JPH0257960B2 - - Google Patents

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JPH0257960B2
JPH0257960B2 JP56214204A JP21420481A JPH0257960B2 JP H0257960 B2 JPH0257960 B2 JP H0257960B2 JP 56214204 A JP56214204 A JP 56214204A JP 21420481 A JP21420481 A JP 21420481A JP H0257960 B2 JPH0257960 B2 JP H0257960B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
thermistor
base
heater
vaporization chamber
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP56214204A
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English (en)
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JPS58112599A (ja
Inventor
Nobutaka Ogata
Shigeyuki Ueda
Koji Funakoshi
Masaki Nakamura
Junichi Nakakuki
Tadashi Nakatani
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP21420481A priority Critical patent/JPS58112599A/ja
Publication of JPS58112599A publication Critical patent/JPS58112599A/ja
Publication of JPH0257960B2 publication Critical patent/JPH0257960B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は電子制御式アイロンに関するもので
ある。
従来の電気アイロンにおけるベース面(掛け
面)の温度制御はバイメタルを用いており、その
わん曲変位寸法により温度の可変を行なつている
のが大半であつた。しかしながら、このバイメタ
ル方式は構造面では簡便であるが、温度制御面で
はつぎのような欠点を有している。すなわち、 (1) 設定温度に対しオン動作時とオフ動作時の温
度差(温度の波形)が大きい。
(2) ベース温度のバイメタル受感速度に限界があ
り、入力投入後の初期と安定時に温度差が生じ
る(オーバーシユート)。
(3) バイメタル式における温度設定は一般的に操
作つまみ等を直接回転させてバイメタルと連結
する介在部品をねじまたはカム板による上下運
動に換え、その変位量により温度設定を行なつ
ていたが、多くの部品の積み重ねから構成され
るため誤差が生じやすく、生産者はその微調整
に手間がかかつていた。
なお、とくに前記(1)、(2)においてはアイロンの
基本性能に関するものであるため、合成繊維等温
度に敏感なものは繊維を傷つけることにもつなが
り、十分な管理が必要であつた。
したがつて、この発明の目的は、オーバシユー
トおよび安定状態での温度変化の幅を低減できる
とともに、温度検知誤差を低減することができる
電子制御式アイロンを提供することである。
この発明の一実施例を第1図ないし第12図に
示す。すなわち、1はアイロンのベースであり、
その上面に気化室2を形成する蓋3およびヒータ
4を備えるとともに、後述する気化室2の後部外
壁面とヒータ4の包囲部にまたがつて溝部Gを有
する肉盛段部Fを設け、その溝部G内にサーミス
タ(温度検知素子)5を内蔵したサーミスタガイ
ド6を取付け、かつ溝部Gには前記サーミスタ5
より後述する制御基板11へ結線されるリード線
7を保持するための切欠部Hを形成している。8
はベース1を被うように設けられたカバー、9は
カバー8上に設けられた遮熱板、10は遮熱板9
上に設けられた把手であり、この把手10と遮熱
板9との間に形成される空間部に電源トランス、
電力制御装置、IC、トランジスタ、抵抗、ダイ
オード、発光素子およびその他の電子部品を搭載
した制御基板11が断熱的に取付けられている。
12は把手10の後部蓋体、13は把手10の前
部に設けられた水タンクで、最上部にスチーム、
ドライの切替用ボタン14を有し、下方には気化
室2への水の供給開閉ノズル15を備え、操作桿
16の上下によつてコントロールされる。また水
タンク13は把手10の握り部近傍に設けられた
ロツクつまみ17の操作により取外すことができ
る。18は制御基板11にリード線19で結線さ
れたスイツチ基板であり、頭部20を把手10よ
り露出させたスイツチ装置21を搭載している。
22は電源コード、23はヒータのリード線であ
る。
第11図はこの電子制御式アイロンの温度制御
回路であり、概要を説明すると、交流電源E0
印加されるヒータ4はリレーRyの常開接点raの開
閉によつて制御され、このリレーRyは比較器2
4によつて制御される。前記交流電源Eの電圧を
整流ダイオード25、抵抗26および平滑コンデ
ンサ27により直流電圧に換え、この電圧を出力
切換回路28、比較器24およびリレーRyのコ
イルとドライブトランジスタQ′の直列回路に供
給する。出力切換回路28はプリセツト機能付リ
ングカウンタで構成され、各出力端にはオープン
コレクタ型の反転出力回路(図示省略)が接続さ
れ、その出力端a0〜a3に限流抵抗R7を介して温
度表示用発光ダイオードLED1〜LED4が接続さ
れ、また出力端a1〜a3にサーミスタ5を介して温
