JPH0265213A - 還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及び磁器 - Google Patents
還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及び磁器Info
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- JPH0265213A JPH0265213A JP21697688A JP21697688A JPH0265213A JP H0265213 A JPH0265213 A JP H0265213A JP 21697688 A JP21697688 A JP 21697688A JP 21697688 A JP21697688 A JP 21697688A JP H0265213 A JPH0265213 A JP H0265213A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及
び磁器に関する。
び磁器に関する。
[従来の技術]
半導体磁器コンデンサの1種として還元再酸化型半導体
磁器コンデンサが知られている。この還元再酸化型半導
体磁器コンデンサの誘電体はチタン酸バリウム系磁器か
ら成り、例えば特公昭63−28492号公報に開示さ
れているように、炭酸バリウム(B a CO2)と酸
化チタン(Ti02)と希土類元素の酸化0I(Nd、
Pr、Sm、Eu、Gd、Dy、Laの酸化物の少なく
とも1種)と、(、r、Mn、Fe、 co及びNiの
内の少なくとも1種の酸化物とから成る混合物(原料組
成物)を用意し、この成形体を形成し、これを酸化性雰
囲気中で焼結させ、得られた焼結体を還元性雰囲気で加
熱処理し、更に酸化性雰囲気中で加熱処理(再酸化処理
)して得る。
磁器コンデンサが知られている。この還元再酸化型半導
体磁器コンデンサの誘電体はチタン酸バリウム系磁器か
ら成り、例えば特公昭63−28492号公報に開示さ
れているように、炭酸バリウム(B a CO2)と酸
化チタン(Ti02)と希土類元素の酸化0I(Nd、
Pr、Sm、Eu、Gd、Dy、Laの酸化物の少なく
とも1種)と、(、r、Mn、Fe、 co及びNiの
内の少なくとも1種の酸化物とから成る混合物(原料組
成物)を用意し、この成形体を形成し、これを酸化性雰
囲気中で焼結させ、得られた焼結体を還元性雰囲気で加
熱処理し、更に酸化性雰囲気中で加熱処理(再酸化処理
)して得る。
[発明が解決しようとする課題]
上述の還元再酸化型半導体磁器コンデンサは、小型化、
大容量化が図れ、且つ高い耐電圧を得ることができると
いう特長を有する。しかし、従来の磁器組成物では高耐
電圧を保ったままより一層の大容量化を図ることが困難
であった。即ち、絶縁破壊電圧Vbdを例えば600V
以上にしようとすると、単位面積当りの静電容量Cが0
.3〜0.6μF/cm2程度に低下し、逆に容量Cを
0.7μF/cm2以上にしようとすると、絶縁破壊電
圧Vbdが300〜400■程度に低下した。
大容量化が図れ、且つ高い耐電圧を得ることができると
いう特長を有する。しかし、従来の磁器組成物では高耐
電圧を保ったままより一層の大容量化を図ることが困難
であった。即ち、絶縁破壊電圧Vbdを例えば600V
以上にしようとすると、単位面積当りの静電容量Cが0
.3〜0.6μF/cm2程度に低下し、逆に容量Cを
0.7μF/cm2以上にしようとすると、絶縁破壊電
圧Vbdが300〜400■程度に低下した。
そこで、本発明の目的は、絶縁破壊電圧Vbdが500
v以上、単位面積当りの静電容量Cが0゜6μF/cm
2以上の還元再酸化型半導体磁器コンデンサを得ること
が可能な磁器組成物及び磁器を提供することにある。
v以上、単位面積当りの静電容量Cが0゜6μF/cm
2以上の還元再酸化型半導体磁器コンデンサを得ること
が可能な磁器組成物及び磁器を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
上記目的を達成するための本発明は、10000重量部
の主成分と、Mn(マンガン)に換算して0.03〜0
.30重量部のMn化合物と、0.05〜0.30重量
部のB12o3(酸化ビスマス)とから成り、前記主成
分が81.5〜96.5モル%のB a T iO3(
チタン酸バリウム)と、La(ランタン)に換算して1
.0〜4.0モル%のL a 2O3 (酸化ランタン
)と、Ce(セリウム)、Pr(プラセオジム)、Nd
(ネオジム)、Sm(サマリウム)及びY(イツトリウ
ム)の内の少なくとも1種から成る希土類元素に換算し
て0.5〜3.0モル%の前記希土類元素の酸化物と、
