JPH0262104B2 - - Google Patents
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- JPH0262104B2 JPH0262104B2 JP61189593A JP18959386A JPH0262104B2 JP H0262104 B2 JPH0262104 B2 JP H0262104B2 JP 61189593 A JP61189593 A JP 61189593A JP 18959386 A JP18959386 A JP 18959386A JP H0262104 B2 JPH0262104 B2 JP H0262104B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22C—FOUNDRY MOULDING
- B22C9/00—Moulds or cores; Moulding processes
- B22C9/10—Cores; Manufacture or installation of cores
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
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- B22C9/00—Moulds or cores; Moulding processes
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- B22C9/101—Permanent cores
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22C—FOUNDRY MOULDING
- B22C1/00—Compositions of refractory mould or core materials; Grain structures thereof; Chemical or physical features in the formation or manufacture of moulds
- B22C1/02—Compositions of refractory mould or core materials; Grain structures thereof; Chemical or physical features in the formation or manufacture of moulds characterised by additives for special purposes, e.g. indicators, breakdown additives
- B22C1/12—Compositions of refractory mould or core materials; Grain structures thereof; Chemical or physical features in the formation or manufacture of moulds characterised by additives for special purposes, e.g. indicators, breakdown additives for manufacturing permanent moulds or cores
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、インベストメント鋳造に用いる中
子、その製造方法およびこの中子を用いたインベ
ストメント鋳造用鋳型の製造方法に関するもので
ある。
子、その製造方法およびこの中子を用いたインベ
ストメント鋳造用鋳型の製造方法に関するもので
ある。
（発明の背景）
インベストメント鋳造に用いるセラミツク中子
は表面の十分な平滑さと、ろう模型の射出成形に
耐えるに充分な強度と、焼成あるいは注湯時に耐
えうる高い熱間強度とを備えることが求められ
る。そこで従来は骨材にアルミナ、ジルコン、溶
融シリカ等を用いて中子を成形し、この中子を単
独で焼成、焼結していた。このため中子の生産性
が悪く寸法精度も悪くなり、特に大型のものでは
希望の精度を出すのが非常に困難で高価でもあつ
た。
は表面の十分な平滑さと、ろう模型の射出成形に
耐えるに充分な強度と、焼成あるいは注湯時に耐
えうる高い熱間強度とを備えることが求められ
る。そこで従来は骨材にアルミナ、ジルコン、溶
