JPH025520A - 縦型半導体熱処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ボートトランスファーにポートハンドラー
の機能を付加するとともに、ウェーハボートのウェーハ
搬入出方向をボートトランスファーの搬送方向と直交さ
せて、ウェーハボートの搬送を可能とした駅型半導体熱
句、理装置に関する、〔従来の技術〕 半導体基板、たとえば、シリコンウェーハ（以下、ウェ
ーハという）は、ウェーハボートに積載され、ボートロ
ーダによって、反応管内に搬入される。ボートローダに
よって、ウェーハを積載したままウェーハボートを反応
管内に搬入した後、酸素ガス、水素ガスのような所定の
反応ガスが、加熱された反応管内に供給される。そして
、酸化拡散、ＣｖＤ等所定の熱処理（化学処理も含める
）が、ウェーハに施される。熱処理後、ウェーハポ〜１
・は、ボートローダによって、反応管から搬出される、 第８図、第９図に示すように、ウェーハボート１１４は
、［三下の円形状端板１３０　、１３１を複数、たとえ
ば、６本の連結棒１３２で連結して４＆成される。連結
棒１３２は、ウェーハの搬入出可能な開口１１５を形成
するようＬこ配設される。また、多数の切込み１３４が
、ｆｉｌｌ線方向に−・・定距離離反して各連結棒１３
２に設けられる。そして、開口１１５を介して搬入され
たウェーハ１」、切込み１３４に積載されて連結林間に
並列に架設され、それによって、ウェーハボート１１４
に支持される。

縦型半導体熱処理装置として、反応管の上端が開口し、
上端開口からウェーハボートを搬入、搬ｔｈする井戸型
ど称するタイプと、反応管の下端が開口し、下端開口か
らウェーハボートを搬入、搬出するベル型ど称するタイ
プとがある。係止手段が、ウェーハボートの上端（井戸
型の場合）、または、下端（ベル型の場合）に設けられ
ている、そして、この係止手段に、ウェー・ハポート支
持手段の係止片が係止されて、ウェーハボート支持手段
がウェーハボートを直立に懸下、または、支えて支持す
る。第８図に示すように、係止下段１３８は、たとえば
、上下に２段設けられた段付係止部１３９．１４０から
構成される。

公知のウェーハボートにおいて、ウェーハボート支持手
段の係止片は、側方かも、ウェーハホトの係１Ｅ部１３
９，１４０に挿入されてウェーハボート１１４を支持す
る。そして、第８図、第９図において矢印で示すように
、ウェーハボート支持手段の支持部の挿入方向は、ウェ
ーハの搬入出方向と同一になっている６ 上記のように、公知のウェーハポー）１１４は円筒形で
あるため、倒したときの転勤を防ＩＩニするよう１、第
１０図に示すように、矩形のポートハンドラーと称する
支持基台１１７　！、’：支持されたまま倒される。こ
こで、ウェーハボート１１４は開口１１５を上方にして
ポー　１・ハンドラー１１フ内に支持されるウェーハ１
２０は、ウェーハカセッ＋１１８に、たとえば２５枚ず
つ、収納されて搬送さ４１４、ウェーハトランスフ丁−
１２２によって、ウェーハカセ−／１・からウェーハポ
ー）１１４に移送、４れる。図示の例では、６個のつ、
−へカセフ）１１８から、合計１５０枚のウェーハ１２
０が、つ、−へポート１１４に積載される。

ウェーハ１２０の積性後、基部を中心に回動してポー　
トハンドラー１１７が、ウェーハボート１１４を収納し
たまま１１Ｙ立にされる。つ、〜ハボー）１１４へのウ
ェーハ１２０の搬入出方向ｉＸ軸方向として、Ｙ軸、Ｚ
輌を第１Ｏ図のようし一設定すると、ホトハンドラーの
回動軸線は、Ｚ軸と平行にのびポートハンドラーは、Ｙ
軸に沿って倒れ、かつ直立されるように構成されて（・
島る。