度設定用抵抗R4〜R6が接続されている。したが
つてこの出力切換回路28は、直流電圧が印加さ
れると、プリセツト機能により第1の出力端a0
みがLレベルとなり、発光ダイオードLED1が点
灯する。つぎに前記スイツチ21を押すと、外付
抵抗R1およびコンデンサC0の時定数で定まるク
ロツクパルスで出力が第2の出力端a1にシフトさ
れてこれのみがLレベルとなり、発光ダイオード
LED2が点灯するとともにサーミスタ5および抵
抗R4に電流が流れ、その接続点Pに両者の抵抗
値に基づく電位が表われる。同様にして、スイツ
チ装置21のオン操作を繰返えすと、発光ダイオ
ードLED3の点灯および抵抗R5の通電に切換わ
り、続いて発光ダイオードLED4、抵抗R6に切換
わるが、さらにスイツチ装置21をオン操作する
ともとの発光ダイオードLED1に切換わる。比較
器24は抵抗R2,R3により設定された基準電圧
とサーミスタ5と抵抗R4〜R6の接続点Pの電位
が比較され、接続点Pの電位が基準電圧より高い
とき比較器24の出力端はLレベル、逆のときH
レベルとなり、このHレベルのときベース抵抗を
介してトランジスタQのベース電流が供給され、
トランジスタQがオンになつてリレーRyコイル
が通電される。D0はリレーRyのコイルのサージ
吸収用ダイオードである。したがつて電源コード
22がコンセントに差込まれた状態では出力切換
回路28のプリセツトにより発光ダイオード
LED1が点灯し、出力端a1〜a3はHレベルのため
ヒータ4はオフであるが、スイツチ装置21を1
回オン操作すると、発光ダイオードLED2が点灯
し、サーミスタ5および抵抗R4に電流が流れそ
の接続点Pの電位が基準電圧よりも抵低くなるた
め、ヒータ4はオンとなる。ヒータ4の発熱によ
る温度上昇によりサーミスタ5の抵抗値が下が
り、接続点Pの電位が基準電圧を越えるとヒータ
4はオフとなり、温度が降下して接続点Pの電位
が基準電圧より降下するとヒータ4はオンとな
り、以降これを繰返す。スイツチ装置21を操作
して抵抗R5,R6に切換えた場合、安定状態の温
度すなわち設定温度が異なるだけで動作は同じで
ある。
さて、前記ベース1の温度を検知するサーミス
タの取付位置はバイメタルのように取付けスペー
スの条件を考慮する必要がないので取付余裕が大
きいがどこでもよいわけではなく、特にスチーム
アイロンにおいては慎重な位置決めを必要とする
が、ベース1上の可能な場所として、第9図のよ
うに、場所A〜D,X(中心線Lに対して対称位
置を含む)が考えられる。個々に検討すると、場
所Aにサーミスタ5を位置させた場合、位置ハ,
ニを結ぶ気化室外壁面とのみ近接し、スチーム
発生時においては気化室近傍は気化熱を奮われる
ため当然温度が降下する。そのためサーミスタ5
はその温度降下をすぐ検知してヒータ4への通電
が行なわれ、連続的に滴下ノズル15が開放され
ていると、その間は同じように連続通電となる。
従つて連続通電状態においては気化室2内に位置
するヒータ部4aは冷却されるが、気化室2外の
ヒータ部4bは連続加熱され、ベース1の後部の
温度は逆に上昇を続け、ドライ時に初期選択した
温度以上になる。この現象は繊維を傷める結果に
結びつくと同時に制御基板11への副射熱を高く
し電子部品の信頼性に影響を与える。また場所C
にサーミスタ5を位置させた場合は気化室2と離
れすぎ、ヒータ4からの熱を直接感知することに
なり、気化室2内の冷却とは関係なしにヒータ回
路をオフにするため気化室2は気化熱量の供給と
水の供給バランスがくずれることになる。したが
つてつぎにヒータ回路がオンした時、一度に大量
の水を気化させる現象となり、スチームの噴出状
態は強くなつたり弱くなつたりする。またこの噴
出勢いとともに気化室2と連通した位置に設けて
いるスチーム噴出孔から水洩れすることもあり品
質的に好ましくない。さらにサーミスタ5を場所
Xに位置させた場合、気化室2およびヒータ4か
ら離間するため応答速度が著しく遅れ、気化室2
およびヒータ4のそれぞれの悪現象を伴うことと
なる。したがつて前記場所A,C,Xは適当でな
い。
一方、サーミスタ5をベース1の場所Bに取付
けた場合、サーミスタ5は位置イ,ロを結ぶ気化
室2の外壁面I、位置ロ,ハを結ぶ気化室2の外
壁面、およびヒータ包囲部に近接しているた
め、ドライ時の入力投入後の温度上昇を素早く感
知し、制御回路へ信号を送り電力制御装置をオフ
にするため、余分な電力供給はなされない。また
サーミスタ5の温度が下つてくれば抵抗値が下が
り、再び制御回路が自動的にオンとなる。この動
作がくり返されることにより、温度変化の幅は小
さく、こきざみになる。また入力投入後、初期と
安定時の温度差が極端に小さくなり、所望する繊
維温度に誤差なく合わせることができる。さらに
気化室2にも近接しているためスチーム使用の場
合、気化室2の冷却にも素早く感知する。また連
続通電状態が続き、ベース1の後部温度が除々に
上昇してくると気化室2の温度より、むしろベー
ス1の後部の温度を感知することにより制御回路
をオフにする。つまりこの場所Bは気化室2の温
度とベース1の後部温度をバランスをとりながら
制御することができ、温度制御を良好にできる絶
好の位置である。
場所Dは位置イ,ロを結ぶ気化室外壁面Iとヒ
ータ包囲部Vに近接しているため、前記場所Bと
同作用がある。また第10図に示す気化室形状の
異なるものにおける場所Eも、位置イ,ホを結ぶ
気化室包囲部および包囲部に近接するため、
場所Bと同作用がある。
こうして、ベース1の場所B,D,Eのいずれ
かに前記第2図で説明したように肉盛り段部Fを
設け、かつサーミスタ5を内蔵したサーミスタガ
イド6を取付けるための溝部(凹部)Gおよびリ
ード線7の位置決め用切欠部Hを設け、サーミス
タガイド6が第8図のように取付部材29により
溝部Gに固定される。その結果、気化室外壁およ
