JPH0253507B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0253507B2
JPH0253507B2 JP57023153A JP2315382A JPH0253507B2 JP H0253507 B2 JPH0253507 B2 JP H0253507B2 JP 57023153 A JP57023153 A JP 57023153A JP 2315382 A JP2315382 A JP 2315382A JP H0253507 B2 JPH0253507 B2 JP H0253507B2
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JP
Japan
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output
glow discharge
down counter
power supply
discharge
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP57023153A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS58141378A (ja
Inventor
Tadashi Matsuzawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NDK Inc
Original Assignee
Nihon Denshi Kogyo KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Denshi Kogyo KK filed Critical Nihon Denshi Kogyo KK
Priority to JP2315382A priority Critical patent/JPS58141378A/ja
Publication of JPS58141378A publication Critical patent/JPS58141378A/ja
Publication of JPH0253507B2 publication Critical patent/JPH0253507B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32018Glow discharge

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は低圧ガス雰囲気中で、鉄鋼及び非鉄金
属を表面硬化処理、拡散処理等の熱処理をグロー
放電を利用して行う装置に関するものである。
一般にこの種の装置としては、雰囲気ガスをグ
ロー放電によりイオン化させ、該イオンの運動エ
ネルギーによつて被処理物を加熱処理している。
斯かる装置では、昇温初期段階は被処理物に汚物
が付着しており、アーク放電が頻繁に発生するた
め一般的には出力電力を徐々にその状態に応じて
手動で上昇させるか、プログラム制御によつて出
力を調整している。しかし、これらの制御では定
められたプログラムによつて出力の増大を計つて
いるため、被処理物の汚物付着度合によつては、
非常に昇温時間を要したり被処理物表面をアーク
放電によつて損傷させることがある。
本発明は上記の欠点を満足に解決することので
きるイオン処理装置の電源装置を提供するもの
で、その構成は所定ガス雰囲気下の気密容器、該
気密容器内に収容された被処理物、該被処理物と
前記気密容器又は周囲電極との間に高電圧を印加
してグロー放電を生起せしめるための電源を備え
た装置において、グロー放電の出力調整をD−A
変換器を介して行なう如くなし、該D−A変換器
にアツプダウンカウンターよりカウント値を入力
する如くなし、前記グロー放電の全放電電流又は
その一部を検出する手段からの信号より異常電流
を検出し、その異常電流検出時のみ短時間に出力
を遮断すると共に、該異常電流の大きさに応じて
前記アツプダウンカウンターのカウント値をステ
ツプダウンして前記遮断した出力をその遮断前よ
り低い値に復帰させる如く構成したイオン処理装
置の電源装置に特徴を有するものである。
以下図面に示す実施例に基づき説明する。第1
図は本発明の一実施例回路のブロツク図を示した
もので、電力制御系は一般に知られているように
SCR制御部、昇圧トランス部2、整流部3、電
圧検出部4、電流検出部5によつて構成されてい
る。6は3相交流電源で、該電源からの交流は
SCR制御部において電力調整され、トランス2
で昇圧された後、整流部3で直流に整流される。
該整流部の陰極端子は気密容器7内に絶縁物8を
介して挿入された電極9に接続され、又陽極はア
ース電位の気密容器に接続される。前記電極9に
は保持台10が取付けられており、被処理物11
が保持される。前記気密容器内は所望のガス雰囲
気、例えば窒素ガスを含むガス雰囲気にされ、電
極9及び被処理物と気密容器、又は別に設けた周
囲電極との間にグロー放電を生起し、そのときの
イオン衝撃により被処理物を加熱検出する。前記
電流検出部5の出力信号は放電出力の制御に使用
され、2分されその一方は比較器12及びアーク
電流検出部13に送られる。該アーク電流検出部