融シリカ等を用いて中子を成形し、この中子を単
独で焼成、焼結していた。このため中子の生産性
が悪く寸法精度も悪くなり、特に大型のものでは
希望の精度を出すのが非常に困難で高価でもあつ
た。
また焼結による中子は崩壊性が悪く、物理的な
振動や衝撃で中子を除去するのは不可能であり、
中子の除去工程が面倒で能率の悪いものになつて
いた。
振動や衝撃で中子を除去するのは不可能であり、
中子の除去工程が面倒で能率の悪いものになつて
いた。
さらにこのように焼結を必要とする中子では、
焼結が困難な骨材例えば安価なけい砂等は使用で
きなかつた。
焼結が困難な骨材例えば安価なけい砂等は使用で
きなかつた。
（発明の目的）
本発明はこのような事情に鑑みなされたもので
あり、適切な表面の滑らかさを備え、ろう模型の
射出成形時に充分耐えると共に高い熱間強度を有
し、中子単独での焼成が不要で生産性が高く安価
でもあり、物理的手段による崩壊性が良好で中子
の除去が容易であり、さらに安価なけい砂等の骨
材も使用可能となる中子を提供することを第１の
目的とする。
あり、適切な表面の滑らかさを備え、ろう模型の
射出成形時に充分耐えると共に高い熱間強度を有
し、中子単独での焼成が不要で生産性が高く安価
でもあり、物理的手段による崩壊性が良好で中子
の除去が容易であり、さらに安価なけい砂等の骨
材も使用可能となる中子を提供することを第１の
目的とする。
また本発明はこの中子の製造方法を提供するこ
とを第２の目的とする。
とを第２の目的とする。
さらに本発明は、前記中子を使用する方法、特
にインベストメント鋳造用鋳型の製造方法を提供
することを第３の目的とする。
にインベストメント鋳造用鋳型の製造方法を提供
することを第３の目的とする。
（発明の構成）
本発明によれば第１の目的は、骨材と無機バイ
ンダとを主成分とする中子素体と、この中子素体
に表面から含浸されたバインダ含浸層と、このバ
インダ含浸層の表面にスラリを塗布して形成した
コーテイング層と、このコーテイング層の外表面
に塗布されたパラフインワツクス層とを有するこ
とを特徴とする中子により達成される。
ンダとを主成分とする中子素体と、この中子素体
に表面から含浸されたバインダ含浸層と、このバ
インダ含浸層の表面にスラリを塗布して形成した
コーテイング層と、このコーテイング層の外表面
に塗布されたパラフインワツクス層とを有するこ
とを特徴とする中子により達成される。
また第２の目的は、以下の工程からなることを
特徴とする中子の製造方法、 (a) 骨材と無機バインダとを混練する工程； (b) この混練物を中子型に注入し硬化して中子素
体を成形する工程； (c) この硬化した中子素体をバインダに浸漬し、
中子素体の表面からバインダを含浸させる工
程； (d) このバインダを含浸した中子素体にスラリを
コーテイングした後乾燥する工程； (e) このコーテイング層にパラフインワツクスを
塗布する工程； により達成される。
特徴とする中子の製造方法、 (a) 骨材と無機バインダとを混練する工程； (b) この混練物を中子型に注入し硬化して中子素
体を成形する工程； (c) この硬化した中子素体をバインダに浸漬し、
中子素体の表面からバインダを含浸させる工
程； (d) このバインダを含浸した中子素体にスラリを
コーテイングした後乾燥する工程； (e) このコーテイング層にパラフインワツクスを
塗布する工程； により達成される。
さらに第３の目的は、以下の工程からなること
を特徴とするインベストメント鋳造用鋳型の製造
方法： (a) 骨材と無機バインダとを混練する工程； (b) この混練物を中子型に注入し硬化して中子素
体を成形する工程； (c) この硬化した中子素体をバインダに浸漬し、
中子素体の表面からバインダを含浸させる工
程； (d) このバインダを含浸した中子素体にスラリを
コーテイングした後乾燥する工程； (e) このコーテイング層の表面にパラフインワツ
クスを塗布する工程； (f) この中子を型内に位置決めしてこの型内に消
失模型材を注入し、この中子を鋳ぐるんだ消失
模型を形成する工程； (g) この消失模型にスラリおよびスタツコ粒を交
互に複数回塗布して耐火物層を形成し乾燥する
工程； (h) この消失模型を消失させて鋳型を形成する工
程； (i) 前記中子と前記耐火物層とを同時に焼成する
工程； により達成される。
を特徴とするインベストメント鋳造用鋳型の製造
方法： (a) 骨材と無機バインダとを混練する工程； (b) この混練物を中子型に注入し硬化して中子素
