JPH0263560A - 除じん装置 - Google Patents
除じん装置Info
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- JPH0263560A JPH0263560A JP63213735A JP21373588A JPH0263560A JP H0263560 A JPH0263560 A JP H0263560A JP 63213735 A JP63213735 A JP 63213735A JP 21373588 A JP21373588 A JP 21373588A JP H0263560 A JPH0263560 A JP H0263560A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B03—SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C—MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C3/00—Separating dispersed particles from gases or vapour, e.g. air, by electrostatic effect
- B03C3/02—Plant or installations having external electricity supply
- B03C3/04—Plant or installations having external electricity supply dry type
- B03C3/14—Plant or installations having external electricity supply dry type characterised by the additional use of mechanical effects, e.g. gravity
- B03C3/145—Inertia
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は各種の工業設備から発生するダスト、ヒユーム
、ミストなどの粒子状汚染物質の捕集・除去に適用され
る除じん装置およびクリーンルーム、病院、その他清浄
な空気環境が必要とされる場合に用いられるじんあい除
去用の空気清浄装置に適用される除じん装置に関する。
、ミストなどの粒子状汚染物質の捕集・除去に適用され
る除じん装置およびクリーンルーム、病院、その他清浄
な空気環境が必要とされる場合に用いられるじんあい除
去用の空気清浄装置に適用される除じん装置に関する。
（従来の技術〕
従来、ガス中の粒子状物質を捕集・除じんする装置とし
ては、（１）機械的除じん装置（サイクロン、バグフィ
ルタ等）、（２）電気的除じん装置（電気集じん装置（
電気集じん器、以下においてＥＰと称する）の２つに大
別される。
ては、（１）機械的除じん装置（サイクロン、バグフィ
ルタ等）、（２）電気的除じん装置（電気集じん装置（
電気集じん器、以下においてＥＰと称する）の２つに大
別される。
第９図に、従来技術の機械的除じん装置の一例としてバ
グフィルタ装置の構成図を示す。粒子状物質を含んだガ
スはガス人口２１よりバグフィルタ装置に導入され、フ
ィルタ２２を通過する際に粒子状物質がろ過され清浄と
なったガスがガス出口２３より排出される。
グフィルタ装置の構成図を示す。粒子状物質を含んだガ
スはガス人口２１よりバグフィルタ装置に導入され、フ
ィルタ２２を通過する際に粒子状物質がろ過され清浄と
なったガスがガス出口２３より排出される。
第１０図に従来技術の電気的除じん装置であるＥＰの構
成図を示す。粒子状物質を含んだガスはガス人口３１よ
りＥＰ本体に導入される。放電々極３６には電源装置３
５により高電圧が印加される。放電々極３６と集じん電
極３７の間には高電界が形成されており、かつ放電々極
３６からはコロナ放電が生じているため、集じん空間に
導入された粒子状物質は電荷を帯びクーロン力によって
集じん電極３７上に捕集され、清浄となったガスはガス
出口３３より排出される。
成図を示す。粒子状物質を含んだガスはガス人口３１よ
りＥＰ本体に導入される。放電々極３６には電源装置３
５により高電圧が印加される。放電々極３６と集じん電
極３７の間には高電界が形成されており、かつ放電々極
３６からはコロナ放電が生じているため、集じん空間に
導入された粒子状物質は電荷を帯びクーロン力によって
集じん電極３７上に捕集され、清浄となったガスはガス
出口３３より排出される。
上記従来技術には次のような問題点があった。
（１）機械的除じん装置の場合、フィルタ２２のメツシ
