KR100513421B1 - 열처리장치의 웨이퍼 이송시스템 - Google Patents

열처리장치의 웨이퍼 이송시스템 Download PDF

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Abstract

본 발명은 열처리장치의 보트에 웨이퍼를 탑재함에 있어서, 보다 신속한 진행이 이루어질 수 있도록 하는 열처리장치의 웨이퍼 이송시스템에 관한 것으로서, 이에 대한 특징적인 구성은, 순차적으로 놓이는 캐리어를 정렬시켜 승·하강 및 전·후진 위치 이송토록 하는 캐리어 입출부; 선택적으로 회전하며, 그 회전 위치에 따라 상기 캐리어 입출부의 구동에 의해 캐리어의 적재 인출이 이루어지는 캐리어 스테이션; 및 승·하강과 회전 및 전·후진 구동하여 상기 캐리어 스테이션 상에 놓인 캐리어와 보트 사이로 웨이퍼를 이송하는 웨이퍼 트랜스퍼를 포함하여 이루어진다.

Description

열처리장치의 웨이퍼 이송시스템{The wafer transportation system of heat setting apparatus}
본 발명은 열처리장치 내에 웨이퍼를 이송토록 함에 있어서, 보다 신속한 진행이 이루어질 수 있도록 하는 열처리장치의 웨이퍼 이송시스템에 관한 것이다.
일반적으로 반도체소자의 제조를 위한 확산 또는 화학기상증착 등의 열처리공정은 가열분위기 내에서 공정가스를 투입하여 이들 가스로 하여금 웨이퍼 상에서 소망하는 형태로 반응토록 하는 것이다.
이러한 공정을 수행하는 열처리장치는 각각의 웨이퍼에 대하여 공정을 수행하는 매엽식과 복수의 웨이퍼를 탑재하여 동시에 공정을 수행토록 하는 배치식으로 구분하며, 여기서는 배치식으로 공정을 수행하는 열처리장치와 이에 대한 웨이퍼의 이송관계에 대하여 설명하기로 한다.
먼저 종래 기술을 살펴보면, 도 1 또는 도 2에 도시한 바와 같이, 열처리공정을 수행하기 위한 복수 웨이퍼(W)들은 일정 매수로 제한하는 캐리어(C)에 탑재되어 열처리장치의 로더/언로더부(10) 상에 순차적으로 놓인다(ST100). 이후 캐리어(C)는 도어(12)의 개방으로부터 그 내측에 위치한 캐리어 트랜스퍼(14)에 옮겨진다(ST102).
이러한 캐리어 트랜스퍼(14)는, 도 1에 도시한 바와 같이, 대향 위치의 캐리어(C)를 받쳐 지지하는 상태로 신축 구동하는 캐리어 트랜스퍼 암(16)을 구비하고, 이 캐리어 트랜스퍼 암(16)을 승·하강 구동시킬 뿐 아니라 로더/언로더부(10) 상에 캐리어(C)의 나열 방향을 포함하여 슬라이딩 왕복 이동하는 구성을 이룬다.
한편, 캐리어 트랜스퍼(14)는, 캐리어 트랜스퍼 암(16)으로 하여금 로더/언로더부(10)에 위치한 캐리어(C)를 지지토록 하여 그 위치로부터 인출토록 하고, 캐리어 트랜프 암(16)을 포함한 캐리어(C)를 승강 위치시키도록 함과 동시에 슬라이딩 왕복 이동시켜 상부에 있는 캐리어 스테이지(18)에 순차적인 적재 또는 배열시킨다(ST104).