体を成形する工程； (c) この硬化した中子素体をバインダに浸漬し、
中子素体の表面からバインダを含浸させる工
程； (d) このバインダを含浸した中子素体にスラリを
コーテイングした後乾燥する工程； (e) このコーテイング層の表面にパラフインワツ
クスを塗布する工程； (f) この中子を型内に位置決めしてこの型内に消
失模型材を注入し、この中子を鋳ぐるんだ消失
模型を形成する工程； (g) この消失模型にスラリおよびスタツコ粒を交
互に複数回塗布して耐火物層を形成し乾燥する
工程； (h) この消失模型を消失させて鋳型を形成する工
程； (i) 前記中子と前記耐火物層とを同時に焼成する
工程； により達成される。
（実施例）
第１図は本発明の一実施例の工程流れ図。第２
図はその各工程の説明図である。
図はその各工程の説明図である。
まず中子の主原料として骨材と無機バインダと
を混練する。骨材としては例えば、 けい砂 90重量％ シリカフラワー 10重量％ を混合して用いる。ここにけい砂はJIS規格
G5901（1954）の規定による７号程度の粒度のも
のが望ましい。
を混練する。骨材としては例えば、 けい砂 90重量％ シリカフラワー 10重量％ を混合して用いる。ここにけい砂はJIS規格
G5901（1954）の規定による７号程度の粒度のも
のが望ましい。
バインダとしては珪酸ソーダ（水ガラス）の３
号程度のものを用い、主原料全体重量の８％程度
を骨材に少量ずつ加えながら混練する（ステツプ
１００）。
号程度のものを用い、主原料全体重量の８％程度
を骨材に少量ずつ加えながら混練する（ステツプ
１００）。
なおこの混練は、室温20℃、湿度55％の雰囲気
中で20分程度行うが、混練後は直ちに密封する。
これは珪酸ソーダが大気中の炭酸ガスによつて硬
化する性質を持つため、これによる混練後の原料
が硬化するのを防ぐためである。
中で20分程度行うが、混練後は直ちに密封する。
これは珪酸ソーダが大気中の炭酸ガスによつて硬
化する性質を持つため、これによる混練後の原料
が硬化するのを防ぐためである。
このように混練した原料は中子の型（図示せ
ず）内に供給し、中子素体１０（第２図Ａ）を成
形する（ステツプ１０２）。この場合型内に高温
（140゜〜150℃位）の空気を送り込んで硬化させ
る。なおCO2プロセスを用いて中子素体１０を硬
化させてもよい。すなわち予め60〜80℃に熱した
木型などの型を用いて中子素体を成形し、この型
のブローホール、分割面などから炭酸ガスを吹き
こんで硬化させるものである。このように無機バ
インダの働きにより、ろう模型の射出成形に充分
耐えうる強度を中子に持たせることが可能にな
る。
ず）内に供給し、中子素体１０（第２図Ａ）を成
形する（ステツプ１０２）。この場合型内に高温
（140゜〜150℃位）の空気を送り込んで硬化させ
る。なおCO2プロセスを用いて中子素体１０を硬
化させてもよい。すなわち予め60〜80℃に熱した
木型などの型を用いて中子素体を成形し、この型
のブローホール、分割面などから炭酸ガスを吹き
こんで硬化させるものである。このように無機バ
インダの働きにより、ろう模型の射出成形に充分
耐えうる強度を中子に持たせることが可能にな
る。
次にこの成形した中子素体１０をバインダに数
分間浸漬してバインダ含浸層１２を形成する（ス
テツプ１０４、第２図Ｂ）。このバインダとして
はエチルシリケートやコロイダルシリカを用い
る。このバインダは中子素体１０の表面から適度
の深さまで浸み込み、熱間強度を増大させる作用
を持つ。すなわち前記ステツプ１００において、
骨材に混入する珪酸ソーダは通常200℃位まで充
分な強度を保持しこれを超えると強度が急激に低
下するが、このステツプ１０４で含浸させるバイ
ンダは200〜1000℃で充分な熱間強度を中子に持
たせる作用を有するものである。
分間浸漬してバインダ含浸層１２を形成する（ス
テツプ１０４、第２図Ｂ）。このバインダとして
はエチルシリケートやコロイダルシリカを用い
る。このバインダは中子素体１０の表面から適度
の深さまで浸み込み、熱間強度を増大させる作用
を持つ。すなわち前記ステツプ１００において、
骨材に混入する珪酸ソーダは通常200℃位まで充
分な強度を保持しこれを超えると強度が急激に低
下するが、このステツプ１０４で含浸させるバイ
ンダは200〜1000℃で充分な熱間強度を中子に持
たせる作用を有するものである。
次にこのようにバインダを含浸させた中子素体
１０のバインダ含浸層１２にスラリを塗布する