第１０図に示す公知の縦型半導体熱処理装とは井戸型で
あるため、ポートハンド’、−−−１１７は、ウェーハ
ボート１１４を懸下して支持づ−る、ポートハンドラー
１１７は２ウエーへポート１１４の下方の係止部１４０
に係１にされる。ポートハンドラー１１７がウェーハボ
ート１１４を懸下して直ケにされると、第１０図におい
て、右方に待機していたポー））ランスフγ〜と称する
搬送手段１１ｆｌが、ウェーハホト１１４の上方の係止
部１１に係止され、ウェーハポー　１・はポートハンド
ラー１１７からボートトランスファー１１６に移換され
る。クー１−ハボート１１４を懸下した後、ポートハン
スノγ−１１８は、ウェーハボートを懸下したまま、レ
ール１２８に沿って、Ｙ方向に動かされる２ 図示の構成では、４債の反応管１１１−１〜１１１−４
が並設され、それぞれの反応管ｊ、′：専用のボートロ
−ダ１１２がそれぞれ設（すられている、ウェーハボー
ト１１４は、ボートトランスファーｔｔＳからボートロ
ーダ１１２に移換され、ボートローダに懸下されて、反
応管１１１内に搬入される。

所定の熱処理後、ウェーハポー）　１１４は、ボートロ
ーダ１１２、ボートトランスファー１１Ｂを経てポート
ハンドラー１１７に戻される。ポートハンドラー１１７
は、直立状態でウェーハボート１１４を受は取り、それ
から、Ｙ軸に沿って水平に倒され、熱処理済のウェーハ
１２０が、ウェーハトランスファー１２２によって、ウ
ェーハカセット１１８に戻される。そして、別のウェー
ハが、ウェーハボートに搬入されて、次の搬送工程が繰
り返される。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記のように、公知の縦型半導体熱処理装置において、
ポートハンドラー１１７の回動軸線は、Ｚ軸と平行とな
り、ボートハンドラーは、Ｙ軸に沿って水平に倒され、
Ｘ軸と平行に直立される。そして、搬送中、ウェーハボ
ート１１４の開口１１５は、Ｙ方向に面し、ウェーハボ
ートはＹ軸に沿って搬送される。つまり、ウェーハボー
ト１１４の搬送方向、ウェーハボート１１４のウェーハ
搬入出方向が、いずれもＹ軸方向にあり、一致する。

このような構成では、ウェーハボー）　１１４を懸下し
たボートトランスファー１１Ｂが、搬送中、加速、減速
すると、慣性力によって、ウェーハボートの開口１１５
からウェーハ１２０が飛び出て脱落する虞れがあり、大
きな搬送速度が得られない。

また、ウェーハボート支持手段は、ボートハンドラー１
１７とボートトランスファー１１Ｂという２部材から構
成され、ウェーハボート１１４は、ポートハンドラー１
１７→ポートトランスフアー１１Ｂ＋４ボートローダ１
１２の間でそれぞれ移換される。そして、移送時間が比
較的長くかかり、ウェーハの搬送を遅延化させる原因と
なっている。

また、ウェーハボート１１４の移換作業が、２度（ポー
トハンドラー１１７峠ボートトランスフアー１１８→ボ
ートローダ１１２）も行なわれるため、移換中に、ウェ
ーハボートの落下事故が生じやすい。

更に、ウェーハボートの開口１１５からのウェーハ１２
０の飛び出し防止のために、ボートトランスファー１２
８は、スローストップ、スロースタートされる。そのた
め、この点からも、ウェーハボートの搬送が遅延化せざ
るを得ない。

このように、公知の縦型半導体熱処理装置では、大きな
搬送速度が得られないとともに、ウェハの移送に比較的
長い時間を要しているため、効率的な搬送が困難となり
１作業効率を低下させている。

この発明は、ウェーハボートからのウェーハの脱落を防
止して、ウェーハボートの搬送速度を高めるとともに、
ウェーハボートの移換中におけるウェーハポートの落下
を防止した縦型半導体熱処理装置の提供を目的としてい
る。

帽１を解決するための手段〕 この目的を達成するために、この発明の縦型半導体熱処
理装置によれば、ボートトランスファーは、ポートハン
ドラーの機能を兼ねて構成されている。

ボートトランスファーは、たとえば、搬送方向と直交す
る方向に倒れ、かつ、直立されるように回動可能に構成
されている。

また、ウェーハボートのウェーハ搬入出方向とボートト
ランスファーの搬送方向とが、直交するように構成され
ている。

〔作用〕

このような構成では、ボートトランスファーポートハン
ドラー間でのウェーハボートの移換が省略できる。

〔実施例〕

以下、図面を参照しながらこの発明の実施例について詳
細に説明子る。

第１図に示すように、この発明に係る縦塁半導体熱処理
装！１１０は、４木の反応管１１を並設してなり、対応
するボートローダ１２が各反応管の脇にそれぞれ配設さ
れている。そして、これらの反応管１１毎に、酸化等の
熱処理プロセスが遂行される。