1,9〜10,0モル%のT i O2(酸化チタン)
と、0.1〜1.5モル%のCaZrO3(ジルコン酸
カルシウム)とから成ることを特徴とする還元再酸化型
半導体磁器コンデンサ用磁器組成物に係わるものである
。
の主成分と、Mn(マンガン)に換算して0.03〜0
.30重量部のMn化合物と、0.05〜0.30重量
部のB12o3(酸化ビスマス)とから成り、前記主成
分が81.5〜96.5モル%のB a T iO3(
チタン酸バリウム)と、La(ランタン)に換算して1
.0〜4.0モル%のL a 2O3 (酸化ランタン
)と、Ce(セリウム)、Pr(プラセオジム)、Nd
(ネオジム)、Sm(サマリウム)及びY(イツトリウ
ム)の内の少なくとも1種から成る希土類元素に換算し
て0.5〜3.0モル%の前記希土類元素の酸化物と、
1,9〜10,0モル%のT i O2(酸化チタン)
と、0.1〜1.5モル%のCaZrO3(ジルコン酸
カルシウム)とから成ることを特徴とする還元再酸化型
半導体磁器コンデンサ用磁器組成物に係わるものである
。
なお、上記磁器組成物を焼成及び熱処理することにより
、請求項2に示す磁器を得ることができる。
、請求項2に示す磁器を得ることができる。
[作 用コ
本発明に従う磁器組成物によって還元再酸化型半導体磁
器コンデンサを作製すると、500V以上の絶縁破壊電
圧Vbdを有し且つ0.6μF / cm2以上の単位
面積当りの静電容量Cを得ることかできる。
器コンデンサを作製すると、500V以上の絶縁破壊電
圧Vbdを有し且つ0.6μF / cm2以上の単位
面積当りの静電容量Cを得ることかできる。
[実施例]
次に、本発明の詳細な説明する。
第1表の試料No、 1の組成物の主成分を得るために
、 B a T iO3を2O00.OOg (90,8モ
ル%)、 La2O3を29.23g (Laに換算して1゜9モ
ル%)、 Nd2o3を12.718 (Ndに換算して08モル
%)、 Ce O2を11.38g (Ceに換算して07モル
%)、 Pr2O3を9.34g (Prに換算して0゜6モル
%)、 T 102を31.69g <4.2モル%)、CaZ
rO3を16.93g (1,0モル%)秤量しな。即
ち、B a T iO3の90.8モル%と、Laの1
.9モル%と、Ndの0.8モル%と、Ceの0,7モ
ル%と、Prの0.6モル%と、T z O2の4.2
モル%と、CaZrO3の1.0モル%との和が100
モル%となるようにBaTiO3、La2O3、N d
2O3、Ce 02、P r 2O3、T ] 02
、Ca Z r 03を秤量した。
、 B a T iO3を2O00.OOg (90,8モ
ル%)、 La2O3を29.23g (Laに換算して1゜9モ
ル%)、 Nd2o3を12.718 (Ndに換算して08モル
%)、 Ce O2を11.38g (Ceに換算して07モル
%)、 Pr2O3を9.34g (Prに換算して0゜6モル
%)、 T 102を31.69g <4.2モル%)、CaZ
rO3を16.93g (1,0モル%)秤量しな。即
ち、B a T iO3の90.8モル%と、Laの1
.9モル%と、Ndの0.8モル%と、Ceの0,7モ
ル%と、Prの0.6モル%と、T z O2の4.2
モル%と、CaZrO3の1.0モル%との和が100
モル%となるようにBaTiO3、La2O3、N d
2O3、Ce 02、P r 2O3、T ] 02
、Ca Z r 03を秤量した。
また、添加成分としてM n C03(炭酸マンカン)
を4.42g、Bi2O3を2.11g秤量しな。なお
、上記主成分の合計重量と4.428のM n CO3
との割合は、100重量部内上記主成分と0,1重量部
のMnとの割合に対応する。
を4.42g、Bi2O3を2.11g秤量しな。なお
、上記主成分の合計重量と4.428のM n CO3
との割合は、100重量部内上記主成分と0,1重量部
のMnとの割合に対応する。
また、上記主成分の合計重量と2.11gのBi2O3
との割合は、100重量部の上記主成分と0.1重量部
の812O3との割合に対応する。
との割合は、100重量部の上記主成分と0.1重量部
の812O3との割合に対応する。
要するに、100重量部の主成分に対してMnが0.1
重量部となるようにM n CO3とB 12O3を秤
量しな。
重量部となるようにM n CO3とB 12O3を秤
量しな。
次に、上記主成分及び添加成分を湿式混合し、脱水乾燥
後有機バインダを入れて混練し、しかる後、外径1.5
m+′l、内径0.9mrn、厚み0.3vn、長さ3
.7mnの円筒状成型体を得な。
後有機バインダを入れて混練し、しかる後、外径1.5
