JPH0256815A - 超電導体の製造方法 - Google Patents
超電導体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0256815A JPH0256815A JP63207661A JP20766188A JPH0256815A JP H0256815 A JPH0256815 A JP H0256815A JP 63207661 A JP63207661 A JP 63207661A JP 20766188 A JP20766188 A JP 20766188A JP H0256815 A JPH0256815 A JP H0256815A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tube
- copper
- superconductor
- copper tube
- atmosphere
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 35
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 35
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 34
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 6
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims description 5
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000013522 chelant Substances 0.000 claims description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 abstract description 8
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- UNMYWSMUMWPJLR-UHFFFAOYSA-L Calcium iodide Chemical compound [Ca+2].[I-].[I-] UNMYWSMUMWPJLR-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 1
- 229910001640 calcium iodide Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- RNRZLEZABHZRSX-UHFFFAOYSA-N diiodosilicon Chemical compound I[Si]I RNRZLEZABHZRSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 abstract 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高い超電導転移温度を有する超電導膜を形成
する超電導体の製造方法に関するものである。
する超電導体の製造方法に関するものである。
従来の技術
従来、超電導材料の最高転移温度はN b B G e
の23にであった。また実用の材料としては、Nb3S
nの17Kが最高とされ、デバイスやシステムに上記の
材料を用いるには液体ヘリウム(沸点4.2K)による
冷却を必要とするため、非常に高価であった。
の23にであった。また実用の材料としては、Nb3S
nの17Kが最高とされ、デバイスやシステムに上記の
材料を用いるには液体ヘリウム(沸点4.2K)による
冷却を必要とするため、非常に高価であった。
一方、最近セラミック系超電導材料が高い超電導転移温
度を有することの可能性が示唆され、La−Ba−Cu
−0系で40に、Ba−YCu−0系で90に級の転移
温度が得られている。
度を有することの可能性が示唆され、La−Ba−Cu
−0系で40に、Ba−YCu−0系で90に級の転移
温度が得られている。
これらの酸化物系超電導材料は、冷却に液体ネオン(沸
点27K)や液体窒素(沸点77K)が使用できること
から、超電導を応用するデバイス。
点27K)や液体窒素(沸点77K)が使用できること
から、超電導を応用するデバイス。
システムへの影響が期待されている。特にこれらの超電
導体材料のコイルや、線材化が実現できればより応用の
範囲が広がるものと期待されている。
導体材料のコイルや、線材化が実現できればより応用の
範囲が広がるものと期待されている。
発明が解決しようとする課題
Ba−Y−Cu−0系あるいは、B1−3r−Cu−0
系の酸化物超電導体は、一般に窯業的手法によって作成
されるセラミックスであり、硬いものの、もろいという
セラミックス特有の性質を有しており、線材化や複雑な
形状のものを得ることが困難である。また上記材料で薄
膜を作成する場合スパッタ法、真空蒸着法、スプレー法
等があるが、これらの方法では成膜そのものは比較的低
温でできるが、成膜後、空気中又は酸素中で約800〜