이러한 과정을 반복적으로 수행함에 따라 복수 캐리어(C)들은 캐리어 스테이지(18) 상에 충분한 개수로 적재가 이루어지고, 이후 캐리어 트랜스퍼(14)는 이들 캐리어(C)들을 순차적으로 인출하여 캐리어 스테이션(20)으로 이송한다(ST106)(ST108). 이때 캐리어 트랜스퍼(14)로부터 인계 받은 캐리어 스테이션(20)은 캐리어(C) 상의 웨이퍼(W) 인출 방향을 이웃하는 웨이퍼 트랜스퍼(22)에 대향하게 위치시킨다. 이어서, 웨이퍼 트랜스퍼(22)는 승·하강과 전·후진 및 회전 구동을 반복하여 캐리어 스테이션(20) 상에 계속적으로 교체되어 놓이는 캐리어(C)로부터 웨이퍼(W)들을 인출하여 이웃하는 보트(24)에 탑재토록 한다(ST110)(ST112).
또한, 보트(24)는 상술한 과정을 통하여 충분한 개수의 웨이퍼(W)들을 탑재하게 되면, 상부에 고온 분위기를 형성하는 공정실(30)에 대하여 셔터(28)의 개방이 이루어지고, 엘리베이터(26)의 구동에 따라 승강하여 공정실(30) 내부로 투입되어 진다(ST114). 그리고, 공정실(30) 내부는 고온 분위기를 형성과 더불어 공정가스의 공급이 이루어져 웨이퍼(W)들에 대한 열처리공정이 진행된다.
한편, 상술한 과정에서 캐리어 스테이션(20) 상에 놓여 웨이퍼(W)들의 인출이 이루어진 빈 캐리어(C)는 캐리어 트랜스퍼(14)에 의해 순차적으로 인출됨과 동시에 캐리어 스테이지(18)로 이송이 이루어지고(ST118)(ST120), 웨이퍼(W)들에 대한 공정이 종료되기까지 대기한다. 즉, 상술한 캐리어 스테이션(20) 상에서는 웨이퍼(W)들을 탑재한 캐리어(C)의 투입과 웨이퍼(W)들을 인계한 빈 캐리어(C)의 인출이 캐리어 트랜스퍼(14)에 의해 반복적으로 교차하는 형식으로 진행된다.
이후, 소정 시간의 경과를 통하여 웨이퍼(W)들에 대한 공정이 종료되면, 웨이퍼(W)들은 보트(24)의 하강과 이에 대한 웨이퍼 트랜스퍼(22)의 구동에 의해 캐리어 스테이션(20) 상에 놓이는 캐리어(C)에 대하여 탑재과정을 거치고(ST116)(ST124), 이렇게 공정을 마친 웨이퍼(W)들의 탑재가 이루어진 캐리어(C)들은 캐리어 트랜스퍼(14)의 구동에 의해 순차적으로 로더/언로더부(10)로 이송된다(ST126)(ST128).
이상에서 살펴본 바와 같이, 종래 기술에 따른 열처리장치 내에서의 웨이퍼(W) 이송과정은, 로더/언로더부(10)와 캐리어 스테이지(18) 및 캐리어 스테이션(20)에 대한 캐리어 트랜스퍼(14)의 빈번한 구동을 필요로 하고, 그에 따른 많은 작업시간이 소요된다. 또한 로더/언로더부(10), 캐리어 트랜스퍼 암(16)을 포함한 캐리어 트랜스퍼(14), 캐리어 스테이지(18), 캐리어 스테이션(20)들의 배치는 열처리장치에 대한 많은 용적률을 차지하며, 이들 사이로 웨이퍼(W) 이송에 따른 복수의 인계과정을 캐리어(C)에 대한 흔들림이 있는 경우 캐리어(C)에 탑재된 웨이퍼(W)들의 추락이 빈번하게 발생하는 문제가 있다. 그리고, 상술한 각 구성부 사이에 대한 웨이퍼(W)의 이송 구간은 넓고, 더불어 그 과정에서 내부 공기의 와류를 발생시켜 주위의 파티클에 의한 오염 가능성이 증대되는 문제를 갖는다.
본 발명의 목적은, 상술한 종래 기술에 따른 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 웨이퍼의 이송에 관여하는 각 구성부의 수와 웨이퍼 이송 구간을 줄이도록 하고, 각부 구성의 구동을 단순화시키는 것으로 보다 신속한 웨이퍼의 이송이 이루어지도록 하는 열처리장치의 웨이퍼 이송시스템을 제공함에 있다.