（ステツプ１０６、第２図Ｃ）。このスラリは、微
粒のフイラ（砂粒）にバインダ（粘結材）および
水を混ぜて半固形状とした流体であり、懸濁し流
動性をもつものである。例えばこのスラリは、フ
イラとしてジルコンフラワー350番を、またバイ
ンダとしてエチルシリケートを用いた水溶液を用
いることができる。
１０のバインダ含浸層１２にスラリを塗布する
（ステツプ１０６、第２図Ｃ）。このスラリは、微
粒のフイラ（砂粒）にバインダ（粘結材）および
水を混ぜて半固形状とした流体であり、懸濁し流
動性をもつものである。例えばこのスラリは、フ
イラとしてジルコンフラワー350番を、またバイ
ンダとしてエチルシリケートを用いた水溶液を用
いることができる。
このスラリは、スラリ槽に中子素体１０を浸漬
するデイツピング法、スラリを噴霧するスプレー
法、あるいは中子素体１０と噴霧器との間に静電
圧を印加して噴霧を行う静電塗装法等により塗布
することができる。例えばデイツピング法の場合
には、中子素体１０をスラリ槽に約600秒浸漬す
る。なおこのスラリを塗布するステツプ１０６の
前に、バインダ含浸層１２を形成した中子素体１
０を乾燥させておいてもよい。
するデイツピング法、スラリを噴霧するスプレー
法、あるいは中子素体１０と噴霧器との間に静電
圧を印加して噴霧を行う静電塗装法等により塗布
することができる。例えばデイツピング法の場合
には、中子素体１０をスラリ槽に約600秒浸漬す
る。なおこのスラリを塗布するステツプ１０６の
前に、バインダ含浸層１２を形成した中子素体１
０を乾燥させておいてもよい。
このようにして中子素体１０のバインダ含浸層
１２の表面にスラリを塗布し含浸させることによ
り、コーテイング層１４を形成する。これにより
前記中子素体１０の表面粗さを改善し、表面を滑
らかにできる。また鋳込み時における鋳型と溶湯
とのモールドリアクシヨンの改善が可能で、さら
に中子の熱間強度を一層向上させることも可能と
なる。このようにスラリを塗布した後、乾燥す
る。例えば温度28℃、湿度50％、風速1m／secの
風によつて約３時間乾燥する。なお大型の中子の
場合にはさらに電子レンジなどで10分程度追加乾
燥する。
１２の表面にスラリを塗布し含浸させることによ
り、コーテイング層１４を形成する。これにより
前記中子素体１０の表面粗さを改善し、表面を滑
らかにできる。また鋳込み時における鋳型と溶湯
とのモールドリアクシヨンの改善が可能で、さら
に中子の熱間強度を一層向上させることも可能と
なる。このようにスラリを塗布した後、乾燥す
る。例えば温度28℃、湿度50％、風速1m／secの
風によつて約３時間乾燥する。なお大型の中子の
場合にはさらに電子レンジなどで10分程度追加乾
燥する。
次にこの乾燥後の中子素体１０にパラフインワ
ツクスを塗布する（ステツプ１０８、第２図Ｄ）。
この塗布は80〜90℃で溶融したパラフインワツク
ス中にコーテイング層１４付きの中子素体１０を
10分程度浸漬することにより行う。この結果コー
テイング層１４の表面にワツクス層１６が形成さ
れ、コーテイング層１４の砂落ちが防止される。
また中子の強度を増大させ中子の移送中における
破損を防止すると共に、中子保存中に中子が吸湿
するのを防止できる。
ツクスを塗布する（ステツプ１０８、第２図Ｄ）。
この塗布は80〜90℃で溶融したパラフインワツク
ス中にコーテイング層１４付きの中子素体１０を
10分程度浸漬することにより行う。この結果コー
テイング層１４の表面にワツクス層１６が形成さ
れ、コーテイング層１４の砂落ちが防止される。
また中子の強度を増大させ中子の移送中における
破損を防止すると共に、中子保存中に中子が吸湿
するのを防止できる。
このように中子素体１０にバインダを含浸さ
せ、このバインダ含浸層１２の外側にコーテイン
グ層１４およびワツクス層１６を順次形成するこ
とにより第２図Ｄに示す中子１０Ａが完成する。
せ、このバインダ含浸層１２の外側にコーテイン
グ層１４およびワツクス層１６を順次形成するこ
とにより第２図Ｄに示す中子１０Ａが完成する。
この中子１０Ａは金型１８内に固定され、この
金型１８内にワツクスや発泡スチロールなどの消
失模型材料を射出して消失模型２０を成形する
（ステツプ１１０、第２図Ｅ）。このように中子１
０Ａを鋳ぐるんだ状態の消失模型２０の外側に
は、耐火物がコーテイングされる。すなわちスラ
リ槽に浸漬して（ステツプ１１２）スタツコ粒を
振りかける（ステツプ１１４）工程を複数回繰り
返し、所定厚さの耐火物層２２を形成する（第２