900°Cで熱処理しなければ超電導物質にならず、し
たがって耐熱性を有する無機質の基板上でなければなら
ず、また基板も大きさに限度があり、平面状のものし・
か使えないという問題がある。又基板状に形成した場合
その加工を行うことができないものである。
系の酸化物超電導体は、一般に窯業的手法によって作成
されるセラミックスであり、硬いものの、もろいという
セラミックス特有の性質を有しており、線材化や複雑な
形状のものを得ることが困難である。また上記材料で薄
膜を作成する場合スパッタ法、真空蒸着法、スプレー法
等があるが、これらの方法では成膜そのものは比較的低
温でできるが、成膜後、空気中又は酸素中で約800〜
900°Cで熱処理しなければ超電導物質にならず、し
たがって耐熱性を有する無機質の基板上でなければなら
ず、また基板も大きさに限度があり、平面状のものし・
か使えないという問題がある。又基板状に形成した場合
その加工を行うことができないものである。
課題を解決するための手段
本発明は、前記問題点を解決するため、従来のスパッタ
法や、真空蒸着法、あるいはスプレー法を用いず、まず
金属銅管内を酸化処理して、酸化銅層を形成し、その管
内にガス化した所望の元素を搬送し、熱処理により管内
の酸化w4層との反応から、超電導層を形成するもので
ある。この時の搬送ガスソースは、例えばBa、Sr、
Y、La等の元素を含有する金属キレートを加熱しなが
ら同時に酸素ガスを管内に導入して管の外部から加熱処
理により銅管内に超電導層を形成する。また搬送ガスソ
ースとして例えばBi、Ba、Sr。
法や、真空蒸着法、あるいはスプレー法を用いず、まず
金属銅管内を酸化処理して、酸化銅層を形成し、その管
内にガス化した所望の元素を搬送し、熱処理により管内
の酸化w4層との反応から、超電導層を形成するもので
ある。この時の搬送ガスソースは、例えばBa、Sr、
Y、La等の元素を含有する金属キレートを加熱しなが
ら同時に酸素ガスを管内に導入して管の外部から加熱処
理により銅管内に超電導層を形成する。また搬送ガスソ
ースとして例えばBi、Ba、Sr。
Y、La等の元素からなるハロゲン化合物をそれぞれの
蒸気圧に加熱してその蒸気をHeもしくは02、などの
ガスによって管内に導入して鋼管内部に超電導層を形成
する方法による。
蒸気圧に加熱してその蒸気をHeもしくは02、などの
ガスによって管内に導入して鋼管内部に超電導層を形成
する方法による。
作用
本発明の超電導体の製造方法は、加工性に富む金属鋼管
もしくは、金属銅構造物の内部に超電導層を簡便に、形
成し得ることを見出したものである。まず最初に金属銅
を酸化させCuO層を形成しておき、このCuO層を利
用し、金属銅表面にSrあるいはBa−Y−Cu−0系
やB1−Ca−3r−Cu−0系などの酸化物系の超電
導層を形成するものである。この方法により、超電導コ
イルなどに利用する線状の超電導体が容易に得られるも
のである。これはCu以外のBa、Sr。
もしくは、金属銅構造物の内部に超電導層を簡便に、形
成し得ることを見出したものである。まず最初に金属銅
を酸化させCuO層を形成しておき、このCuO層を利
用し、金属銅表面にSrあるいはBa−Y−Cu−0系
やB1−Ca−3r−Cu−0系などの酸化物系の超電
導層を形成するものである。この方法により、超電導コ
イルなどに利用する線状の超電導体が容易に得られるも
のである。これはCu以外のBa、Sr。
La、Y、Bi等の元素をガス状成分にして銅管内に導
入し、CuOとの反応により超電導層を形成することが
できるので、どのような複雑な構造であってもガス化し
た元素が接解できる構造を有しておれば内部に超電導層
が得られる。また超電導層の外部は金属銅よりなるため
超電導状態からオフセットした場合でも金属銅に電流が
流れシステムの保護を兼ることも可能である。
入し、CuOとの反応により超電導層を形成することが
できるので、どのような複雑な構造であってもガス化し
た元素が接解できる構造を有しておれば内部に超電導層
が得られる。また超電導層の外部は金属銅よりなるため
超電導状態からオフセットした場合でも金属銅に電流が
流れシステムの保護を兼ることも可能である。
実施例
以下、本発明の一実施例について図面にもとづいて説明
する。
する。
実施例1
図は本発明の一実施例における気相成長法による超電導
体の作製装置の概略図を示すものである。
体の作製装置の概略図を示すものである。
図において2は銅管1を窒素雰囲気中に保持するための
炉芯管でアルミナ磁器管よりなる。3はこの炉芯管を加
熱するためのヒータで、各ゾーンで個別に加熱温度が設
定し得るようになっている。
炉芯管でアルミナ磁器管よりなる。3はこの炉芯管を加
熱するためのヒータで、各ゾーンで個別に加熱温度が設
定し得るようになっている。
まず始めに、銅管1(直径12.5 mφ、内径8.0
■φ)を約800°Cとなるように加熱する。
■φ)を約800°Cとなるように加熱する。
この時、炉芯管内は窒素中に保持し、銅管内はチャンバ
ー4を通して酸素を供給する。その結果、銅管内は酸化
されCuO1iが形成される0次に鋼管を同様に加熱し
た状態でチャンバー内にハロゲン化合物5r12.Ca