또한, 각 구성부가 차지하는 용적률을 줄이도록 함으로써 설비규모의 축소를 도모하고, 웨이퍼 이송을 안정적으로 수행토록 하여 웨이퍼의 추락을 방지토록 하며, 주위의 오염원으로부터 웨이퍼의 오염 및 손상을 방지토록 하는 열처리장치의 웨이퍼 이송시스템을 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징적 구성은, 순차적으로 놓이는 캐리어를 정렬토록 하고, 상기 캐리어를 지지하여 승·하강 구동과 수평 위치에 대한 전·후진이 가능하도록 하며, 최초 정렬된 상기 캐리어의 웨이퍼 인출 방향을 90° 각도로 3차원 위치 이동시키는 캐리어 입출부; 선택적으로 회전하며, 그 회전 위치에 따라 상기 캐리어 입출부의 구동에 의해 캐리어를 인계 받아 적재 또는 인출이 가능토록 하는 캐리어 스테이션; 및 승·하강과 회전 및 전·후진 구동하여 상기 캐리어 스테이션 상에 놓인 캐리어와 보트 사이로 웨이퍼를 이송하는 웨이퍼 트랜스퍼를 포함하여 이루어진다.
또한, 상기 캐리어 입출부는 웨이퍼 인출 방향이 상측으로 향하도록 캐리어의 설정 위치를 지지하고, 캐리어의 웨이퍼 인출 방향이 상기 캐리어 스테이션에 대향하도록 회전 위치시키는 받침대; 상기 받침대 상에 설치되어 대향하는 상기 캐리어 스테이션에 대하여 캐리어를 투입 또는 인출토록 구동하는 캐리어 트랜스퍼 암; 및 상기 받침대를 지지하는 상태로 승·하강 이송시키는 리프트를 포함하여 이루어질 수 있다. 이러한 캐리어 입출부 구성에 더하여 상기 캐리어 트랜스퍼 암은 적어도 하나 이상의 관절을 갖는 연결 구조로 이루어져 상기 받침대와 상기 캐리어 스테이션 사이로 캐리어를 이송하는 과정에서 캐리어 상의 웨이퍼 인출 방향이 소정 각도로 회전시키도록 구성함이 바람직하다.
그리고, 상기 캐리어 스테이션은 상기 캐리어 입출부와 상기 웨이퍼 트랜스퍼 사이에서 수직하게 세워진 상태로 회전하는 중심축; 상기 중심축으로부터 원주 방향을 따라 배치되어 상기 중심축의 회전에 따라 일측 부위는 상기 캐리어 입출부로부터 캐리어의 투입 또는 인출이 이루어지고, 다른 부위는 캐리어의 웨이퍼 인출 방향이 상기 웨이퍼 트랜스퍼에 대향하여 있도록 캐리어 적재선반을 포함한 구성으로 이루어질 수 있다. 이러한 캐리어 스테이션 구성에 더하여 상기 캐리어 선반 상에는 상기 캐리어 입출부에 의해 투입이 이루어진 캐리어를 받쳐 지지하며, 상기 중심축의 회전에 따른 상기 웨이퍼 트랜스퍼에 대향하는 위치에서 캐리어상의 웨이퍼 인출 방향이 상기 웨이퍼 트랜스퍼에 대향하는 방향으로 회전시키는 턴테이블이 더 구비하여 이루어질 수 있다.
