中空形状の排液通路５０が設けられている。

これは、処理液２の常用液面を決定しつるもので、第２
図に拡大して示すように、その湾曲部５１に位置する通
路底面５１ａは処理液２の常用液面とほぼ同じ高さに設
定され、その上方箇所には通気孔５２が形成されている
。

一方、この通路５０の排出開口５３は常用液面より下方
に、また、通路５０の内側開口５４は搬入通路１３の基
端側聞口１３ｂより下方に位置するように、それぞれ設
定される。

なお、排出開口５３側の通路を図の二点鎖線のように下
方に延長し、このときの延長排出開口５５に対向する箇
所に処理液回収タンク５６を設けるようにすることもで
きる。

次に、この第１図に示す構成の感光材料処理装置ＩＡの
動作を説明する。

前段工程からクロスオーバローラ１５を経て搬送されて
来た感光材料１００は、搬入通路１３を通って処理槽１
０内に搬入され、浮蓋３０Ａで全面を覆われた処理液２
中を搬送経路１７に沿って所定の速度で進行し、処理が
なされる。　その後感光材料１００は、搬出通路１４を
通って処理槽１０の外へ搬出され、クロスオーバローラ
１９を経て後段工程に導かれる。

一方、駆動回路２４により送液ポンプ２３を作動させ、
新鮮な処理液が貯蔵された処理液貯蔵タンク２１から、
導液管２２を通じて供給用開口１８より処理槽１０内へ
処理液２を供給する。　このときの処理液２の供給量は
、処理液の減少量（処理液の持ち出し等によるもの）以
上であって、適正な処理を行うのに必要かつ十分な量と
する。

なお、このような処理液の供給は、前記感光材料の処理
作業の開始と同時に行うのが好ましい。

このような処理液の供給により、処理液液面は上昇しよ
うとするが、その液面が排液通路５０に形成された湾曲
部５１の通路底面５１ａを超えた時点で、余剰の処理液
２が溢流し、排出開口５３側へ流れ、そこから槽外に排
出される。

なお、湾曲部５１内に処理液２が充満した場合でも、通
気孔５２より湾曲部５１内に空気が流入し、処理液が排
出開口５３側へ流下するのを妨げない。

また、排出された処理液２を延長排出開口５５から処理
液回収タンク５６に回収するように構成した場合には、
処理液２の廃棄、再使用または再生使用が容易に可能と
なる。

このようにして、処理槽１０内の処理液液面は常に一定
に保たれ、また、感光材料１００は常に新鮮な処理液２
によって処理されることになる。

しかも、処理槽１０内の処理液２は、その液面が大気か
ら遮断されるため、処理液の蒸発、液温低下および変質
、劣化を起さず、また、処理槽２内への塵等の侵入も防
止されるため、良好な処理品質を維持することができる
。

さらに、搬入通路１３および搬出通路１４が、処理槽１
０の側壁１１．１２からそれぞれ斜め上方へ突出してい
るため、隣接する合う前段工程または後段工程の処理槽
へクロスオーバする際の、感光材料１００のアーチ状の
軌跡が低いものとなり、処理槽間の距離およびクロスオ
ーバの長さが、従来のものに比べて著しく短か（なる。

第３図は、本発明の他の実施例である感光材料処理装置
ＩＢを示すものである。

この感光材料処理装置ＩＢは、処理槽１０内の処理液２
の液面付近に、大気とは遮断された中空部分（密閉空間
）３３ｂを形成すると共に、この中空部分３３ｂ内に排
液チューブ３５を設けて、ここから余剰の処理液２を排
出するように構成した排液手段を設置して、前述の排液
通路５０に代らしめたものである。

即ち、処理槽１０内の処理液２の全液面を、後述する流
体層３０Ｂのような適宜の遮蔽手段を利用して実質的に
大気から遮断すると共に、この遮蔽手段の一部に、大気
とは遮断された中空部分３３ｂを形成し、この中空部分
３３ｂの液面付近に排液チューブ３５の処理液流出端３
５ａを位置させて、常時供給される処理液２のうち、こ
の処理液流出端３５ａを超える分（余剰分）の液を、処
理液流出端３５ａから排液チューブ３５内に排出するよ
うに構成されたものである。

なお、前述の排液通路５０に係る部分以外の構成につい
ては、第１図の場合と同じであるので、図示およびその
説明は省略する。

この実施例の場合、前述の大気と遮断された中空部分３
３ｂの形成は、例えば次のような方法で実現される。

即ち、伏せた姿勢のカップ３３を、適宜の支持アーム機
構３４を用いて例えば処理槽１０の側壁１２の上端縁に
固定すると共に、カップ３３の下端開口３３ａが処理液
２の常用液面よりも下方に位置するように設定する。