図Ｆ）。そしてこの耐火物層２２を十分に乾燥さ
せた後（ステツプ１１６）、消失模型１８を脱ろ
うして（ステツプ１１８）さらに焼成する（ステ
ツプ１２０）。脱ろうにより中子１０Ａのワツク
ス層１６も消失し、中子１０Ａの表面にはコーテ
イング層１４が現れる。この焼成によつて外側の
耐火物層２２と共に、内側のワツクス層１６を除
去した中子１０Ａも同時に焼成される。この結果
中子素体１０、バインダ含浸層１２およびコーテ
イング層１４を含むセラミツクシエル鋳型２４が
出来上がる（第２図Ｆ）。
金型１８内にワツクスや発泡スチロールなどの消
失模型材料を射出して消失模型２０を成形する
（ステツプ１１０、第２図Ｅ）。このように中子１
０Ａを鋳ぐるんだ状態の消失模型２０の外側に
は、耐火物がコーテイングされる。すなわちスラ
リ槽に浸漬して（ステツプ１１２）スタツコ粒を
振りかける（ステツプ１１４）工程を複数回繰り
返し、所定厚さの耐火物層２２を形成する（第２
図Ｆ）。そしてこの耐火物層２２を十分に乾燥さ
せた後（ステツプ１１６）、消失模型１８を脱ろ
うして（ステツプ１１８）さらに焼成する（ステ
ツプ１２０）。脱ろうにより中子１０Ａのワツク
ス層１６も消失し、中子１０Ａの表面にはコーテ
イング層１４が現れる。この焼成によつて外側の
耐火物層２２と共に、内側のワツクス層１６を除
去した中子１０Ａも同時に焼成される。この結果
中子素体１０、バインダ含浸層１２およびコーテ
イング層１４を含むセラミツクシエル鋳型２４が
出来上がる（第２図Ｆ）。
次にこの鋳型２４内、すなわち耐火物層２２と
コーテイング層１４とで挟まれる間〓に金属溶湯
が注湯される（ステツプ１２２）。そして冷却後
型ばらしされ（ステツプ１２４）、中子素体１０
とコーテイング層１４が除去される（ステツプ１
２６）。この中子素体１０およびコーテイング層
１４の除去は、例えば振動や衝撃などの物理的手
段により中子の大部分を除去し、残部を溶融苛性
ソーダに浸漬してこれを溶融することにより行わ
れる。この結果製品２６が完成する（第２図Ｇ）。
特にバインダ含浸層１２は中子素体１０の表面か
ら適度な深さまでしか含浸せず、中子素体１０の
中心部分にはバインダは浸入しないので、中子の
崩壊性が非常に良好で中子の除去が容易である。
コーテイング層１４とで挟まれる間〓に金属溶湯
が注湯される（ステツプ１２２）。そして冷却後
型ばらしされ（ステツプ１２４）、中子素体１０
とコーテイング層１４が除去される（ステツプ１
２６）。この中子素体１０およびコーテイング層
１４の除去は、例えば振動や衝撃などの物理的手
段により中子の大部分を除去し、残部を溶融苛性
ソーダに浸漬してこれを溶融することにより行わ
れる。この結果製品２６が完成する（第２図Ｇ）。
特にバインダ含浸層１２は中子素体１０の表面か
ら適度な深さまでしか含浸せず、中子素体１０の
中心部分にはバインダは浸入しないので、中子の
崩壊性が非常に良好で中子の除去が容易である。
この実施例ではバインダを中子素体１０に含浸
させるステツプ１０４とスラリを塗布するステツ
プ１０６とを別工程としているが、本発明の中子
は両工程を一度に処理して製作したものも含む。
すなわちスラリに含まれるバインダをステツプ１
０４に用いるものと同一としスラリ層に中子素体
を充分な時間浸漬しバインダを中子素体内に含浸
させるようにしてもよい。
させるステツプ１０４とスラリを塗布するステツ
プ１０６とを別工程としているが、本発明の中子
は両工程を一度に処理して製作したものも含む。
すなわちスラリに含まれるバインダをステツプ１
０４に用いるものと同一としスラリ層に中子素体
を充分な時間浸漬しバインダを中子素体内に含浸
させるようにしてもよい。
以上の実施例はセラミツクシエル鋳型を用いた
インベストメント法に適用したものであるが、本
発明はソリツドモールド法等の他のインベストメ
ント鋳造法にも適用できるのは勿論である。
インベストメント法に適用したものであるが、本
発明はソリツドモールド法等の他のインベストメ
ント鋳造法にも適用できるのは勿論である。
また本発明に用いる骨材、バインダ等は前記実
施例に限られるものではないのは勿論である。例
えば骨材としてはけい砂に代えてアルミナ、溶融
シリカ、ジルコン、溶融ムライトなどを用いるこ
とが可能である。またこの骨材に混練する無機バ
インダとしては燐酸セメント等も使用可能であ
る。
施例に限られるものではないのは勿論である。例
えば骨材としてはけい砂に代えてアルミナ、溶融
シリカ、ジルコン、溶融ムライトなどを用いるこ