이러한 열처리장치의 웨이퍼 이송시스템 구성에 있어서, 상기 캐리어 입출부는 상기 캐리어 스테이션에 대응하여 적어도 두 개 이상의 캐리어를 동시에 투입 또는 인출 가능토록 병렬배치하고, 상기 캐리어 스테이션의 캐리어 적재선반은 설정된 회전 위치에서 상기 캐리어 입출부로부터 각각의 캐리어를 동시에 수용 가능하도록 병렬 배치토록 하여 이루어질 수 있다. 이때 상기 웨이퍼 트랜스퍼는 상기 캐리어 스테이션에 의한 병렬 배치된 각 캐리어의 웨이퍼 인출 방향에 각각 대향하도록 슬라이딩 수평 이동이 가능한 구성으로 이루어질 수 있다. 또는 상기 웨이퍼 트랜스퍼에 대향하여 상기 캐리어 스테이션의 캐리어 적재선반으로부터 지지되는 캐리어의 위치가 상기 웨이퍼 트랜스퍼에 대향하는 위치에 있도록 슬라이딩 수평이동이 가능한 구성으로 이루어질 수 있다. 그리고, 다른 구성으로는 상기 웨이퍼 트랜스퍼는 상기 캐리어 스테이션 상의 상·하측 또는 좌·우측으로 구분하고, 이에 대응하여 상기 보트의 웨이퍼 이송 영역을 각각 구분하여 이들 구분한 영역 범위의 웨이퍼 이송을 담당하도록 적어도 두 개 이상 설치한 구성으로 이루어질 수 있다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 열처리장치의 웨이퍼 이송시스템에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 설명하기로 한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 열처리장치에 대한 웨이퍼의 이송관계를 설명하기 위하여 개략적으로 나타낸 구성도이고, 도 4는 도 3의 변형 실시예를 나타낸 구성도이며, 도 5는 도 3 또는 도 4에 도시한 구성의 구동 관계를 설명하기 위하여 개략적으로 나타낸 단면 구성도이며, 도 6은 본 발명의 구성에 따른 웨이퍼 이송과정을 나타낸 흐름도로서, 종래와 동일한 부분에 대하여 동일한 부호를 부여하기로 한다.
본 발명에 따른 열처리장치 내의 웨이퍼 이송과정을 살펴보면, 도 3 내지 도 6에 도시한 바와 같이, 열처리공정을 수행하기 위한 복수 웨이퍼(W)들은 일정 매수로 제한하는 캐리어(C)에 탑재되어 열처리장치의 캐리어 입출부(40) 상의 설정 위치에 순차적으로 놓인다(ST200). 이때 캐리어 입출부(40) 상에는 캐리어(C)를 설정위치에 놓이도록 안내하는 통상의 가이드 수단을 구비하고, 이에 더하여 설정위치에 놓인 캐리어(C)를 지지하여 승·하강 구동시키거나 수평 방향에 대한 전·후진 구동 및 회전시키기 기능을 선택적으로 수행하는 수단을 더 구비한 구성으로 이루어질 수 있다.
이러한 기능을 담당하는 캐리어 입출부(40)의 일 실시 구성은, 캐리어(C)를 받쳐 지지하는 받침대(42)를 구비하며, 이 받침대(42)는, 도 3 내지 도 5에 도시한 바와 같이, 웨이퍼(W) 인출방향이 상측으로 향하여 놓이는 캐리어(C)를 그 웨이퍼(W) 인출방향이 열처리장치의 내측 방향 즉, 이웃하는 캐리어 스테이션(50)에 마주보게 회전시키도록 구성할 수 있다.
이때 캐리어(C)를 포함한 받침대(42)의 회전 방향은, 도 3 내지 도 5에 도시한 바와 같이, 수평 방향으로 설치한 회전축(44)을 회전 중심으로 하는 구성으로 이루어질 수 있다. 여기서, 상기 회전축(44)은 도 5에 도시된 것과 같이, 상기 받침대(42)를 θ각도(실질적으로 90°)로 3차원 회전 이동이 가능하도록 한다. 그 결과, 상기 받침대(42) 상에 초기에는 웨이퍼(W) 인출 방향이 수직 방향이 되도록 놓여진 캐리어(C)가 θ각도로 회전되어 웨이퍼(W) 인출 방향이 캐리어 스테이션(50)과 마주보는 방향으로 향하도록 회전되어 캐리어 스테이션(50) 측으로 이송된다.또한, 캐리어(C)의 웨이퍼(W) 인출 방향이 캐리어 스테이션(50)에 대향하여 있도록 하는 방식 이외에, 캐리어(C) 상의 웨이퍼(W) 인출 방향이 캐리어 반대 방향으로 향하도록 받침대(42)의 설정위치에 놓이도록 구성하는 것도 가능하다.이때, 상기 받침대(42)는 이웃하는 캐리어 스테이션(50)에 대향하여 승·하강 구동시키는 리프트(48)의 지지를 받는다.