ュの大きさ以上の粒径の粒子状物質であれば、その物性
にかかわらず安定した集しん性が得られるが、処理ガス
の全量をフィルタ２２に通す必要があるので、圧損が極
めて大きくなり、送風機２４として大容量のものが必要
とされるので、設備コスト、運転コストとも高い。
ュの大きさ以上の粒径の粒子状物質であれば、その物性
にかかわらず安定した集しん性が得られるが、処理ガス
の全量をフィルタ２２に通す必要があるので、圧損が極
めて大きくなり、送風機２４として大容量のものが必要
とされるので、設備コスト、運転コストとも高い。
（２）ＥＰの場合、バグフィルタ等の機械的除じん装置
に比較すると、圧…が極めて小さく、送風機３４に関し
て設備コスト、運転コストとも低くできるが、その集じ
ん原理をクーロン力によっているため、処理すべき粒子
状物質の電気的物性１１！（特に電気抵抗）によって集
じん性が変化するので、異種粒子状物質を等しく同じ性
能にて捕集する汎用のサイジングは極めて困難である。
に比較すると、圧…が極めて小さく、送風機３４に関し
て設備コスト、運転コストとも低くできるが、その集じ
ん原理をクーロン力によっているため、処理すべき粒子
状物質の電気的物性１１！（特に電気抵抗）によって集
じん性が変化するので、異種粒子状物質を等しく同じ性
能にて捕集する汎用のサイジングは極めて困難である。
また−度集じん電極３７に捕集した粒子状物質の再飛散
を防止するためにＢＰの機内流速をＩＩＩ／Ｓ程度に設
計することが通常であり、装置容積は大きくなりがちで
ある。
を防止するためにＢＰの機内流速をＩＩＩ／Ｓ程度に設
計することが通常であり、装置容積は大きくなりがちで
ある。
〔課題を解決するための手段］
本発明は上記課題を解決するため次の手段を講する。
すなわち、除じん装置として、粒子状物質を含むガス流
れの中に設けられる放電々極と、同放電々掻と対向して
設けられるろ過手段と、同放電々極およびろ過半段間に
高電圧を印加する高圧電源と、上記ろ過手段を通過する
ガス流を調節する抽気手段とを設ける。
れの中に設けられる放電々極と、同放電々掻と対向して
設けられるろ過手段と、同放電々極およびろ過半段間に
高電圧を印加する高圧電源と、上記ろ過手段を通過する
ガス流を調節する抽気手段とを設ける。
上記手段により、抽気手段でガスは一部抽気され、ろ過
手段を通過する。放電々極部で強いコロナ放電を発生さ
せ、ろ過手段へ向かうイオン風による二次流れを作る。
手段を通過する。放電々極部で強いコロナ放電を発生さ
せ、ろ過手段へ向かうイオン風による二次流れを作る。
またガス流れ中の粒子状物質はコロナ放電により荷電さ
れ、放電々極とろ過半段間の電界によりクーロン力を受
けてろ過手段へ向う。従ってガス流れ中の粒子状物質は
上記イオン風およびクーロン力に加勢されて集まりガス
流れとともにろ過手段を通過する。ろ過手段を通過する
ガス流量は抽気手段によって最適に調整される。このと
きガス中の粒子状物質はろ過手段により壱過捕集される
。
れ、放電々極とろ過半段間の電界によりクーロン力を受
けてろ過手段へ向う。従ってガス流れ中の粒子状物質は
上記イオン風およびクーロン力に加勢されて集まりガス
流れとともにろ過手段を通過する。ろ過手段を通過する
ガス流量は抽気手段によって最適に調整される。このと
きガス中の粒子状物質はろ過手段により壱過捕集される
。
このようにして効率よくガス中の粒子状物質が集められ
除じんされるようになる。
除じんされるようになる。
本発明の一実施例を第１図ないし第３図により説明する
。
。
第１図にて、粒子状物質を含むガスをガス人口１より導
入する横断面が方形のダクト形のケーシング１５が軸を
水平にして設けられる。ケーシング１５の上半分および
下半分のほぼ中央にそれぞれ水平に上の放電々極６ａと
下の放電々極６ｂが設けられる。各放電々極６ａ、６ｂ
に対向して上のろ過手段８ａ、中上のろ過手段８ｂ、中
下のろ過手段８Ｃ％および下のろ過手段８ｄが水平に設
けられる。
入する横断面が方形のダクト形のケーシング１５が軸を
水平にして設けられる。ケーシング１５の上半分および
下半分のほぼ中央にそれぞれ水平に上の放電々極６ａと
下の放電々極６ｂが設けられる。各放電々極６ａ、６ｂ
に対向して上のろ過手段８ａ、中上のろ過手段８ｂ、中
下のろ過手段８Ｃ％および下のろ過手段８ｄが水平に設
けられる。
上と中下のろ過手段８ａ、８ｃの詳細は第２図に示すよ
うに水平な対向電極７ａ、７ｃの上方に水平な除じんフ
ィルタ２ａ、２ｃが設けられる。同様に中上と下のろ過
手段８ｂと８ｄは第３図に示すように水平な対向電極７
ｂ、７ｄの下方に水平な除じんフィルタ２ｂ２ｄが設け
られる。
うに水平な対向電極７ａ、７ｃの上方に水平な除じんフ