m+′l、内径0.9mrn、厚み0.3vn、長さ3
.7mnの円筒状成型体を得な。
次に、得られた成型体を大気中132O℃で2時間焼成
して誘電体(絶縁体)磁器の焼結体を得、この誘電体磁
器を還元性雰囲気中1050’Cで2時間熱処理(半導
体化処理)して半導体磁器に変化させ、更に得られた半
導体磁器を大気中970℃で1時間熱処理(再酸化処理
)を行って図面で原理的に示すように半導体磁器1の表
面に誘電体層2を作った。なお、半導体磁器1の組成は
原料組成に対応している。また、表面誘電体層2は半導
体磁器1め酸化物から成る。
して誘電体(絶縁体)磁器の焼結体を得、この誘電体磁
器を還元性雰囲気中1050’Cで2時間熱処理(半導
体化処理)して半導体磁器に変化させ、更に得られた半
導体磁器を大気中970℃で1時間熱処理(再酸化処理
)を行って図面で原理的に示すように半導体磁器1の表
面に誘電体層2を作った。なお、半導体磁器1の組成は
原料組成に対応している。また、表面誘電体層2は半導
体磁器1め酸化物から成る。
次に、表面誘電体層2の上に銀(Ag>ペーストを塗布
し、850℃で10分間焼付けることによって一対め電
極3.4を形成し、半導体磁器コンデンサを完成させた
。
し、850℃で10分間焼付けることによって一対め電
極3.4を形成し、半導体磁器コンデンサを完成させた
。
得られたコンデンサの電極3,4にそれぞれリード線を
半田付けし、単位面積当りの静電容量C1tanδ、絶
縁抵抗IR1絶縁破壊電圧Vbdを測定したところ、第
2表に示すように、Cは079 μF / c m 2
、tanδは3.1%、IRは1.8X104MΩ、V
b d 4;)ニア 60 V テア−) r、:。
半田付けし、単位面積当りの静電容量C1tanδ、絶
縁抵抗IR1絶縁破壊電圧Vbdを測定したところ、第
2表に示すように、Cは079 μF / c m 2
、tanδは3.1%、IRは1.8X104MΩ、V
b d 4;)ニア 60 V テア−) r、:。
なお、C及びtanδは測定電圧0,1■、測定周波数
1kH2の条件で測定し、IRは直流電圧5 Q Vを
15秒間印加した後に測定し、Vbdは直流昇圧破壊方
式で測定した。
1kH2の条件で測定し、IRは直流電圧5 Q Vを
15秒間印加した後に測定し、Vbdは直流昇圧破壊方
式で測定した。
大気中での焼成(−次焼成)の温度の変化による特性変
動が少ないことを確かめるなめに、−次焼成温度を13
10℃、1300℃に変えた他は132O℃の場合と同
一条件で半導体コンデンサを作成し、その特性を測定し
たところ、第2表に示すように、Cは0.77及び0.
75μF/cm2 tanδは3.1及び3.2%、I
Rはそt14i1.7X1041VIQ、vbdは75
0及び72O■であった。
動が少ないことを確かめるなめに、−次焼成温度を13
10℃、1300℃に変えた他は132O℃の場合と同
一条件で半導体コンデンサを作成し、その特性を測定し
たところ、第2表に示すように、Cは0.77及び0.
75μF/cm2 tanδは3.1及び3.2%、I
Rはそt14i1.7X1041VIQ、vbdは75
0及び72O■であった。
試料No、 2〜44においても、組成を第1表に示す
ように変えた他は試料No、 1と同一方法でコンデン
サを作り、同一方法で電気的特性を測定した。
ように変えた他は試料No、 1と同一方法でコンデン
サを作り、同一方法で電気的特性を測定した。
磁器組成物の組成を示す第1表において、主成分のBa
TiO3とLaとXとT i O2とCaZr O3は
モル%で示されている。主成分に含まれているXはCe
、Pr、Nd、Sm、Yの内の少なくとも1種から成る
希土類元素である。添加成分のMn及びBi2O3は主
成分100重量部に対する添加重量部で示されている。
TiO3とLaとXとT i O2とCaZr O3は
モル%で示されている。主成分に含まれているXはCe
、Pr、Nd、Sm、Yの内の少なくとも1種から成る
希土類元素である。添加成分のMn及びBi2O3は主
成分100重量部に対する添加重量部で示されている。
O−一
■
]
第
表
第
表
続き
第
表
(続き
第
表
続き
〕
第
表
(続き
第
表
C続き
第
表
続き
第
表
(続き
〕
第
2表
(続き)
第1表及び第2表から明らかなように、本発明に従う組
成物によれは、絶縁破壊電圧Vbdが500〜800■
、単位面積当りの静電容量か06〜0.8μF / c
m 2のコンデンサを得ることかできる。
成物によれは、絶縁破壊電圧Vbdが500〜800■
、単位面積当りの静電容量か06〜0.8μF / c
m 2のコンデンサを得ることかできる。
一方、試料No、 2.6.2O.21.23.26.