そして、例えばパラフィンのような材料から成る流体を
、処理槽１０の側壁内周面に密着する状態で処理液２の
液面に浮べることにより流体層３０Ｂを形成し、これに
より処理液液面を大気から遮断する遮蔽手段を構成する
。

この結果、カップ３３の外周面は流体層３０Ｂにより囲
繞され、カップ３３の内部には、カップ３３の内壁面と
処理液液面とで区切られた密閉空間３３ｂが形成される
。

一方、前記排液チューブ３５は、その上端である処理液
流出端３５ａがカップ３３内の処理液液面付近に位置す
るように、かつ、その下端３５ｂが処理槽１０の側壁１
２から槽外へ出るように設置される。　そして、第１図
に示す実施例の場合と同様に、排液チューブ３５を通じ
て排出された処理液は、例えば処理液回収タンク５６に
回収されるように構成される。

なお、排液チューブ３５が側壁１２を貫通する部分には
、シール部材３６が装着され、処理液２の漏出を防止し
ている。

このように、感光材料処理装置ＩＢでは、処理液２の供
給により、カップ３３内の処理液液面が排液チューブ３
５の処理液流出端３５ａを超え場合には、その時点で、
余剰分の処理液２が処理液流出端３５ａから排液チュー
ブ３５内に流れ込み、排液チューブ３５を経てその下端
３５ｂから槽外に排出される。

このようにして、前記第１図に示すの実施例と同様の効
果を保持しつつ、処理槽１０内の処理液２の液面を一定
レベルに維持することが可能となる。

なお、流体１１！３０Ｂとしては、処理液２よりも比重
（好ましくは比重が１．０未満）が小さくて浮上するこ
とができ、この処理液２と相溶、混和せず、しかも、処
理液２と反応して感光材料１００の処理性に悪影響を及
ぼすことがなく、また、比較的粘度の高い流体（例えば
温度２０〜５０℃で５０〜５００ｃｐｓ程度）を使用す
ることが好ましい。

その具体てきな材料としては、パラフィン、シリコーン
オイル等の各種合成オイル、亜麻仁油、桐油の各種天然
オイル、トリクレジイルフォスフェート、ジブチルフェ
ノール、液晶等を挙げることができ、また、流体層３０
Ｂの厚さは、前記処理液２の蒸発、変質・劣化等を十分
に防止し得る程度のものとすればよい。

この厚さの決定は、用いる流体の種類、流体による被覆
面積等にもよるが、例えば、パラフィンの場合には０．
１〜１．０ｍｍ程度とするのがよい。　その理由は、厚
さが０．１ｍｍ未満であると、処理液２の蒸発は防止で
きるが空気中の酸素の透過性、炭酸ガスの透過性が大き
くなって、処理液２の酸化やｐＨ低下を引き起こす虞れ
があるからであり、１０ｍｍを超えると、パラフィン等
の流体が搬送ローラー等の疎水面に付着して、感光材料
１００にパラフィン付着等のトラブルが発生するからで
ある。

なお、流体層３０Ｂの代りに前述したような浮蓋または
剛体製の固定蓋を設けることも可能である。　特に、固
定蓋を設ける場合には、前述の密閉空間３３ｂに相当す
る密閉空間を、予め固定蓋の側に形成して置けばよい。

以下に説明する第４図および第５図に示す実施例は、液
面レベル検出手段を用いた制御により処理液の余剰分を
強制的に排出する例である。

なお、これらの実施例を説明するにあたり、前記第１図
に示す実施例と同様の事項については、その説明を省略
する。

第４図は、本発明の他の実施例である感光材料処理装置
ＩＣを示すものである。

この感光材料処理装置ＩＣは、処理槽１０内の処理液液
面を液面レベル検出手段７２により常時または必要時検
出し、前記と同様の処理液供給手段２０による処理液２
の供給により所定の液面レベルを超えた際に、この余剰
分の処理ｌ夜２を、排液ポンプ手段６０を用いて槽外に
排出し、処理槽１０内の処理液２の液面レベルを一定に
維持するように構成したものである。

第４図に示す感光材料処理装置ＩＣでは、処理槽１０内
の処理液２の全液面が流体層７１により覆われるように
構成され、その上方に、排液ポンプ手段６０およびフロ
ート式の液面レベル検出手段７２が設置されている。

なお、流体層７１を構成する材料および厚さ等は、前記
第３図の実施例における流体層３０Ｂと同様とする。

また、排液ポンプ手段６０は、逆ｒＵＪの字状に湾曲し
た排液管６１と、この排液管６１の途中経路に設けられ
た排液ポンプ６２とから構成される。　排液管６１は、
一端に形成された吸込み開口６１ａが流体層７１の一部
を貫通して、処理液２の常用液面より下方箇所に位置し
、他端の排出開口６１ｂが処理槽ｌｏ外に位置するよう
に設置されている。