縦型半導体熱処理装置ｉｏは、ウェーハボート１４を懸
下、支持して搬送するボートトランスファーＩＢと、ボ
ートトランスファーに支持されたウェーハボート、ウェ
ーハカセット１８間でウェーハ２０を移送するウェーハ
トランスファー２２とを具備している。

ウェーハトランスファー２２は、たとえば、特開昭１１
２−１３０５３４号に開示された公知の構成とされるウ
ェーハトランスファー２２の動作を簡単に述べると、第
１図に示すように、並設したウェーハカセット！８の下
方から昇降アーム２４が上昇して、ウェーハカセットか
らウェーハ２０を抜き取り、支持する。上昇した昇降ア
ーム２４から、ウェーハ２０がウェーハ移送部材２８に
移される。ウェーハ移送部材２Ｂは、レール２８に沿っ
てスライド可能に構成されており、矢視のようにＹ方向
にスライドされるスライドされたウェーハ移送部材２Ｂ
の下方に、後述するように、ボートトランスファー１６
が、ウェーハボート１４を懸下、支持したまま水平に寝
かされて待機している。ここで、ウェーハボートの開口
１５（第３図参照）は上方（Ｘ方向）に向いている。そ
して、別の昇降アームが、ウェーハボートの開口１５を
介して上昇し、ウェーハ移送部材２６からウェーハ２０
を受は取る。それから、昇降アームが下降し、昇降アー
ムが開口１５を通過する際、ウェーハ２０はウェーハポ
ー）１４に移される。

上記のようにして、ウェーハトランスファー２２は、ウ
ェーハカセット１８からウェーハ２０をウェハポート１
４に移送する。なお、熱処理後においては、上記と逆の
工程を経てウェーハ２０がウェーハボート！４からウェ
ーハカセット！８に戻される。

第２図、第３図に示すように、ウェーハボート１４は、
上下の円形の端板３Ｇ、３１と、端板間に架設された。

複数、たとえば、６本の連結棒３２とを備えて構成され
、多数の切込み３４が、軸線方向に一定距離離反して各
連結棒に形成されている。連結棒３２は、ウェーハ２０
の搬入出可簡な開口１５を形成するように、配設される
。ウェーハ２０は、開口１５を介して搬入され、切込み
３４に載せられて、連結林間に並列に架設される。

実施例において、縦型半導体熱処理装置！１０は井戸型
に構成され、係止手段３８が、ウェーハボートの上の端
板３０の上方に設けられている。係止手段３８は、半径
方向内方および外方に段付係止部３８．４０をそれぞれ
持つ段付形状に形成されている。そして、後述するよう
に、内方の段付係止部３Ｂにボートローダ１２が、また
は、外方の段付係止部４ｏにボートトランスファー１８
が係止されて、ウェーハボート１４を懸下、支持する。

ここで、ボートトランスファー１６は、第３図において
、紙面と直角方向に移動して係止部３９，４Ｇに係止さ
れる。これに対して、ウェーハ２０は、紙面の左側から
ウェーハボート１４に搬入出される。つまり、ウェーハ
２ｏの搬入出方向とボートトランスファーＩＢの移動方
向とは、直交することとなる。

ボートトランスファー１Ｂは、第４図に示すように、上
下に矩形の端板４２，４３を持ち、端板は４本の連結棒
４４によって連結されている。上の端板４２は円形の開
口４５を持ち、ウェーハボート１４の上端の挿通を許容
する切欠き４Ｂが、開口に連通して端板４２に形成され
ている。下の端板４３は、ブラケット４Ｂ（第５図参照
）を介して、回転体５ｏに固着され１回転体は、ケース
５！内のモータによって７回転可能に構成されている。

ホードトランスファー１Ｂは、ウェーハボート１４の上
端、下端を懸下、または、支えることによって、ウェー
ハボートを格納し、支持するように構成されている。こ
こで、ウェーハボート１４の上端は、上の端板４２の上
方に適宜の手段によって取付けられたプロテクター５２
（第４図参照）上に、積載、支持される。ウェーハボー
ト１４は８００６Ｃ程度に降温されて反応管１１から搬
出されるとはいえかなりの高温であるため、プロテクタ
ー５２は、耐熱性にすぐれた材料、たとえば、テフロン
から作られ、端板４２に類似した開口付形状に形成され
ている。