27.30.31.34.35.36.39.40.4
4では本発明の目的を達成することができない。従って
、これ等は本発明の範囲外のものであり、比較例として
掲載されている。
27.30.31.34.35.36.39.40.4
4では本発明の目的を達成することができない。従って
、これ等は本発明の範囲外のものであり、比較例として
掲載されている。
次に組成の限定理由を説明する。
Laか1.0モル%未満になると、Laの添加効果が小
さくなり過ぎてコンデンサの絶縁破壊電圧Vbdか目標
値よりも低くなる。一方、L aか4.0モル%よりも
多くなると、表面誘電体層2の誘電率が低くなり、単位
面積当りの静電容量Cか目標値よりも小さくなる。従っ
て、L aの好ましい範囲は10〜4.0モル%である
。
さくなり過ぎてコンデンサの絶縁破壊電圧Vbdか目標
値よりも低くなる。一方、L aか4.0モル%よりも
多くなると、表面誘電体層2の誘電率が低くなり、単位
面積当りの静電容量Cか目標値よりも小さくなる。従っ
て、L aの好ましい範囲は10〜4.0モル%である
。
X (Ce、Pr、Nd、Sm、Yの少なくとも1種)
か1種又は複数種の合計で0.5モル%未溝になると、
表面誘電体層2の誘電率を上げる効果を十分に得ること
かできなくなり、静電容量Cが目標値未満になる。一方
、Xが3.0モル%よりも多くなると、絶縁破壊電圧V
bdか目標値よりも低くなる。従ってXの好ましい範囲
は0.5〜3.0モル%である。
か1種又は複数種の合計で0.5モル%未溝になると、
表面誘電体層2の誘電率を上げる効果を十分に得ること
かできなくなり、静電容量Cが目標値未満になる。一方
、Xが3.0モル%よりも多くなると、絶縁破壊電圧V
bdか目標値よりも低くなる。従ってXの好ましい範囲
は0.5〜3.0モル%である。
B a T 103を81.5〜96.5モル%の範囲
外及びT 102を1.9〜JO10モル%の範囲外に
すると、焼結性か悪くなり、静電容量C及び絶縁破壊電
圧Vbdが低下する。
外及びT 102を1.9〜JO10モル%の範囲外に
すると、焼結性か悪くなり、静電容量C及び絶縁破壊電
圧Vbdが低下する。
CaZrO3は焼結性改善効果を有するが、01モル%
未満なとその効果をほとんど得ることができず、15モ
ル%を越えると表面誘電体層2の誘電率が下がる。従っ
て、Ca、ZrO3の好ましい範囲は0.1〜1.5モ
ル%である。
未満なとその効果をほとんど得ることができず、15モ
ル%を越えると表面誘電体層2の誘電率が下がる。従っ
て、Ca、ZrO3の好ましい範囲は0.1〜1.5モ
ル%である。
Mnを02O3重量部未満にすると、表面誘電体N2を
均一に形成することか困難になり、絶縁破壊電圧Vbd
か低下する。Mnを0.30重量部よりも多くすると、
表面誘電体層2を薄く形成することが困難になり、絶縁
破壊電圧Vbdを高く保ったまま静電容量Cを高くする
ことがきない。
均一に形成することか困難になり、絶縁破壊電圧Vbd
か低下する。Mnを0.30重量部よりも多くすると、
表面誘電体層2を薄く形成することが困難になり、絶縁
破壊電圧Vbdを高く保ったまま静電容量Cを高くする
ことがきない。
従って、Mnの好ましい範囲は0,03〜0.30重量
部である。
部である。
Bi2O3は一次焼成温度の範囲を広げる効果を有する
が、このBi2O3が0.05重量未満だと、その効果
をほとんど期待することができない。Bi2O3か0.