I2.BiF3の蒸発皿5.7.9をそれぞれ置き、0
2雰囲気をHe雰囲気に切換えそれぞれの蒸気圧に応じ
た温度までヒータ6.8.10で加熱しそれぞれの蒸気
を銅管内に導入し、所望の膜を形成する。しかる後雰囲
気を再度0□雰囲気に切換え銅管内の内壁に超電導体を
反応により得られた。このようにして得られた超電導体
膜の組成を分析したところB i@、q Caa、*s
S r*、s Cuz、* Oxなる組成であった0本
発明によって得られた鋼管を液体窒素温度まで冷却して
超電導転移温度を求めたところ約85Kから急激な抵抗
減少が見られ79にで臨界温度Tcに達した。なお本実
施例では銅パイプを用いたが銅で内部がガスなどで処理
し得る構造のものであれば良いことはいうまでもない。
ー4を通して酸素を供給する。その結果、銅管内は酸化
されCuO1iが形成される0次に鋼管を同様に加熱し
た状態でチャンバー内にハロゲン化合物5r12.Ca
I2.BiF3の蒸発皿5.7.9をそれぞれ置き、0
2雰囲気をHe雰囲気に切換えそれぞれの蒸気圧に応じ
た温度までヒータ6.8.10で加熱しそれぞれの蒸気
を銅管内に導入し、所望の膜を形成する。しかる後雰囲
気を再度0□雰囲気に切換え銅管内の内壁に超電導体を
反応により得られた。このようにして得られた超電導体
膜の組成を分析したところB i@、q Caa、*s
S r*、s Cuz、* Oxなる組成であった0本
発明によって得られた鋼管を液体窒素温度まで冷却して
超電導転移温度を求めたところ約85Kから急激な抵抗
減少が見られ79にで臨界温度Tcに達した。なお本実
施例では銅パイプを用いたが銅で内部がガスなどで処理
し得る構造のものであれば良いことはいうまでもない。
実施例2
実施例1と同様にして酸化銅層を形成した鋼管を用いて
、Sr、Yのアセチルアセトン(S r(C5H,02
)2 、Y(C5H702)3 ]をそれぞれ加熱蒸発
チャンバー4に入れ、真空ポンプにてチャンバー4内の
圧力が1×lO°2Torrとし、加熱ヒータにて所定
の温度になるまで前記材料を加熱する。このようにして
得られた茎発ガスは銅管内に導入され、銅管内に5r−
Y−CuO系の膜が形成された。この時の銅管の加熱温
度は650°Cである。この膜についてX線による結晶
構造の解析および4端子法による超電導転移温度の測定
を行なった結果、S r 2 Y 1Cu a Oxな
る斜方晶系の単結晶膜が得られ転移温度は93にであっ
た。
、Sr、Yのアセチルアセトン(S r(C5H,02
)2 、Y(C5H702)3 ]をそれぞれ加熱蒸発
チャンバー4に入れ、真空ポンプにてチャンバー4内の
圧力が1×lO°2Torrとし、加熱ヒータにて所定
の温度になるまで前記材料を加熱する。このようにして
得られた茎発ガスは銅管内に導入され、銅管内に5r−
Y−CuO系の膜が形成された。この時の銅管の加熱温
度は650°Cである。この膜についてX線による結晶
構造の解析および4端子法による超電導転移温度の測定
を行なった結果、S r 2 Y 1Cu a Oxな
る斜方晶系の単結晶膜が得られ転移温度は93にであっ
た。
発明の効果
本発明の超電導体の製造方法によれば、銅管内における
酸化銅層とガス状ソースによって任意の組成の超電導体
が得られる。そのため銅管内に超電導体が得られること
から、所望の形状の鋼管を用いることで、コイル状など
の超電導体が極めて容易に作製できる。また銅管内に超
電導層が存在する構造を有しているため臨界温度を越え
た時のオフセント状態でも金属銅の存在でシステムを保
護できる。さらに銅管内を密閉することにより経時的変
化の無い信頼性の高い超電導体が得られる等、産業上極
めて有益な発明である。
酸化銅層とガス状ソースによって任意の組成の超電導体
が得られる。そのため銅管内に超電導体が得られること
から、所望の形状の鋼管を用いることで、コイル状など
の超電導体が極めて容易に作製できる。また銅管内に超
電導層が存在する構造を有しているため臨界温度を越え
た時のオフセント状態でも金属銅の存在でシステムを保
護できる。さらに銅管内を密閉することにより経時的変
化の無い信頼性の高い超電導体が得られる等、産業上極
めて有益な発明である。
図は本発明の一実施例における超電導体の作製装置の概
略図である。 1・・・・・・銅管、2・・・・・・炉芯管、3・・・
・・・加熱ヒータ、4・・・・・・蒸発源用チャンバー
、5.7.8・・・・・・蒸発源、6,8.to・・・
・・・加熱ヒータ。
略図である。 1・・・・・・銅管、2・・・・・・炉芯管、3・・・
・・・加熱ヒータ、4・・・・・・蒸発源用チャンバー
、5.7.8・・・・・・蒸発源、6,8.to・・・
・・・加熱ヒータ。
Claims (3)
- (1)中空状構造を有する金属鋼管の内部を酸化処理し
て酸化銅層を形成し、前記酸化銅層を有する銅管を外部
より加熱しながら管内に所望の元素のガス状ソースを輸
送原料として送り、前記銅管内壁部に気相成長させかつ
、酸化銅層との反応により酸化物系超電導体層を形成す
ることを特徴とする超電導体の製造方法。 - (2)元素のガス状ソースがハロゲン化合物よりなるこ
とを特徴とする請求項(1)記載の超電導体の製造方法
。 - (3)元素のガス状ソースが、金属キレートを用いてな