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그리고, 상기 받침대(42) 상에는 캐리어(C)를 지지하여 수평 방향에 대하여 전·후진 위치 이송토록 하는 캐리어 트랜스퍼 암(46)을 구비한다. 즉, 캐리어 트랜스퍼 암(46)의 구동은 캐리어(C)의 웨이퍼(W) 인출 방향이 캐리어 스테이션(50)에 대향하는 방향으로 놓인 상태에서 캐리어(C)를 캐리어 스테이션(50)에 투입토록 이송하거나 캐리어 스테이션(50)으로부터 캐리어(C)를 인출하여 받침대(42)의 설정위치로 이송시키는 기능을 담당한다. 이러한 캐리어 트랜스퍼 암(46)은 적어도 하나 이상의 링크로 연결한 다관절 구조로 캐리어(C)의 웨이퍼(W) 인출 방향이 캐리어 스테이션(50)의 캐리어(C) 투입 위치에 일선 상에서 마주보는 경우 그 이송 과정에서 180°회전시켜 투입이 이루어지도록 구성할 수 있다.
한편, 캐리어 스테이션(50)은 상술한 캐리어 입출부(40)로부터 이격된 위치에 수직하게 세워져 설정된 각도 범위로 선택적으로 회전하는 중심축(52)이 있고, 이 중심축(52) 상에는 중심축(52)을 기준으로 하여 원주 방향을 따라 배치를 이루고, 또 중심축(52)의 길이 방향으로 배치를 이루는 캐리어 적재선반(54a, 54b)을 구비하여 이루어진다. 이러한 캐리어 적재선반(54a, 54b)들 중 중심축(52)을 기준으로 한 일측 부위에 있는 것은, 중심축(52)의 회전 위치에 따라 캐리어 입출부(40)로부터 캐리어(C)의 투입 또는 인출에 대향하고, 상대측 또는 다른 회전각 부위에 있는 것은 중심축(52)의 회전각에 따라 탑재한 캐리어(C)의 웨이퍼(W) 인출 방향이 이웃하는 웨이퍼 트랜스퍼(58a, 58b)와 마주보는 방향으로 대향한다. 이러한 캐리어 적재선반(54a, 54b) 상에는 상술한 캐리어 입출부(40)로부터 투입되는 캐리어(C)의 웨이퍼(W) 인출 방향이 내측 방향 즉, 중심축(52) 방향으로 항하여 있는 것을 중심축(52)의 회전으로 웨이퍼 트랜스퍼(58a, 58b)에 대향하여 회전 위치되는 과정에서 캐리어(C)의 웨이퍼(W) 인출 방향이 웨이퍼 트랜스퍼(58a, 58b)에 대향하여 있도록 회전시키는 턴테이블(56)을 더 구비한 구성으로 이루어질 수 있다.