ウェーハボート保持機構５Ｂが、ボートトランスファー
ＩＢの下の端板４３に装着されている。第４図第６図に
示すように、このウェーハボート保持機構５Ｂは４個の
ローラ５８を備えて構成されている、各ローラ５Ｂは１
円錐台形付の円柱形状に形成され、ローラ側面にウェー
ハボートの下の端板３１が接触するような距離だけ交互
に離反して配列されている。そして、端板３１がローラ
側面に接触してウェーハポー）１４の下端がウェーハボ
ート保持機構５Ｂに保持され、ウェーハボートの振れが
防止される。

実施例のように、ローラ５８の先端を円錐台形とした構
成では、円錐台形面がガイド面として機能し、保持機構
５８に対するウェーハボート１４の芯出しが容易に行な
える。なお、ローラ側面に接触させる代りに、円錐台形
而上に乗せて、ウェーハポー）１４の下端を保持しても
よい。

なお、実施例では、４個のローラ５８を等角的に配設し
ているが、ローラは３個以上であれば足りる。また、ロ
ーラ５８を必ずしも等角的に配設する必要はない。

ウェーハボート１４は、以下のようにして、ボートトラ
ンスファー１Ｂに支持される。まず、ウェーハボート１
４は、ボートトランスファーの切欠き４６を介して開口
４５に挿通され、芯出しされる。それから、ウェーハボ
ート１４を下降させると、ウェーハボートの下端は、第
４図、第６図に示すように４個のローラ５８間に配設さ
れる。そして、ウェーハボートの下端は対向するローラ
の周面に接触して、動きが規制され、ウェーハボート下
端の振れが防止される。それから、ウェーハボート１４
が更に下降されると、第３図に示すように、ウェハポー
トの段付係止部４０が、ボートトランスファー１６の端
板４２上のプロテクター５２に係止されて、ウェーハボ
ート１４は懸下される。このように、懸下され、かつ、
下端の動きを規制されることにより、ウェーハボート１
４は、振れを生じることなく確実に懸下、支持される。

それから、ケース５１内のモータが起動され、回転体５
０が回転して、ボートトランスファー１ＢをＺ方向に水
平に倒す（第５図参照）、ボートトランスファー１６内
のウェーハボート１４は、開口１５を上方（Ｘ方向）に
向けて倒され、この開口を介して、ウェーハ２０が、ウ
ェーハトランスファー２２によって搬入される。

つまり、ウェーハ２０の収納された６（１ｍのウェーハ
カセット１８が、第１図に示すように、手前に並置され
ており、ウェーハカセット１日の下方から上昇した昇降
アーム２４が、ウェーハカセットからウェーハ２０を抜
取り、支持する。そして、上昇した昇降アーム２４から
、ウェーハ２０がウェーハ移送部材２Ｂに移され、ウェ
ーハを支持したウェーハ移送部材は、ボートトランスフ
ァー１６内のウェーハボート１４の上方に至るまで、レ
ール２８に沿ってＸ方向にスライドする。別の昇降アー
ムが、ウェーハボートの開口１５を介して上昇し、ウェ
ーハ移送部材２Ｂからウェーハ２０を受は取った後、下
降する。

そして、昇降アームが開口１５を通過する際、ウェーハ
２０はウェーハポー）１４に移される。

上記のようにして、ウェーハ２０が６個のウェーハカセ
ット１８からウェーハボート１４に順次移された後、ケ
ース５１内のモータが起動され、回転体５゜を回転して
、ボートトランスファー１Ｂが直立にされる。ウェーハ
２０を収納して直立されたウェーハボート１４において
、ウェーハの搬入出方向は−Ｚ力方向向いており、ボー
トトランスファー１６の搬送方向と直交する。それから
、ボートトランスファー１Ｂは、ウェーハボート１４を
懸下して、第１図において、Ｘ方向に搬送される、ウェ
ーハボート１４をＯ、ボートトランスファー１８を×と
すれば、このときのボートトランスファー１８の動きは
、第７図（Ａ）のように図示される。

ボートローダ１２は懸下シャフト１３の先端にフランジ
１３ａ（第３図参照）を持ち、このフランジがボートト
ランスファー１８の進路上に待機している、ボートトラ
ンスファー１６の搬送速度は、ボートローダ１２に接近
するにつれて徐々にダウンし、懸下シャフト１３が、ボ
ートトランスファーＩＢ内のウェーハボート１４の切欠
き４７に挿通された後、ボートトランスファーは停止さ
れ、懸下シャフトのフランジ１３ａは段付係止部３３の
直下に位置される。