しかして、液面レベル検出手段７２は、支点７３ａを軸
として回動する「＜」の字状の検出レバー７３と、この
レバー７３の長アームの先端に回動可能に取付けられた
フロート７４と、前記検出レバー７３の短アームの先端
付近に形成された押圧突起７５と、この押圧突起７５に
押圧されて撓む片持ちレバー式のリミットスイッチ７６
と、前述の排液ポンプ６２の作動を制御する排液制御回
路７７とから構成される。

そして、排液制御回路７７は次のように排液ポンプ６２
の作動を制御する。　即ち、■　処理液２の供給により
処理槽ｌｏ内の処理液液面が所定のレベル（常用液面）
に達し、流体層７１に浮ぶフロート７４が上昇し、検出
レバー７３が支点７３ａを中心に時計方向に回動して、
リミットスイッチ７６の接点がＯＮ状態となり、この接
点ＯＮの信号に基いて排液ポンプ６２を作動状態にして
排液を実施させ、■　処理槽１０内の処理液２が減少し
て処理液液面が所定のレベル以下となると、フロート７
４が下降し、検出レバー７３が反時計方向に回動して、
リミットスイッチ７６の接点がＯＦＦ状態となり、この
接点ＯＦＦの信号に基き排液ポンプ６２を非作動の状態
にして排液を停止させる。

ように制御する。

このように、第４図に示す感光材料処理装置ＩＣでは、
流体Ｍ７１（フロート７４　）の上下方向への変位、即
ち、リミットスィッチ７６接点のＯＮ・ＯＦＦ動作によ
り処理液２の余剰供給分を処理槽１０の外に排出するこ
とができるようになる。

このようにして、前記第１図に示す実施例と同様の効果
を保持しつつ、処理槽１ｏ内の処理液２の液面を一定レ
ベルに維持することが可能となる。

第５図は、本発明のさらに他の実施例である感光材料処
理装置ＩＤを示すものである。

この感光材料処理装置ｌＤは、処理槽ｌＯ内の処理液液
面を液面レベル検出手段８２により常時または必要時検
出し、前記と同様の処理液供給手段２０による処理液２
の供給により所定の液面レベルを超えた際に、この余剰
分の処理液２を、処理槽１０の底部付近に設置した電磁
弁付の排液手段９０により槽外に排出し、処理槽１０内
の処理液２の液面レベルを一定に維持するように構成し
た例であり、前述の排液ポンプ手段６０および液面レベ
ル検出手段７２の排液制御回路７７以外は、第４図の実
施例の構成と同様である。

この第５図の実施例の特徴である電磁付の排液手段９０
は、処理槽１０の底部付近の側壁に設けられた処理液排
出口９１と、この処理液排出口９１に連通ずる排液路９
２と、この排液路９２の途中経路に設けられた電磁弁９
３とから構成される。

そして、前記液面レベル検出手段８２の排液制御回路８
７は、 ■　処理液２の供給により処理槽ｌｏ内の処理／７！液
面が所定のレベル（常用液面）に達し、流体層７１に浮
ぶフロート８４が上昇し、検出レバー８３が支点８３ａ
を中心に時計方向に回動して、リミットスイッチ８６の
接点がＯＮ状態となり、この接点ＯＮの信号に基いて電
磁弁９３を開路状態にして排液を実施させ、■　処理槽
１０内の処理液２が減少して処理液液面が所定のレベル
以下となると、フロート８４が下降し、検出レバー８３
が反時計方向に回動して、リミットスイッチ８６の接点
がＯＦＦ状態となり、この接点ＯＦＦの信号に基き電磁
弁９３を閉路状態にして排液を停止させる。

ように制御する。

このように、第５図に示す感光材料処理装置ＩＤでも、
流体層７１（フロート８４　）の上下方向への変位、即
ち、リミットスィッチ８６接点の０Ｎ−ＯＦＦ動作によ
り処理液２の余剰分を処理槽１０の外に排出することが
できるようになる。

このようにして、前記第１図に示す実施例と同様の効果
を保持しつつ、処理槽ｌｏ内の処理液２の液面を一定レ
ベルに維持することが可能となる。　さらに第５図の感
光材料処理装置ＩＤでは、排液ポンプ６２の駆動を必要
としないため、第４図の例に比べて、エネルギ消費が少
なくなるという利点を有する。

以上、幾つかの実施例について説明したが、本発明はこ
れに限定されるものではなく、その要旨を変更せざる範
囲内で、種々に変形実施することが可能である。

例えば、前述の各実施例では、搬入通路と搬出通路との
双方を処理槽の側壁から斜め上方向に突出する構成のも
のとしたが、搬入通路または搬出通路のいずれか一方の
みをこのような構成としてもよく、また、例えば処理液
液面下の処理槽の側壁に処理液液面と平行な搬入通路お
よび搬出通路を設置してもよい。