ることを特徴とする請求項(1)記載の超電導体の製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63207661A JPH0256815A (ja) | 1988-08-22 | 1988-08-22 | 超電導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63207661A JPH0256815A (ja) | 1988-08-22 | 1988-08-22 | 超電導体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0256815A true JPH0256815A (ja) | 1990-02-26 |
Family
ID=16543464
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63207661A Pending JPH0256815A (ja) | 1988-08-22 | 1988-08-22 | 超電導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0256815A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5248657A (en) * | 1991-05-13 | 1993-09-28 | General Dynamics Corporation, Space Systems Division | Method for forming internally helixed high temperature superconductor assembly |
-
1988
- 1988-08-22 JP JP63207661A patent/JPH0256815A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5248657A (en) * | 1991-05-13 | 1993-09-28 | General Dynamics Corporation, Space Systems Division | Method for forming internally helixed high temperature superconductor assembly |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1364321B (zh) | 多层制品及其制造方法 | |
EP0292959B1 (en) | Superconducting member | |
JP2711253B2 (ja) | 超伝導膜及びその形成方法 | |
JP2007521397A (ja) | 反応性蒸発による現場での薄膜の生長 | |
US6794339B2 (en) | Synthesis of YBa2CU3O7 using sub-atmospheric processing | |
Nakayama et al. | Superconductivity of Bi2Sr2Ca n− 1Cu n O y (n= 2, 3, 4, and 5) thin films prepared in situ by molecular‐beam epitaxy technique | |
EP0408753B1 (en) | Process for forming superconducting thin film | |
JPH01104774A (ja) | 酸化物超伝導体薄膜の製造方法 | |
JPH0256815A (ja) | 超電導体の製造方法 | |
EP0558268B1 (en) | Thallium-calcium-barium-copper-oxide superconductor with silver and method | |
JPH01152770A (ja) | 超電導薄膜を有する基板 | |
JPS63301424A (ja) | 酸化物超伝導体薄膜の製造方法 | |
JP2582380B2 (ja) | 超伝導材料構造 | |
CN1013813B (zh) | 高tc超导薄膜材料低温合成方法 | |
JPH01212218A (ja) | 超電導酸化物薄膜の製造方法 | |
JP2816792B2 (ja) | 超電導磁気シールド容器及びその製造方法 | |
JP2828652B2 (ja) | 超電導素子の製造方法 | |
JPH01220311A (ja) | 超電導セラミック線材の製造法 | |
JPH01316462A (ja) | 超電導セラミツク線材の製造方法 | |
JP2001332145A (ja) | 高温超電導膜の作製方法 | |
JPH05147905A (ja) | 酸化物超電導体の製造方法 | |
JPH01106479A (ja) | 超伝導材料構造 | |
JPH01208323A (ja) | 薄膜製造法 | |
JPH01106482A (ja) | 超伝導材料構造 | |
JPH01240664A (ja) | 超電導薄膜の気相合成方法 |