13の出力は2分され、一方はアーク防止回路1
4に、又他方は比較器15に送られる。比較器1
5にはアークレベル設定器16より一定レベルの
信号が供給されておりアーク電流と比較され、該
レベル以上のとき信号を発しアツプダウンカウン
ター17にダウンモード信号として送る。該アツ
プダウンカウンターにはスタート信号及びクロツ
クパルス発生器18よりクロツクパルスが送りこ
まれる。又アツプダウンカウンターには周期調整
器19及びダウンステツプ調整器20が接続され
ており、アツプモードにおけるパルスカウントの
周期を調整でき、又ダウンモードにおけるダウン
ステツプ数を調整できるようになしてある。そし
て、これらはプログラム制御可能である。アツプ
ダウンカウンターのカウント値はD−A変換器2
1に送られアナログ値に変換され比較器12に送
られる。該比較器では前述の電流検出部よりのグ
ロー放電の電流値と比較され、その差信号が位相
調整回路22に送られグロー放電の電流がD−A
変換器の値に等しくなるようにSCR制御部1が
制御される。前記アーク防止回路14の出力も位
相調整回路22に送られており、アーク放電が発
生したとき瞬間時にグロー放電出力を零にするよ
うになしてある。
斯かる装置の動作を以下に説明する。
先ず、アツプダウンカウンター17にスタート
信号を入れるとアツプモードになり、クロツクパ
ルス発生器18よりのクロツクパルスがカウント
され始める。このカウント値はD−A変換器21
に送られアナログ値に変換されるわけであるが、
スタート時にはアツプダウンカウンターには既に
最大出力の数%(第2図のa点)に相当する値が
保持されており、カウントはこれに加算されて行
なわれる。このように数%から出力の供給を始め
るのは、低い電力の場合実際にはアーク放電はほ
とんど生じないためであり、迅速な昇温を行なう
ための配慮である。前記アツプダウンカウンター
でのクロツクパルスカウントにおいて、周期調整
器19によりカウント周期が調整される。即ち、
グロー放電開始初期の段階では被処理物の表面に
汚物が多く付着しているので、アーク放電が生じ
やすく、従つて第2図の如く比較的ゆるやかな出
力上昇が行なわれるように長い周期でカウントが
なされる。而して、点bつまり、開始よりT1
間経過したならばアーク放電を生ずる恐が少なく
なるので点cの100%出力までの間(t2)カウン
ト周期を短くして出力上昇を急に行なう。このよ
うな調整は周期調整器19をプログラム制御する
ことにより容易に達成することができる。D−A
変換器からのアナログ信号は比較器12に送ら
れ、電流検出部5よりの検出信号と比較され、D
−A変換器からの信号に電流検出部からの信号が
等しくなるように位相調整回路22を介して
SCR制御部1が制御されるので、グロー放電出
力は第2図の直線に沿つて上昇していくことにな
る。このときアーク放電が発生すると、それは過
電流としてステツプ電流検出部13に検出され、
アーク防止回路14及び比較器15に送られる。
回路14はアーク放電発生と同時に第4図に拡大
図を示すように、短時間(瞬間時)で出力を
OFFにし、アーク放電の継続を阻止する。短時
間出力をOFFにした後、位相調整回路22を介
してSCR制御部1に復帰の制御信号が送られる。
比較器15ではアークレベル設定器16からの一
定レベル値と比較され、そのレベルを越えたとき
信号を発し、アツプダウンカウンター17をダウ
ンモードに切換える。これにより、アツプダウン
カウンターのカウント値はアツプモードにおける
カウント値から降下するわけであるが、ダウンス
テツプ調整器20によるステツプ量を調整するこ
とにより、一回の降下量(ステツプ)を所望に設
定できる。例えば、12ビツトのD−A変換器を用
いた場合フルビツト数は4096ステツプとなり、ダ
ウンステツプ調整器のダウンステツプ量を“5”
に設定すると、出力は5/4096%降下することに
なる。このカウンターによるカウント値は、比較
器12に送られ、電流検出部5からの放電電流の
検出信号と比較され、その放電電流の信号が前記
ダウンカウントに基づく信号と等しくなるように
SCR制御部1が制御される。このため、前記回
路14による出力OFF後の復帰は、この降下し
た出力値になる。即ち、復帰後の出力は、OFF
にする前のそれより低い値に設定されることにな
る。このとき、遮断前の出力値と遮断後の出力値
の差はアーク放電の大きさ(即ち、アーク放電の
持続時間)に対応しており、大放電の場合には比
較器15から長い時間信号が発生するのでアツプ
ダウンカウンター17のダウンカウント値は大き
くなり、復帰後の出力は低い値となる。出力の復
帰と同時にアツプダウンカウンターはアツプモー
ドとなり徐々に出力は増加していく。再びアーク
放電が生ずると前述の動作が繰返えされ、出力は
全体的に上昇していく。第3図はその状況を示し
ており、a図は比較器15の出力、bは供給出力
を示してある。アーク放電が発生していない所で
はある一定の出力増加を示すが、アーク放電が発
生すると出力は降下している。
昇温段階が完了し、設定温度に達すると一般に
使用されているようなPID制御、又は二位置制御
等によつて、被処理物温度が一定になるように制
御すれば良い。
尚、ダウンステツプ調整器20の代りに周期調
整器を用いることもできる。この場合はアーク電