30重量部を越えると、誘電体層2の誘電率が下がり、
静電容量が低下すると共に、焼結状態が悪くなり、絶縁
破壊電圧が下がる。従って、Bi2O3め好ましい範囲
は005〜0.30の重量部である。
が、このBi2O3が0.05重量未満だと、その効果
をほとんど期待することができない。Bi2O3か0.
30重量部を越えると、誘電体層2の誘電率が下がり、
静電容量が低下すると共に、焼結状態が悪くなり、絶縁
破壊電圧が下がる。従って、Bi2O3め好ましい範囲
は005〜0.30の重量部である。
「変形例」
本発明は上述の実施例に限定されるしのでなく、例えば
次の変形か可能なものである。
次の変形か可能なものである。
(1) Mn、COの代りにM n O2を使用して
もよい。
もよい。
(2) 酸化性雰囲気による焼成(焼結)時の温度を1
260〜1400℃、還元性雰囲気の加熱処理温度を9
00〜1180°C1再酸化処理の温度を900〜11
00℃の範囲で変えることができる。
260〜1400℃、還元性雰囲気の加熱処理温度を9
00〜1180°C1再酸化処理の温度を900〜11
00℃の範囲で変えることができる。
(3) BaTi0 の代りにB a CO3とT
102を出発材料としてもよい。
102を出発材料としてもよい。
(4) 電極3.4の内の一方の下の誘電体層2を省く
ことができる。
ことができる。
[発明の効果コ
上述のように本発明によれば、絶縁破壊電圧が500v
以上、単位面積当りの静電容量が0.6μF/cm2以
上の半導体磁器コンデンサを提供することが可能になる
。
以上、単位面積当りの静電容量が0.6μF/cm2以
上の半導体磁器コンデンサを提供することが可能になる
。
図面は本発明の実施例に係わる磁器コンデンサを原理的
に示す断面図である。 1・・・半導体磁器、2・・・表面誘電体層、3,4・
・・電極。
に示す断面図である。 1・・・半導体磁器、2・・・表面誘電体層、3,4・
・・電極。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 [1]100.00重量部の主成分と、Mn(マンガン
)に換算して0.03〜0.30重量部のMn化合物と
、0.05〜0.30重量部のBi_2O_3(酸化ビ
スマス)とから成り、前記主成分が81.5〜96.5
モル%のBaTiO_3(チタン酸バリウム)と、La
(ランタン)に換算して1.0〜4.0モル%のLa_
2O_3(酸化ランタン)と、Ce(セリウム)、Pr
(プラセオジム)、Nd(ネオジム)、Sm(サマリウ
ム)及びY(イットリウム)の内の少なくとも1種から
成る希土類元素に換算して0.5〜3.0モル%の前記
希土類元素の酸化物と、1.9〜10.0モル%のTi
O_2(酸化チタン)と、0.1〜1.5モル%のCa
ZrO_3(ジルコン酸カルシウム)とから成ることを
特徴とする還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物
。 [2]100重量部の主成分と、0.03〜0.30重
量部のMnと、Bi_2O_3に換算して0.05〜0
.30の重量部のBiとを含有している半導体磁器と、
前記半導体磁器の表面に形成された前記半導体磁器の酸
化物から成る誘電体層とから成り、 前記主成分が81.5〜96.5モル%のBaTiO_
3と、1.0〜4.0モル%のLaと、0.5〜3.0
モル%のX(但し、XはCe、Pr、Nd、Sm及びY
の内の少なくとも1種の希土類元素)と、TiO_2に
換算して1.9〜10.0モル%のTiと、0.1〜1
.5モル%のCaZrO_3とを含むものであることを
特徴とする還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21697688A JPH0265213A (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及び磁器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21697688A JPH0265213A (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及び磁器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0265213A true JPH0265213A (ja) | 1990-03-05 |
JPH0472368B2 JPH0472368B2 (ja) | 1992-11-18 |
Family
ID=16696866
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21697688A Granted JPH0265213A (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及び磁器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0265213A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008114341A1 (ja) * | 2007-03-16 | 2008-09-25 | Fujitsu Microelectronics Limited | 半導体装置およびその製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018074637A1 (ko) * | 2016-10-21 | 2018-04-26 | 주식회사 지유디이에스 | 애완동물을 위한 펫브러시용 반도체 제작을 위한 혼합조성물 |
-
1988
- 1988-08-31 JP JP21697688A patent/JPH0265213A/ja active Granted
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008114341A1 (ja) * | 2007-03-16 | 2008-09-25 | Fujitsu Microelectronics Limited | 半導体装置およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0472368B2 (ja) | 1992-11-18 |
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