そして、懸下シャフト１３が上昇すると、フランジ１３
ａは段付係止部３９に接触する０段付係止部４０がプロ
テクター５２から離反して、フランジ１３ａが段付係止
部３８に係止されるように、懸下シャフト１３はなおも
僅かに上昇する。それから、第７図（Ｂ）に示すように
、ボートトランスファー１Ｂが−Ｙ方向に移動して逃げ
ると、ウェーハボート１４は懸下シャフト１３に懸下さ
れて、ボートトランスファーからボートローダ１２に移
換される。

ウェーハボート１４を懸下したボートローダ１２は、対
応する反応管１１−１の上方まで回動され、その後、下
降されて、ウェーハボートが反応管内に搬入される（第
７図（Ｃ）参照）、そして、酸素ガス、水素ガスのよう
な所定の反応ガスが供給されて、所定の熱処理プロセス
、たとえば、酸化プロセスがウェーハボート上のウェー
ハ２０に施される。

酸化プロセスの終了後、ボートローダ１２によって、ウ
ェーハボート１４が反応管１１−１から搬出されボート
トランスファーＩＢの進路上に移動される（第７図（Ｄ
）参照）、そして、ウェーハボート１４の段付係止部４
０がボートトランスファー１８のプロテクター５２の僅
か上方に位置するまで、ボートローダ１２は、ウェーハ
ボート１４を降下させる。それから、ウェーハボートの
段付係止部４０がプロテクター５２上に位置するまで、
ボートトランスファー１８が、Ｙ方向に搬送される。そ
して、ボートローダ１２が降下して、ウェーハボート１
４はプロテクター５２ニｙ１ａさレル（第７図（Ｅ）参
照）＊’＞ｚ−”ポート１４がプロテクター５２に積載
された後も、ボートローダ１２を降下させて、懸下シャ
フトのフランジ１３ａをウェーハボートの段付係止部３
９から離反させる。それから、ボートトランスファー１
６を−Ｙ方向に搬送させると、ウェーハボート１４は、
ボートローダ１２からボートトランスファー　１Ｂに移
換される。ウェーハボー）＋４を受は取った？訃も、ボ
ートトランスファー１６は、−Ｙ方向に移動し、ウェー
ハトランスファー２２までウェーハボートを搬送する（
第７図（Ｆ）参照）、そして、ポートトランスファ−１
８はＺ方向に水平に倒され、熱処理済のウェーハ２＋１
．ウェーハトランスファー２２によって、ウェーハカセ
ット１８に戻される。

上記のように、ボートトランスファー１Ｂは、Ｙ方向、
または、−Ｙ方向に搬送されている。そしてボートトラ
ンスファー内のウェーハボートの開口１５が、もし、Ｙ
方向、または、−Ｙ方向に面していれば、ボートトラン
スファー１６の加速、減速による慣性力によって、ウェ
ーハ２０がウェーハボートから飛出して脱落しやすい、
しかし、ボートトランスファー１６の搬送中、ウェーハ
ボートの開口１５は２−Ｚ方向に面している。つまり、
ウェー／１ポート１４のウェーハ搬入出方向とボートト
ランスファー１Ｂの搬送方向とが直交している。このよ
うにウェーハボート１４のウェーハ搬入出方向とボート
トランスファー１Ｂの搬送方向とが直交する構成では、
ボートトランスファーが急激な加速、減速を行なって大
きな慣性力が生じても、ウェーハボートからのウェーハ
２０の飛出し、脱落は、ウェハポートの連結棒３２によ
って防止される。そのため、ボートトランスファー１Ｂ
の搬送速度を比較的大きくすることが可能となり、搬送
時間が短縮される。