びヒータ外壁に近接した位置にサーミスタ5を取
付けることにより、温度性能を良好にすることが
できるとともに、サーミスタ5のリード線7を位
置決め固定するためにベースの溝部Gに切欠部H
を設けガイドするように構成しているため、組立
時の張力防止にもなり温度に敏感でかつ、外力に
対して強度の弱いサーミスタ5を適正位置に収納
させることができる等の利点を有する。
第12図は時間に対するベース1の温度変化を
示してあり、実線がこの実施例、破線がバイメタ
ルを用いた場合である。この比較から明らかなよ
うに電源投入初期から安定状態に至る温度幅t1
も、安定状態における温度幅t2も実施例の方が小
さくなつている。
以上のように、この発明の電子制御式アイロン
は、ヒータによつて加熱されるベースと、このベ
ースに形成された気化室と、前記ベースの温度を
検知するサーミスタとを備え、前記サーミスタを
前記ヒータと前記気化室の双方に近接配置したた
め、最適のベース温度を検知でき、しかも従来の
バイメタル式と比較して安定状態およびオーバシ
ユートにおける温度幅を低減できるとともに誤差
やばらつきを低減できるという効果がある。特に
本発明のアイロンではドライとスチームのいずれ
の状態で使用されても、サーミスタは常に良好な
熱応答性を発揮して正確な温度制御を行う。すな
わち、ドライのときはサーミスタを保持する肉盛
部がヒータ包囲部に連設して位置するところか
ら、設定温度に対し的確にヒータの通電が制御で
きる。またドライで使用される場合も、気化室へ
の水の供給によつて同気化室の温度が低下する
と、その温度抵下気化室の外壁面に連設された肉
盛り段部に伝達されるため、サーミスタは素早く
この温度変化をキヤツチするものであり、よつ
て、ベース温度との誤差が小さくなるとともに、
熱応答性を格段に向上させることができるもので
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例の一部破断正面
図、第2図はベースの斜視図、第3図はサーミス
タの斜視図、第4図はサーミスタガイドの斜視
図、第5図はその平面図、第6図は正面図、第7
図はサーミスタを内蔵した状態のサーミスタガイ
ドの斜視図、第8図はそのベース取付状態の断面
図、第9図および第10図はサーミスタ取付場所
を示すベースの平面図、第11図は温度制御回路
図、第12図は時間−温度関係図である。 1…ベース、2…気化室、4…ヒータ、5…サ
ーミスタ、F…肉盛り段部、G…溝部。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ヒータによつて加熱されるベースと、このベ
    ースに形成した気化室と、前記ベースの温度を検
    知するサーミスタと、このサーミスタを固定する
    肉盛り段部とを備え、上記肉盛り段部の上面側に
    開放して設けた溝部に前記サーミスタを配置する
    とともに、この肉盛り段部をベースのヒータ包囲
    部と前記気化室の外壁部とに連設してベースと一
    体に形成し、前記サーミスタをヒータと気化室の
    双方に近接配置した電子制御式アイロン。
JP21420481A 1981-12-24 1981-12-24 電子制御式アイロン Granted JPS58112599A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21420481A JPS58112599A (ja) 1981-12-24 1981-12-24 電子制御式アイロン

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21420481A JPS58112599A (ja) 1981-12-24 1981-12-24 電子制御式アイロン

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58112599A JPS58112599A (ja) 1983-07-05
JPH0257960B2 true JPH0257960B2 (ja) 1990-12-06

Family

ID=16651950

Family Applications (1)

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JP21420481A Granted JPS58112599A (ja) 1981-12-24 1981-12-24 電子制御式アイロン

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JP (1) JPS58112599A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110749636A (zh) * 2014-06-03 2020-02-04 株式会社堀场先进技术 隔膜式传感器、液体分析仪以及液体分析方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55157833A (en) * 1979-04-20 1980-12-08 Gen Electric Thermostat asselbly

Patent Citations (1)

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CN110749636A (zh) * 2014-06-03 2020-02-04 株式会社堀场先进技术 隔膜式传感器、液体分析仪以及液体分析方法

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JPS58112599A (ja) 1983-07-05

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