流が流れた時間内はダウンカウンターが動作し続
けるため、アークの大きさに比例して出力を降下
させることができる。例えば、周期調整器を0.2
msec/ステツプに設定すると、一つのアークが
6msec続いた場合は30ステツプさがり、30/
4096%の出力降下が生ずる。又、前述では電流検
出部5によりグロー放電の総電流を検出したが、
気密容器内に被処理物と同電位のダミーを挿入
し、これに流れる電流、つまりグロー放電流の一
部を用いるようにしても良い。
以上説明したように、本発明ではアツプダウン
カウンターにより出力を徐々に増加していく過程
において、アーク放電が発生した場合、それを検
出して瞬間時に出力をOFFにすると同時に、前
記アツプダウンカウンターをダウンモードにし、
前記放電の大きさを検出してそれに応じたダウン
カウント値を得て、その値に対応する値に出力が
復帰するようになしてあるので、復帰は遮断前よ
り必ず低い値になるため、引続きアーク放電が発
生するのを極力抑えることができ、短時間で安定
したグロー放電に移向でき、一般に使用されてい
るプログラム制御、又は手動の場合のように被処
理物の温度上昇に長時間を費したり、損傷を与え
ることのない効率的なイオン処理が行なえるよう
になつた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示すブロツク図、
第2図は本発明の一実施例の出力−時間曲線を示
す図で、第3図aはアーク電流検出シグナルを示
し、bはアーク電流検出シグナルに対応して出力
−時間の制御動作説明図で、第4図は第3図bの
AA部拡大図である。 1:SCR制御部、5:電流検出部、7:気密
容器、11:被処理物、12,15:比較器、1
3:アーク電流検出部、14:アーク防止回路、
16:アークレベル設定器、17:アツプダウン
カウンター、18:クロツクパルス発生器、1
9:周期調整器、20:ダウンステツプ調整器、
21:D−A変換器、22:位相調整回路。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 所定ガス雰囲気下の気密容器、該気密容器内
    に収容された被処理物、該被処理物と前記気密容
    器又は周囲電極との間に高電圧を印加してグロー
    放電を生起せしめるための電源を備えた装置にお
    いて、グロー放電の出力調整をD−A変換器を介
    して行なう如くなし、該D−A変換器にアツプダ
    ウンカウンターよりカウント値を入力する如くな
    し、前記グロー放電の全放電電流又はその一部を
    検出する手段からの信号より異常電流を検出し、
    その異常電流検出時のみ短時間に出力を遮断する
    と共に、該異常電流の大きさに応じて前記アツプ
    ダウンカウンターのカウント値をステツプダウン
    して前記遮断した出力をその遮断前より低い値に
    復帰させるように構成したことを特徴とするイオ
    ン処理装置の電源装置。 2 前記アツプダウンカウンターは出力増加度が
    可変である特許請求の範囲第1項記載のイオン処
    理装置の電源装置。 3 前記アツプダウンカウンターのダウンステツ
    プ量は可変である特許請求の範囲第1項記載のイ
    オン処理装置の電源装置。 4 前記グロー放電が最大出力の数%出力より開
    始される特許請求の範囲第1項記載のイオン処理
    装置の電源装置。
JP2315382A 1982-02-16 1982-02-16 イオン処理装置の電源装置 Granted JPS58141378A (ja)

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JPS58141378A JPS58141378A (ja) 1983-08-22
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5435138A (en) * 1977-08-25 1979-03-15 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd Automatic returning method for abnormal discharge generating time at glow discharge processing apparatus

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5435138A (en) * 1977-08-25 1979-03-15 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd Automatic returning method for abnormal discharge generating time at glow discharge processing apparatus

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JPS58141378A (ja) 1983-08-22

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