また、この発明では、ポートトランスフ、　−１８が回
動可能に構成され、ウェー／１ポート１４を懸下、支持
したまま、倒されたボートトランスファー−とウェーハ
カセット１８との間で、ウェー／＼２０を移送している
。つまり、ボートトランスファー１Ｂが従来の構成にお
けるポートハンドラー（第１０図の参照符合１１７参照
）の機能を兼ね、ポートハンドラーが省略できる。つま
り、従来の構成において２工程のウェーハ移送作業（ウ
ェー八カセット１８０ボートハンドラー１１７　Ｍボー
トトランスファー１６）が、ｌ工程（ウェー八カセット
１８峠ボートトランスファー１Ｂ）となる、このように
、ウェハ移送作業が、２工程から１工程に短縮されるた
め、ウェーハ移送時間が大幅に削減される。またウェー
ハポー）１４の移換作業が、ボートトランスファーｔｅ
Ｈボートローダ１２の１工程となるためウェーハボート
移換時のウェーハボートの落下事故が減少する。

上記のように、図示の縦型半導体熱処理装置ｌＯによれ
ば、ボートトランスファー１Ｂの搬送速度が比較的大き
く設定でき、搬送時間が短縮されるとともに、ウェーハ
移送作業が短縮されてウェーハ移送作業が削減される。

そのため、縦型半導体熱処理装ｇｌｌＯの作業効率が改
善され、縦型半導体熱処理装置のウェーハ処理偉力が高
められる。

また、ホードトランスファー１Ｂが、ポートノーンドラ
−の機能を兼ね、ポートハンドラーが省略されるため、
縦型半導体熱処理装置１０が構成的に簡単化できる。

第７図に戻って説明を続けると、新たなウェーハ２０が
、空のウェーハボート１４に、ウェーハトランスファー
２２によって搬入される。そして、ウェーハ２Ｇの積載
されたウェーハポー）１４を懸下、支持してボートトラ
ンスファー１Ｂは、直立にされ。

Ｙ方向に移動し、ボートローダ１２まで搬送される酸化
プロセスの遂行中、次のサイクルが開始される。つまり
、別のウェーハボート＋４が、空のボートトランスファ
ー１８内でプロテクター５２上に懸下され、ボートトラ
ンスファーとともに水平に倒される。そして、別のウェ
ーハ２０を収納して予め準備されたウェーハカセット１
８から、ウェーハトランスファー２２によって、ウェー
ハがウェーハボート１４に移換される。

それから、上記と同様にして、反応管１１−３，１ｌ−
４に、ウェーハ２０は、ウェーハボート１４に積載され
て、搬入される。そして、所定の熱処理プロセスが、ウ
ェーハ２０に順次族される。

ボートローダ１２、ボートトランスファー１６、ウェー
ハトランスファー２２は、所定のプログラムに従って動
作し、その動作は制御パネル８０を操作して適当に制御
される。

ボートトランスファー１Ｂを直立にしたまま、ウェーハ
ポー１−１４へのウェーハ２０の搬入用を行なってもよ
い、しかし、実施例のように、ウェーハボート１４への
ウェーハ２０の搬入用の際、ウェーハボートを支持する
ボートトランスファー１Ｇが水平に倒され、搬送すると
き、直立にされる構成では、ウェーハ移送部材の昇降ア
ーム２４を昇降させることによって、ウェーハが移送さ
れる。そのため、ウェーハトランスファー２２の構成が
簡単化されるとともに、ウェーハ２０の搬入用が、迅速
、容易に行なえる。

また、ボートトランスファーＩＢを反応管１１（１１−
１〜１ｌ−４）の並設方向と同一方向に倒してもよいし
かし、実施例に示すように、ボートトランスファー１６
が奥行方向に倒れ、ウェーハトランスファー２２も奥行
方向に配列された構成では、横方向の全長が短縮できる
利点がある。特に、この構成では、モニターテレビもウ
ェーハトランスファー２２と並べて奥行方向に配列でき
るため、効率的な配列が可能となり、据付は面積が減少
する。

上述した実施例は、この発明を説明するためのものであ
り、この発明を同等限定するものでなくこの発明の技術
範囲内で変形、改造等の施されたものも全てこの発明に
包含されることはいうまでもない。

たとえば、実施例では、ウェーハボートのウェーハ搬入
出方向とボートトランスファーの搬送方向とが直交して
いる。しかし、慣性力に起因するウェーハの飛出しを防
止できれば足り、ウェーハ搬入出方向と搬送方向とが厳
格に直交せず、若干ずれていても、「直交」という概念
に包含されるまた、ボートトランスファーは、水平に倒
されているが、ウェーハの搬入用のしやすさは考慮して
、若干傾斜させた場合も「水平」の概念に含まれる。