한편, 상술한 캐리어 입출부(40)는, 도 3에 도시한 바와 같이, 대향 위치의 캐리어 스테이션(50)에 대하여 적어도 두 개 이상의 캐리어(C)를 동시에 투입 또는 인출 가능토록 병렬 배치하거나, 도 4에 도시한 바와 같이, 캐리어 스테이션(50)에 대하여 하나의 캐리어(C)를 투입 또는 인출토록 하는 구성으로 이루어질 수 있다. 이러한 캐리어 입출부(40)에 대응하는 캐리어 스테이션(50) 또한 캐리어 적재선반(54a, 54b)의 배치를, 도 3에 도시한 바와 같이, 일 방향에 대하여 병렬 배치와 수직 배열을 이루도록 구성하거나 도 4에 도시한 바와 같이, 수직한 일렬 배열을 갖도록 구성하여 이루어질 수 있다. 그리고, 상술한 바와 같이, 캐리어 스테이션(50) 상에 캐리어 적재선반(54a, 54b)을 병렬 배치한 경우 이들 캐리어 적재선반(54a, 54b)은 이웃하는 웨이퍼 트랜스퍼(58a, 58b)에 각각 대향하도록 슬라이딩 수평 이동이 가능하게 구성하거나 또는 이러한 병렬 배치한 캐리어 적재선반(54a, 54b)에 대하여 웨이퍼 트랜스퍼(58a, 58b)가 수평 이동하여 캐리어 적재선반(54a, 54b)에 놓인 캐리어(C)에 대향하도록 구성할 수도 있는 것이다. 이에 더하여 도면에 도시하지 않았으나 적어도 하나 이상의 중심축(52)을 기준으로 하여 원주 또는 타원형상으로 회전하는 구성의 것으로 변형 실시될 수 있음은 물론이다. 그리고, 상술한 웨이퍼 트랜스퍼(58a, 58b)는 적어도 두 개 이상 구비토록 하고, 이들은 보트(24)의 웨이퍼(W)들 탑재구간을 각각 구분함과 동시에 캐리어 적재선반(54a, 54b) 상에 놓인 캐리어(C)들 중 선택적으로 구분하여 이들 구분한 사이로 웨이퍼(W)의 이송을 담당하도록 구성하여 이루어질 수 있는 것이다.
상술한 구성으로부터 웨이퍼(W)의 이송 과정을 첨부한 도 6을 참조하여 살펴보면, 먼저 일정 매수 단위로 웨이퍼(W)의 탑재가 이루어진 캐리어(C)는 생산라인으로부터 이송되어 캐리어 입출부(40)의 설정위치에 순차적으로 놓인다(ST200). 이후 캐리어 입출부(40)는 캐리어 트랜스퍼 암(46)을 구동시켜 설정위치에 놓이는 캐리어(C)를 대향하는 캐리어 스테이션(50)의 캐리어 적재선반(54a, 54b)에 순차적으로 투입시킨다(ST202).
이러한 과정을 통하여 캐리어 입출부(40)에 대향하는 부위의 캐리어 적재선반(54a, 54b) 상에 캐리어(C)의 투입이 이루어지면, 상술한 중심축(52)은 회전하여 탑재한 캐리어(C)의 웨이퍼(W) 인출 방향이 이웃하는 웨이퍼 트랜스퍼(58a, 58b)에 대향하여 있도록 회전하고, 이로부터 웨이퍼 트랜스퍼(58a, 58b)의 구동에 따른 복수 웨이퍼(W)들의 인출이 이루어진다(ST204). 이렇게 캐리어(C)로부터 웨이퍼(W)들을 인출한 웨이퍼 트랜스퍼(58a, 58b)는 계속하여 이웃하는 보트(24)에 대하여 웨이퍼(W)를 탑재토록 한다(ST206). 그리고, 보트(24)에 탑재가 이루어진 복수의 웨이퍼(W)들은 계속하여 엘리베이터(26)를 포함한 각 구성의 구동으로 공정실(30) 내부로 진행하고, 공정실(30)이 이루는 특정한 공정분위기 내에서 공정을 수행하게 된다(ST208).
한편, 웨이퍼 트랜스퍼(58a, 58b)에 의해 웨이퍼(W)들의 인출이 이루어진 빈 캐리어(C)들은 캐리어 적재선반(54a, 54b) 상에서 웨이퍼(W)들에 대한 공정이 종료되기까지 대기한다.