とが可能である。またこの骨材に混練する無機バ
インダとしては燐酸セメント等も使用可能であ
る。
（発明の効果）
以上のように第１の発明の中子は、骨材と無機
バインダとを主成分とする中子素体の表面からバ
インダを含浸させてバインダ含浸層を形成し、こ
のバインダ含浸層の外表面にコーテイング層を形
成し、このコーテイング層をさらにワツクス層で
被覆したものである。骨材に混練する無機バイン
ダは中子素体の強度を増大させ、バインダ含浸層
は中子の熱間強度を充分に増大させる。このため
中子単独で焼結することなくろう模型の射出成形
に耐え得る強度と、鋳型焼成および注湯時の充分
な熱間強度を持たせることができる。このように
中子単独での焼成、焼結が不要であるから生産工
程が単純になり、生産性向上とコスト低下が可能
になる。また中子は焼成が不要なので中子の寸法
精度が向上する。特に鋳型を形成する耐火物層と
同質の材料を使用すれば、中子と耐火物層との熱
膨張などのコントロールが容易であり、大型の鋳
造に好適なものになる。
バインダとを主成分とする中子素体の表面からバ
インダを含浸させてバインダ含浸層を形成し、こ
のバインダ含浸層の外表面にコーテイング層を形
成し、このコーテイング層をさらにワツクス層で
被覆したものである。骨材に混練する無機バイン
ダは中子素体の強度を増大させ、バインダ含浸層
は中子の熱間強度を充分に増大させる。このため
中子単独で焼結することなくろう模型の射出成形
に耐え得る強度と、鋳型焼成および注湯時の充分
な熱間強度を持たせることができる。このように
中子単独での焼成、焼結が不要であるから生産工
程が単純になり、生産性向上とコスト低下が可能
になる。また中子は焼成が不要なので中子の寸法
精度が向上する。特に鋳型を形成する耐火物層と
同質の材料を使用すれば、中子と耐火物層との熱
膨張などのコントロールが容易であり、大型の鋳
造に好適なものになる。
さらにバインダ含浸層は中子素体の表面から適
当な深さの部分に限られるから、中子の崩壊性が
良好であり、注湯後の中子の除去が容易になる。
当な深さの部分に限られるから、中子の崩壊性が
良好であり、注湯後の中子の除去が容易になる。
またコーテイング層が中子素体の表面を滑らか
にし、鋳造製品の中子側の表面が荒れるのを防止
できる。またこのコーテイング層は溶湯と中子と
のモールドリアクシヨンを抑制し製品表面の荒れ
を防止する働きをする。さらに鋳型の焼成時ある
いは注湯時に中子が高温になつた際にも、このコ
ーテイング層は中子の熱間強度を一層増大させて
いるので破損しにくく、鋳造歩止まりが一層向上
する。
にし、鋳造製品の中子側の表面が荒れるのを防止
できる。またこのコーテイング層は溶湯と中子と
のモールドリアクシヨンを抑制し製品表面の荒れ
を防止する働きをする。さらに鋳型の焼成時ある
いは注湯時に中子が高温になつた際にも、このコ
ーテイング層は中子の熱間強度を一層増大させて
いるので破損しにくく、鋳造歩止まりが一層向上
する。
一方ワツクス層はコーテイング層の脱落を防止
し中子の強度を増大させる作用をするから、中子
の移送時に中子を傷めるおそれがなくなる。また
中子の保存中に水分を吸収して、中子焼成時に中
子が破損するなどの不都合を防止できる。
し中子の強度を増大させる作用をするから、中子
の移送時に中子を傷めるおそれがなくなる。また
中子の保存中に水分を吸収して、中子焼成時に中
子が破損するなどの不都合を防止できる。
また第２の発明によれば、この中子の製造方法
を提供することが可能になる。
を提供することが可能になる。
また第３の発明によれば、中子を鋳型の焼成と
同時に焼成でき、この中子の最適な使用方法、す
なわちインベストメント鋳造用の鋳型の製造方法
が提供される。
同時に焼成でき、この中子の最適な使用方法、す
なわちインベストメント鋳造用の鋳型の製造方法
が提供される。
第１図は本発明の一実施例の工程流れ図、第２
図はその各工程の説明図である。 １０……中子素体、１０Ａ……中子、１２……
バインダ含浸層、１４……コーテイング層、１６
……ワツクス層、２０……消失模型、２４……鋳
型、２６……製品。
図はその各工程の説明図である。 １０……中子素体、１０Ａ……中子、１２……
バインダ含浸層、１４……コーテイング層、１６
……ワツクス層、２０……消失模型、２４……鋳
型、２６……製品。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 骨材と無機バインダとを主成分とする中子素