更に、ボートトランスファーは、ウェーハボートを懸下
し、直立に搬送されているが、寝かせたまま、ボートト
ランスファーを搬送してもよい。

実施例において、この発明の縦型半導体熱処理装置は、
上端の開口した井戸型に構成されているしかし、下端の
開口したベル型の縦型半導体熱処理装置にもこの発明が
応用できることはいうまでもない。

〔発明の効果〕

上記のように、この発明に係る縦型半導体熱処理装置に
よれば、従来の構成におけるポートハンドラーの機能を
ボートトランスファーが有し、ウェーハカセット、ボー
トトランスファー間でのウェーハの直接的な移送が可能
となる。そのため、ウェーハの移送時間が短縮される。

また、ウェーハボートが、ボートトランスファー、ポー
トロ−ダ間でのみ移換されることとなり、ウェーハボー
トの落下事故が減少する。

また、ウェーハボートへのウェーハの搬入出の際、ウェ
ーハボートを支持するボートトランスファーが水平に倒
され、搬送するとき直立にされる構成では、ウェーハの
搬入出が迅速、容易に行なえる。特に、ボートトランス
ファーが奥行方向に倒れ、ウェーハトランスファーも奥
行方向に配列された構成では、横方向の全長が短縮でき
、効率的な配列が可能となって、据付は面積が減少する
ウェーハボートのウェーハ搬入出方向とボートトランス
ファーの搬送方向とが、直交している。

そのため、ボートトランスファーの加速、減速によって
大きな慣性力が生じても、ウェーハがウェーハボートか
ら飛出し脱落する虞れがない、従って、ボートトランス
ファーの搬送速度を大きくすることができ、搬送時間が
短縮されて、作業効率が改善される。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明の一実施例に係る縦型半導体熱処理
装置の概略全体図、 第２図、第３図は、ウェーハボートの概略斜視図および
側面図、 第４図は、ウェーハボート、プロテクターの装着前での
直立状態のボートトランスファーの斜視図、 第５図は、ウェーハボート、プロテクターの装着された
水平状態のボートトランスファーの斜視図。 第６図は、ウェーハボート、プロテクターの装着された
ボートトランスファーの一部破断の正面図、 第７図（Ａ）〜（Ｆ）は、ウェーハボート、ボートトラ
ンスファーの動きを概略的に示す動作図、第８図、第９
図は、ウェーハポートの斜視図および平面図、 第１０図は、公知の縦型半導体熱処理装置の概略全体図
である。 １０：縦型半導体熱処理装置、　１１（１１−１〜１ｌ
−４）：反応管、１２：ボートローダ、１３：懸下シャ
フト、１３ａ：懸下シャフトのフランジ、１４＝ウェー
／Ｘポート１５：ウェーハボートの開口、１６：ボート
トランスファー、１８二ウエー八カセツト、２０：ウェ
ーハ２２：ウェーハトランスファー、２４：昇降アーム
２６：ウェーハ移送部材、３８：ウェーハボートの係止
手段、　３９，４０：段付係止部、５０：ボートトラン
スファーの回転体、５２：プロテクター、５６：ウェー
ハボート保持機構、５８：ウェーハボート保持機構のロ
ーラ。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）ウェーハボートにウェーハを搬入出するウェーハ
   トランスファーと、 ウェーハボートを支持し、搬送するボートトランスファ
   ーと、 ウェーハとともにウェーハボートを反応管内に搬入出す
   るボートローダと、 を具備し、 ウェーハトランスファーは、ボートトランスファーに支
   持されたウェーハボートにウェーハを搬入出し、 ボートトランスファーは、ウェーハトランスファー、ボ
   ートローダ間を往復動して、ウェーハボートを搬送する
   縦型半導体熱処理装置。
2. （２）ボートトランスファーは、ウェーハボートを支持
   したまま、回動可能に構成され、 ウェーハボートへのウェーハの搬入出の際、ボートトラ
   ンスファーは倒され、ウェーハボートの開放端を上方に
   向けて、ウェーハボートを水平に支持し、 ボートトランスファーは、ウェーハボートを直立に支持
   して搬送する請求項１記載の縦型半導体熱処理装置。
3. （３）ボートトランスファーの搬送方向とウェーハボー
   トのウェーハ搬入出方向とが直交するように、ボートト
   ランスファーは、ウェーハボートを支持し、搬送する請
   求項２記載の縦型半導体熱処理装置。
4. （４）ボートトランスファーは、搬送方向と直交する方
   向に直立、水平と回動するように構成された請求項３記
   載の縦型半導体熱処理装置。