但し、搬入、出通路を処理液液面と平行に設置した場合
には、それぞれの通路の先端側開口から処理液が漏出し
ないように、その開口度を制限することが必要となる。

　その具体例としては、１気圧程度の現像液、安定液お
よび洗浄水に対し、例えば、それぞれスリット幅が０．
５〜１．５ｍｍ、０．５〜１．５ｍｍおよび０．５〜２
．５ｍｍを挙げることができる。

また、処理液の漏出を阻止するため、搬入通路および搬
出通路の先端側開口の近傍位置に、例えば弾性材料から
成るスキージのようなシール手段を装着することも可能
である。

一方、クロスオーバーローラとしては、搬送以外の機能
をも併有する１対または２対以上のローラを採用するこ
ともできる。　例えば、第１のローラを洗浄水で濡らし
、これにより処理済の感光材料の表面に洗浄水を付着さ
せ、第２のローラにより感光材料表面の先行処理用の処
理液と洗浄水とを吸引、除去し、第３のローラにより感
光材料の表面を後段工程の処理槽で使用する処理液で濡
らし得るような構成のものである。

なお、このような構成のローラを配置することは、本願
出願人により昭和６３年６月２１日に出願された、特願
昭６３−１５３０２１、発明の名称：感光材料処理装置
）に詳述されており、これを適用することができる。

〈発明の効果〉以上述べた通り、本発明の感光材料処理装置によれば、
処理液の供給量を制御することなく、処理槽内の処理液
液面を一定の液面レベルに維持することができる。　そ
の結果、処理品質を適正かつ安定なものとすることがで
きる感光材料処理装置が提供される。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に係る感光材料処理装置の一実施例を
模式的に示す断面側面図である。第２図は、第１図における排液通路部分を拡大して示す
部分拡大断面図である。第３図、第４図および第５図は、いずれも本発明の他の
実施例である感光材料処理装置を模式的に示す断面側面
図である。符号の説明ＬＡ、ＩＢ、ＩＣ，ＩＤ・・・感光材料処理装置、２・
・・処理液、ｌＯ・・・処理槽、１１．１２・・・側壁、１３・・・搬入通路、１４・・・搬出通路、１３ａ、１４ａ・・・先端側開口、１３ｂ、１４ｂ・・・基端側聞口、１５．１９・・・クロスオーバローラ、１６・・・槽内
搬送手段。１６ａ・・・搬送ローラ、１６ｂ、１６ｃ・・・搬送方向反転手段、１７・・・槽
内搬送経路、１８・・・処理液供給用開口、２０・・・処理液供給手段、２１・・・処理液貯蔵タンク、２２・・・導液管、２３・・・送液ポンプ。２４・・・ポンプ駆動回路、３ＯＡ・・・浮蓋。３０Ｂ・・・流体溜。３１．３２・・・ストッパ、３３・・・カップ、３３ａ・・・下端開口、３３ｂ・・・中空部分、３４・・・支持アーム機構、３５・・・排液チューブ、３５ａ・・・処理液流出端、３５ｂ・・・下端、３６・・・シール部材、０・・・排液通路、１・・・湾曲部、１ａ・・・通路底面、２・・・通気孔、３・・・排出開口、４・・・内側開口、５・・・延長排出開口、６・・・処理液回収タンク、０・・・排液ポンプ手段、１・・・排液管、１ａ・・・吸込み開口、１ｂ・・・排出開口、２・・・排液ポンプ、１・・・流体層、２．８２・・・液面レベル検出手段、３．８３・・・検出レバー３ａ、８３ａ・・・支点、４．８４・・・フロート、５．８５・・・押圧突起、６．８６・・・リミットスイッチ、ＦＩＧ Δ ７．８７・・・排液制御回路、０・・・排液手段、１・・・処理液排出口、２・・・排液路、３・・・電磁弁、００・・・感光材料ＦＩＧ、３Ｆ　Ｉ　Ｇ　、４ＦＩＧ

Claims

【特許請求の範囲】

（１）処理槽内に処理液を供給しつつ該処理槽内に感光
材料を搬送して、感光材料の処理を行う感光材料処理装
置であって、排液量の調整により前記処理槽内の処理液の液面レベル
を一定に保つように構成したことを特徴とする感光材料
処理装置。
（２）前記排液量の調整は、前記処理槽の常用液面から
の自然溢流によって行われるものである請求項１に記載
の感光材料処理装置。
（３）前記排液量の調整は、前記処理槽内の液面レベル
を検出し、これに基いて制御することによって行われる
ものである請求項１に記載の感光材料処理装置。