이후 소정시간의 경과로 열처리공정이 종료되면, 보트(24)는 공정실(30)로부터 하강하여 위치하고, 이에 대응하는 웨이퍼 트랜스퍼(58a, 58b)는 보트(24)에서 캐리어 스테이션(50) 즉, 캐리어 적재선반(54a, 54b) 상에 대기하는 빈 캐리어(C) 사이로 웨이퍼(W)들을 순차적으로 이송시킨다(ST210)(ST212). 이러한 과정으로 공정을 마친 복수 웨이퍼(W)들이 보트(24)로부터 인출되어 대응하는 캐리어(C)에 모두 탑재가 이루어지면, 캐리어 스테이션(50)의 중심축은 회전하여 캐리어 적재선반(54a, 54b) 상에 놓인 캐리어(C)들을 캐리어 입출부(40)에 대향하는 위치에 있도록 순차적으로 회전한다. 이러한 상태에서 캐리어 입출부(40) 상에 구비된 캐리어 트랜스퍼 암(46)은 캐리어 스테이션(50)으로부터 인출하여 캐리어 입출부(40)의 받침대(42) 상에 올려놓는 것으로 다음 공정으로 진행할 수 있는 상태를 이룬다(ST214)
따라서, 본 발명에 의하면, 생산라인으로부터 보트까지 웨이퍼의 이송을 담당하는 각 구성부가 캐리어 입출부와 캐리어 스테이션 및 웨이퍼 트랜스퍼로 이루어짐으로써 종래에 비교하여 웨이퍼의 이송 구간이 줄어듦과 동시에 웨이퍼의 이송이 신속하게 이루어져 그에 따른 작업시간이 단축되는 효과가 있다.
또한, 각 구성부가 차지하는 용적률이 감소하여 설비규모의 축소가 이루어지고, 웨이퍼의 이송단계를 줄임으로써 웨이퍼의 추락 가능성을 줄이며 안정적인 이송이 이루어질 뿐 아니라 웨이퍼의 오염 및 손상 가능성이 감소하는 효과가 있다.
본 발명은 구체적인 실시예에 대해서만 상세히 설명하였지만 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 변형이나 변경할 수 있음은 본 발명이 속하는 분야의 당업자에게는 명백한 것이며, 그러한 변형이나 변경은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 할 것이다.
도 1은 종래의 반도체소자 제조용 열처리장치에 대한 웨이퍼의 이송관계를 설명하기 위하여 개략적으로 나타낸 구성도이다.
도 2는 도 1의 구성에 따른 웨이퍼 이송과정을 나타낸 흐름도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 열처리장치에 대한 웨이퍼의 이송관계를 설명하기 위하여 개략적으로 나타낸 구성도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 열처리장치에 대한 웨이퍼의 이송관계를 설명하기 위하여 개략적으로 나타낸 구성도이다.
도 5는 도 3 또는 도 4에 도시한 구성의 구동 관계를 설명하기 위하여 개략적으로 나타낸 단면 구성도이다.
도 6은 본 발명의 구성에 따른 웨이퍼 이송과정을 나타낸 흐름도이다.* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
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10: 로더/언로더부 12: 도어
14: 캐리어 트랜스퍼 16, 46: 캐리어 트랜스퍼 암
18: 캐리어 스테이지 20, 50: 캐리어 스테이션
22: 웨이퍼 트랜스퍼 24: 보트
26: 엘리베이터 28: 셔터
30: 공정실 40: 캐리어 입출부
42: 받침대 44: 회전축
48: 리프트 52: 중심축
54a, 54b: 적재선반 56: 턴테이블

Claims (9)

  1. (정정) 순차적으로 놓이는 캐리어를 정렬토록 하고, 캐리어를 지지하여 승·하강 구동과 수평 위치에 대한 전·후진이 가능하도록 하며, 최초 정렬된 상기 캐리어의 웨이퍼 인출 방향을 90°각도로 3차원 위치 이동시키는 캐리어 입출부;
    선택적으로 회전하며, 그 회전 위치에 따라 상기 캐리어 입출부의 구동에 의해 캐리어를 인계 받아 적재 또는 인출이 가능토록 하는 캐리어 스테이션; 및
    승·하강과 회전 및 전·후진 구동하여 상기 캐리어 스테이션 상에 놓인 캐리어와 보트 사이로 웨이퍼를 이송하는 웨이퍼 트랜스퍼를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 열처리장치의 웨이퍼 이송시스템.