ィルタ２ａ、２ｃが設けられる。同様に中上と下のろ過
手段８ｂと８ｄは第３図に示すように水平な対向電極７
ｂ、７ｄの下方に水平な除じんフィルタ２ｂ２ｄが設け
られる。
上の除じんフィルタ２ａを上方に通過したガス流は後流
端部で一方の側に集められて抽気管１６につながれる。
端部で一方の側に集められて抽気管１６につながれる。
同様に下の除じんフィルタ２ｄを下方に通過したガス流
は後流端部で一方の側に集められて油気管１６につなが
れる。中上および中上の除じんフィルタ２ｂ、２ｃ部も
同様にそれぞれ下方および上方に通過したガスは後流端
部で一方の側に集められて抽気管１６につながれる。
は後流端部で一方の側に集められて油気管１６につなが
れる。中上および中上の除じんフィルタ２ｂ、２ｃ部も
同様にそれぞれ下方および上方に通過したガスは後流端
部で一方の側に集められて抽気管１６につながれる。
放電々極６ａ、６ｂと対向電極８ａ、８ｂ、８ｃ、８ｄ
の間には高圧電源５により高圧が印加される。
の間には高圧電源５により高圧が印加される。
対向電極７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄとしては、等電位面を
形成し、かつガスの流れをさまたげない構造のものが好
ましく、例えば金鋼（メツシュ）が用いられ、また除じ
んフィルタ２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ としては、電極配
置、除じん装置の用途等に応じて幅広い材質選定が可能
であり、例えばセラミックフィルタ、多孔質誘電体物質
、バグフィルタ用濾布等が用いられる。
形成し、かつガスの流れをさまたげない構造のものが好
ましく、例えば金鋼（メツシュ）が用いられ、また除じ
んフィルタ２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ としては、電極配
置、除じん装置の用途等に応じて幅広い材質選定が可能
であり、例えばセラミックフィルタ、多孔質誘電体物質
、バグフィルタ用濾布等が用いられる。
ケーシング１５の後流端にはガス出口３がある。
ガスはガス出口３から排気ダクト１７により送風機４を
経て排出される。また抽気管１６のガスは抽気手段の抽
気送風機９を経て排気ダクト１７につながれる。
経て排出される。また抽気管１６のガスは抽気手段の抽
気送風機９を経て排気ダクト１７につながれる。
以上の構成において、高圧電源５より高電圧を印加して
従来のＥＰの場合より強いコロナ放電を放電々極６ａ、
６ｂ部に発生させる。
従来のＥＰの場合より強いコロナ放電を放電々極６ａ、
６ｂ部に発生させる。
放電々極６ａ、６ｂからのコロナ放電に伴ない、放電々
極から対向電極８ａ、８ｂ、８ｃ、８ｄへ向うイオン風
と呼ばれるガスの二次流れａが生じる。コロナ放電量を
通常のＥＰに比べて増大させ、イオン風による二次流れ
を高速化させることにより、粒子状物質の除じんフィル
タ２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ近傍への移動は、クーロン力
のみならず二次流れの効果により、極めて高効率に行わ
れ、除じんフィルタ近傍のガス中の粒子状物質濃度は部
分的に非常に高いものとなる。この高濃度なガスは除じ
んフィルタ２ａ。
極から対向電極８ａ、８ｂ、８ｃ、８ｄへ向うイオン風
と呼ばれるガスの二次流れａが生じる。コロナ放電量を
通常のＥＰに比べて増大させ、イオン風による二次流れ
を高速化させることにより、粒子状物質の除じんフィル
タ２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ近傍への移動は、クーロン力
のみならず二次流れの効果により、極めて高効率に行わ
れ、除じんフィルタ近傍のガス中の粒子状物質濃度は部
分的に非常に高いものとなる。この高濃度なガスは除じ
んフィルタ２ａ。
２ｂ、２ｃ、２ｄで除じんされ、通過して抽気される。
その抽気量は抽気用の送風機９の風量を調整することに
よって、イオン風による二次流れ流量に相応して調整さ
れる。このため、除じんフィルタでろ遇された粒子状物
質が、二次流れの巻き上げ現象によって主流ガスへ再飛
散することはほとんどない、また、粒子状物質は、イオ
ン風による二次流れによって移動する際に、帯電するの
で、除じんフィルタの材質によっては電気的付着による
除じん効果が得られる場合もあり、単なる機械的除じん
法より高効率な除じん効果が期待できる。
よって、イオン風による二次流れ流量に相応して調整さ
れる。このため、除じんフィルタでろ遇された粒子状物
質が、二次流れの巻き上げ現象によって主流ガスへ再飛
散することはほとんどない、また、粒子状物質は、イオ