体と、この中子素体に表面から含浸されたバイン
ダ含浸層と、このバインダ含浸層の表面にスラリ
を塗布して形成したコーテイング層と、このコー
テイング層の外表面に塗布されたパラフインワツ
クス層とを有することを特徴とする中子。 ２ 以下の工程からなることを特徴とする中子の
製造方法： (a) 骨材と無機バインダとを混練する工程； (b) この混練物を中子型に注入し硬化して中子素
体を成形する工程； (c) この硬化した中子素体をバインダに浸漬し、
中子素体の表面からバインダを含浸させる工
程； (d) このバインダを含浸した中子素体にスラリを
コーテイングした後乾燥する工程； (e) このコーテイング層にパラフインワツクスを
塗布する工程。 ３ 前記工程(a)において、骨材はけい砂を主成分
とし、無機バインダは珪酸ソーダを主成分とする
ことを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の中
子の製造方法。 ４ 前記工程(c)において、バインダはエチルシリ
ケートおよびコロイダルシリカの少くとも一方を
含むことを特徴とする特許請求の範囲第２項記載
の中子の製造方法。 ５ 前記工程(d)において、スラリは静電塗装法に
より塗布されることを特徴とする特許請求の範囲
第２項記載の中子の製造方法。 ６ 前記工程(d)において、中子素体をスラリ槽に
浸漬することによりスラリを塗布することを特徴
とする特許請求の範囲第２項記載の中子の製造方
法。 ７ 前記工程(d)において、スラリはスプレー塗装
法により塗布されることを特徴とする特許請求の
範囲第２項記載の中子の製造方法。 ８ 以下の工程からなることを特徴とするインベ
ストメント鋳造用鋳型の製造方法： (a) 骨材と無機バインダとを混練する工程； (b) この混練物を中子型に注入し硬化して中子素
体を形成する工程； (c) この硬化した中子素体をバインダに浸漬し、
中子素体の表面からこのバインダを含浸させる
工程； (d) このバインダを含浸した中子素体にスラリを
コーテイングした後乾燥する工程； (e) このコーテイング層の表面にパラフインワツ
クスを塗布することにより中子とする工程； (f) この中子を型内に位置決めしてこの型内に消
失模型材を注入し、この中子を鋳ぐるんだ消失
模型を形成する工程； (g) この消失模型にスラリおよびスタツコ粒を交
互に複数回塗布して耐火物層を形成し乾燥する
工程； (h) この消失模型を消失させて鋳型を形成する工
程； (i) 前記中子と前記耐火物層とを同時に焼成する
工程。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61189593A JPS6349343A (ja) | 1986-08-14 | 1986-08-14 | 中子、その製造方法およびインベストメント鋳造用鋳型の製造方法 |
| CA000524644A CA1276773C (en) | 1986-08-14 | 1986-12-05 | Process for preparing mold for investment casting having therewithin mold core |
| KR1019860011079A KR910003706B1 (ko) | 1986-08-14 | 1986-12-22 | 코어, 그 제조방법 및 정밀주조용 주형의 제조방법 |
| AU66919/86A AU595567B2 (en) | 1986-08-14 | 1986-12-23 | Mold core for investment casting, process for preparing the same and process for preparing mold for investment casting having therewithin said mold core |
| EP87300010A EP0256609B1 (en) | 1986-08-14 | 1987-01-05 | Mold core for investment casting |
| DE8787300010T DE3778608D1 (de) | 1986-08-14 | 1987-01-05 | Formkern fuer metallausschmelzverfahren. |
| CN87105530A CN1033147C (zh) | 1986-08-14 | 1987-08-12 | 制备内部包含型芯的熔模铸造铸型的方法 |