  2. (정정) 제 1 항에 있어서,
    상기 캐리어 입출부는 상기 캐리어의 웨이퍼 인출 방향이 상기 캐리어 스테이션에 대향하도록 회전 위치시키는 받침대; 상기 받침대 상에 위치한 캐리어를 상기 캐리어 스테이션 내부에 투입 또는 캐리어 스테이션 내부로부터 인출토록 구동하는 캐리어 트랜스퍼 암; 및 상기 받침대를 지지하는 상태로 승·하강 이송시키는 리프트를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 상기 열처리장치의 웨이퍼 이송시스템.
  3. (정정) 제 2 항에 있어서,
    상기 캐리어 트랜스퍼 암은 적어도 하나 이상의 관절을 갖는 연결 구조로 이루어져 상기 받침대와 상기 캐리어 스테이션 사이로 캐리어를 이송하는 과정에서 캐리어 상의 웨이퍼 인출 방향이 소정 각도로 회전되도록 구성한 것을 특징으로 하는 상기 열처리장치의 웨이퍼 이송시스템.
  4. (정정) 제 1 항에 있어서,
    상기 캐리어 스테이션은 상기 캐리어 입출부와 상기 웨이퍼 트랜스퍼 사이에서 수직하게 세워진 상태로 회전하는 중심축; 및
    상기 중심축으로부터 원주 방향을 따라 배치되어 상기 중심축의 회전에 따라 일측 부위는 상기 캐리어 입출부로부터 캐리어의 투입 또는 인출이 이루어지고, 다른 부위는 캐리어의 웨이퍼 인출 방향이 상기 웨이퍼 트랜스퍼에 대향하여 있도록 하는 캐리어 적재선반을 포함한 구성으로 이루어짐을 특징으로 하는 상기 열처리장치의 웨이퍼 이송시스템.
  5. (정정) 제 4 항에 있어서,
    상기 캐리어 적재선반 상에는 상기 캐리어 입출부에 의해 투입이 이루어진 캐리어를 받쳐 지지하며, 상기 중심축의 회전에 따른 상기 웨이퍼 트랜스퍼에 대향하는 위치에서 캐리어상의 웨이퍼 인출 방향을 상기 웨이퍼 트랜스퍼에 대향하는 방향으로 회전시키는 턴테이블을 더 구비하여 이루어짐을 특징으로 하는 상기 열처리장치의 웨이퍼 이송시스템.
  6. (정정) 제 1 항에 있어서,
    상기 캐리어 입출부는 상기 캐리어 스테이션에 대응하여 적어도 두 개 이상의 캐리어를 동시에 투입 또는 인출 가능토록 병렬배치하고, 상기 캐리어 스테이션의 캐리어 적재선반은 설정된 회전 위치에서 상기 캐리어 입출부로부터 각각의 캐리어를 동시에 수용 가능하도록 병렬 배치됨을 특징으로 하는 상기 열처리장치의 웨이퍼 이송시스템.
  7. (정정) 제 6 항에 있어서,
    상기 웨이퍼 트랜스퍼는 상기 캐리어 스테이션 내부에 병렬 배치된 각 캐리어의 웨이퍼 인출 방향에 각각 대향하도록 슬라이딩 수평 이동이 가능하도록 구성됨을 특징으로 하는 상기 열처리장치의 웨이퍼 이송시스템.
  8. (정정) 제 6 항에 있어서,
    상기 캐리어 스테이션의 병렬 배치를 이루는 각각의 상기 캐리어 적재선반은 상기 웨이퍼 트랜스퍼에 대해 각 캐리어의 웨이퍼 인출 방향이 선택적으로 대향 위치를 가질 수 있도록 슬라이딩 수평이동이 가능하도록 구성됨을 특징으로 하는 상기 열처리장치의 웨이퍼 이송시스템.
  9. (정정) 제 6 항에 있어서,
    상기 웨이퍼 트랜스퍼는 상·하측 또는 좌·우측으로 구분된 웨이퍼 스테이션에 대응하여 구분된 보트의 웨이퍼 이송 영역에 웨이퍼를 이송하기 위하여 적어도 두 개 이상 설치됨을 특징으로 하는 상기 열처리장치의 웨이퍼 이송시스템.
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