ン風による二次流れによって移動する際に、帯電するの
で、除じんフィルタの材質によっては電気的付着による
除じん効果が得られる場合もあり、単なる機械的除じん
法より高効率な除じん効果が期待できる。
除じん処理された後の主流ガスはガス出口３より機外へ
排出される。ガス量の大部分を占める主流ガスは、除じ
んフィルタを通過することがないので、主流ガスの圧を
員は小さく、送風機４の容量は従来の機械的除じん装置
の場合に比べてかなり小さいものとすることができ、は
ぼ従来のＥＰの場合と同程度のものとすることができる
。
排出される。ガス量の大部分を占める主流ガスは、除じ
んフィルタを通過することがないので、主流ガスの圧を
員は小さく、送風機４の容量は従来の機械的除じん装置
の場合に比べてかなり小さいものとすることができ、は
ぼ従来のＥＰの場合と同程度のものとすることができる
。
このようにして、効率よく粒子状物質が集められろ過さ
れるので、機内流速を高くとることができ、小型化が可
能となる。
れるので、機内流速を高くとることができ、小型化が可
能となる。
ろ過手段の他の実施例を第４図ないし第７図に示す。
第４図（ａｌ （ｂ）は清浄ガス側にアース電位面を形
成するための対向電極７ａ、 ７ｂ、 ７ｃ、 ７ｄを
設置した例であり、第５図（ａ）、 （ｂ）は清浄ガス
側にさらに補助電極１２ａ、 １２ｂ、 １２ｃ、 １
２ｄを設置し、対向電極７ａ、７ｂ、７ｃ７ｄと逆極性
の高電圧を印加することによって、除じんフィルタ２ａ
、 ２ｂ、 ２ｃ、 ２ｄの両面間にも高電位勾配をも
たせた例である。
成するための対向電極７ａ、 ７ｂ、 ７ｃ、 ７ｄを
設置した例であり、第５図（ａ）、 （ｂ）は清浄ガス
側にさらに補助電極１２ａ、 １２ｂ、 １２ｃ、 １
２ｄを設置し、対向電極７ａ、７ｂ、７ｃ７ｄと逆極性
の高電圧を印加することによって、除じんフィルタ２ａ
、 ２ｂ、 ２ｃ、 ２ｄの両面間にも高電位勾配をも
たせた例である。
第６図（ａ）、 （ｂ）は除じんフィルタ２ａ’、 ２
ｂ’、 ２ｃ’。
ｂ’、 ２ｃ’。
２ｄ’の内部に対向電極７ａ’、 ７ｂ’、 ７ｃ’、
７ｄ ’を設置した例であり、導電性繊維を織り込ん
だ濾布等がこのタイプに属する。また第５図に示したも
ののタイプと同様の考え方として、第２図、第３図と第
６図または第４図と第６図の組合せにより対向電極７と
補助型ＦＩｉ１１２を併せもつ電極配置も可能である。
７ｄ ’を設置した例であり、導電性繊維を織り込ん
だ濾布等がこのタイプに属する。また第５図に示したも
ののタイプと同様の考え方として、第２図、第３図と第
６図または第４図と第６図の組合せにより対向電極７と
補助型ＦＩｉ１１２を併せもつ電極配置も可能である。
第７図（ａ）、 （ｂ）は除じんフィルタ２ａ ’、
２ｂ“の材質が導電性物質であり、それ自身が対向電極
の機能を兼用しているタイプであり、この場合には特に
別途対向電極を設ける必要はない。
２ｂ“の材質が導電性物質であり、それ自身が対向電極
の機能を兼用しているタイプであり、この場合には特に
別途対向電極を設ける必要はない。
本発明の他の実施例を第８図に示す。図中１０は抽気手
段の流量調整用のダンパを示す。
段の流量調整用のダンパを示す。
〔発明の効果］
以上に説明したように本発明は次の効果を奏する。
（１）粒子状物質の移動メカニズムとして、主としてイ
オン風による二次流れを利用しているため、ＢＰと異な
り除じん性能が粒子状物質の電気的物性変化にあまり影
響されない。
オン風による二次流れを利用しているため、ＢＰと異な
り除じん性能が粒子状物質の電気的物性変化にあまり影
響されない。
（２）粒子状物質の移動が極めて高効率であり、かつ粒
子状物質の再飛散がほとんどないため機内流速を高くと
ることができ、装置全体がＥＰ等に比べて非常に小型化
できる。
子状物質の再飛散がほとんどないため機内流速を高くと
ることができ、装置全体がＥＰ等に比べて非常に小型化
できる。
（３）圧損はＥＰ並であるので、バグフィルタ等に比べ
ると送風機容量をかなり小さくすることができる。
ると送風機容量をかなり小さくすることができる。
第１図は、本発明の一実施例の構成図、第２図と第３図
は第１図のろ過手段の詳細構成図、第４図、第５図、第
６図、第７図はそれぞれ同実施例のろ過手段の他の例の
構成図、第８図は本発明の他の実施例の構成図、第９図
は従来例のバグフィルタ装置の構成図、第１０図は従来
例のＥＰの構成図である。 ■−ガス入口、２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ −除じんフィ
ルタ、３−ガス出口、 ４−送風機、 ５・−高圧電源、 ６ａ、６ｂ−・・放電々掻、７
ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄ −−・対向１を穫、８ａ、８ｂ
、８ｃ、８ｄ−−ろ過半段、９−抽気用の送風機、１〇
−圧損調整用のダンパ、１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２
ｄ −一補助電極、１５・・・ケーシング、 １６−
抽気管、１７−排気ダクト、 ａ−・二次流れ。 代理人 弁理士 坂 間 暁 外２名 第４図 （ｂ、） ￥６図 （ｂ） 第７図 （ａ）
は第１図のろ過手段の詳細構成図、第４図、第５図、第
６図、第７図はそれぞれ同実施例のろ過手段の他の例の
構成図、第８図は本発明の他の実施例の構成図、第９図
は従来例のバグフィルタ装置の構成図、第１０図は従来
例のＥＰの構成図である。 ■−ガス入口、２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ −除じんフィ
ルタ、３−ガス出口、 ４−送風機、 ５・−高圧電源、 ６ａ、６ｂ−・・放電々掻、７
ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄ −−・対向１を穫、８ａ、８ｂ
、８ｃ、８ｄ−−ろ過半段、９−抽気用の送風機、１〇
−圧損調整用のダンパ、１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２
ｄ −一補助電極、１５・・・ケーシング、 １６−
抽気管、１７−排気ダクト、 ａ−・二次流れ。 代理人 弁理士 坂 間 暁 外２名 第４図 （ｂ、） ￥６図 （ｂ） 第７図 （ａ）
Claims (1)
- 粒子状物質を含むガス流れの中に設けられる放電々極と
、同放電々極と対向して設けられるろ過手段と、同放電
々極およびろ過手段間に高電圧を印加する高圧電源と、
上記ろ過手段を通過するガス流を調節する抽気手段とを
備えてなることを特徴とする除じん装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63213735A JPH0263560A (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | 除じん装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63213735A JPH0263560A (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | 除じん装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0263560A true JPH0263560A (ja) | 1990-03-02 |
Family
ID=16644138
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63213735A Pending JPH0263560A (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | 除じん装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0263560A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7316735B2 (en) | 2003-08-29 | 2008-01-08 | Mitsusbishi Heavy Industries, Ltd. | Dust collector |
| JP2009125678A (ja) * | 2007-11-26 | 2009-06-11 | Panasonic Corp | 清浄空気製造装置 |
| WO2010055846A1 (ja) * | 2008-11-14 | 2010-05-20 | 古河産機システムズ株式会社 | 電気集塵装置 |
| WO2014020800A1 (ja) | 2012-07-31 | 2014-02-06 | 富士電機株式会社 | 電気集塵装置 |
| EP3129151A1 (fr) * | 2014-04-07 | 2017-02-15 | Daniel Teboul | Dispositif de filtration |
-
1988
- 1988-08-30 JP JP63213735A patent/JPH0263560A/ja active Pending
Cited By (11)
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