| US07/332,445 US4919193A (en) | 1986-08-14 | 1989-03-31 | Mold core for investment casting, process for preparing the same and process for preparing mold for investment casting having therewithin said mold core |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61189593A JPS6349343A (ja) | 1986-08-14 | 1986-08-14 | 中子、その製造方法およびインベストメント鋳造用鋳型の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6349343A JPS6349343A (ja) | 1988-03-02 |
| JPH0262104B2 true JPH0262104B2 (ja) | 1990-12-21 |
Family
ID=16243909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61189593A Granted JPS6349343A (ja) | 1986-08-14 | 1986-08-14 | 中子、その製造方法およびインベストメント鋳造用鋳型の製造方法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4919193A (ja) |
| EP (1) | EP0256609B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6349343A (ja) |
| KR (1) | KR910003706B1 (ja) |
| CN (1) | CN1033147C (ja) |
| AU (1) | AU595567B2 (ja) |
| CA (1) | CA1276773C (ja) |
| DE (1) | DE3778608D1 (ja) |
Cited By (1)
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| CN1067358C (zh) * | 1993-12-28 | 2001-06-20 | 日本铸造技术咨询公司 | 耐火材料成形品用粘合剂 |
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- 1986-08-14 JP JP61189593A patent/JPS6349343A/ja active Granted
- 1986-12-05 CA CA000524644A patent/CA1276773C/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-12-22 KR KR1019860011079A patent/KR910003706B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1986-12-23 AU AU66919/86A patent/AU595567B2/en not_active Ceased
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1987
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- 1987-01-05 DE DE8787300010T patent/DE3778608D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-08-12 CN CN87105530A patent/CN1033147C/zh not_active Expired - Fee Related
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1989
- 1989-03-31 US US07/332,445 patent/US4919193A/en not_active Expired - Lifetime
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