JPH0869877A - 真空アーク溶解装置の電極制御方法 - Google Patents
真空アーク溶解装置の電極制御方法Info
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- JPH0869877A JPH0869877A JP6205370A JP20537094A JPH0869877A JP H0869877 A JPH0869877 A JP H0869877A JP 6205370 A JP6205370 A JP 6205370A JP 20537094 A JP20537094 A JP 20537094A JP H0869877 A JPH0869877 A JP H0869877A
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- Japan
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- arc
- control
- circuit
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
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- Discharge Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 既設の真空アーク溶解装置の電極位置制御に
ドリップショート制御方法を適用する。 【構成】 アーク電圧の変化からドリップショート数を
検出して電極位置を制御する真空アーク溶解装置１の電
極制御方法において、アーク電圧に含まれる交流成分
を、フィルタ２０により減衰させるようにしたものであ
る。
ドリップショート制御方法を適用する。 【構成】 アーク電圧の変化からドリップショート数を
検出して電極位置を制御する真空アーク溶解装置１の電
極制御方法において、アーク電圧に含まれる交流成分
を、フィルタ２０により減衰させるようにしたものであ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空アーク溶解装置の
電極制御方法に関する。
電極制御方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】鋼の再溶解法として真空アーク溶解法
（以下「ＶＡＲ」という）があり、主として高度の内質
を要求される鋼や合金の溶解に利用されている。この真
空アーク溶解法は、真空下で電極と鋼塊との間でアーク
放電を発生させ、溶解と凝固とを順次少量づつ続けて行
うもので、介在物の浮上分離、積層凝固により品質の改
善が進行する。
（以下「ＶＡＲ」という）があり、主として高度の内質
を要求される鋼や合金の溶解に利用されている。この真
空アーク溶解法は、真空下で電極と鋼塊との間でアーク
放電を発生させ、溶解と凝固とを順次少量づつ続けて行
うもので、介在物の浮上分離、積層凝固により品質の改
善が進行する。
【０００３】ＶＡＲプロセスの最大の目的は、積層凝固
によって凝固過程における偏析の発生を軽減することに
あり、このためには、凝固界面への溶湯供給や局部凝固
時間を小さくする必要がある。そして、これらの条件を
安定して満たすためには、均一且つ一定の溶解速度で凝
固を制御する必要がある。ＶＡＲは、溶解と凝固とが同
時に行われるプロセスであり、均一、且つ一定の溶解速
度を得るためには、入熱源である真空アークエネルギが
一定になるように制御しなければならず、特に、電極と
溶鋼プール（以下「メタルプール」という）表面との間
隔（以下「アークギャップ」という）の制御と溶解速度
の制御とが必要である。
によって凝固過程における偏析の発生を軽減することに
あり、このためには、凝固界面への溶湯供給や局部凝固
時間を小さくする必要がある。そして、これらの条件を
安定して満たすためには、均一且つ一定の溶解速度で凝
固を制御する必要がある。ＶＡＲは、溶解と凝固とが同
時に行われるプロセスであり、均一、且つ一定の溶解速
度を得るためには、入熱源である真空アークエネルギが
一定になるように制御しなければならず、特に、電極と
溶鋼プール（以下「メタルプール」という）表面との間
隔（以下「アークギャップ」という）の制御と溶解速度
の制御とが必要である。
【０００４】アークギャップの変動は、溶解に使用され
るアークエネルギが銅るつぼ壁に輻射分散される等の熱
バランスの変化を誘発し、その結果、メタルプールの形
状、更には、溶解速度が変化する。溶解速度が変化する
と、局部凝固時間が変化し、マクロ偏析や鋼塊の表面肌
不良などの品質トラブルを発生させる。従って、アーク
ギャップ制御と溶解速度制御が必要となる。
るアークエネルギが銅るつぼ壁に輻射分散される等の熱
バランスの変化を誘発し、その結果、メタルプールの形
状、更には、溶解速度が変化する。溶解速度が変化する
と、局部凝固時間が変化し、マクロ偏析や鋼塊の表面肌
不良などの品質トラブルを発生させる。従って、アーク
ギャップ制御と溶解速度制御が必要となる。
【０００５】また、溶解電流値が一定であっても、アー
クギャップの変化により溶解速度が変化し、アークギャ
ップが大きくなるとアークが偏向し、マクロ欠陥を誘発
させる。更に、溶解速度制御による溶解中に、アークギ
ャップの変化などによって溶解速度が変化した場合に
は、溶解速度を補正するために電流値が増減する。これ
によって電流値が変化した場合、溶湯プール内の対流が
熱対流からローレンツ力による対流に変化し、対流の方
向が逆転するとされており、溶解速度の制御を実施する
場合でもアークギャップを一定に制御することが重要で
ある。このように、ＶＡＲ操業においてアークギャップ
制御は、最も重要な制御因子である。
クギャップの変化により溶解速度が変化し、アークギャ
ップが大きくなるとアークが偏向し、マクロ欠陥を誘発
させる。更に、溶解速度制御による溶解中に、アークギ
ャップの変化などによって溶解速度が変化した場合に
は、溶解速度を補正するために電流値が増減する。これ
によって電流値が変化した場合、溶湯プール内の対流が
熱対流からローレンツ力による対流に変化し、対流の方
向が逆転するとされており、溶解速度の制御を実施する
場合でもアークギャップを一定に制御することが重要で
ある。このように、ＶＡＲ操業においてアークギャップ
制御は、最も重要な制御因子である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】アークギャップを制御
する方法として、従来は、アーク電圧を制御する電圧制
御方法が採用されていた。しかしながら、この制御方法
は、アークギャップの変化に対するアーク電圧の変化は
殆ど認められないことから、アーク電圧の変化によりメ
タルプール表面に対する電極位置を正確に制御すること
は困難であるという問題がある。
する方法として、従来は、アーク電圧を制御する電圧制
御方法が採用されていた。しかしながら、この制御方法
は、アークギャップの変化に対するアーク電圧の変化は
殆ど認められないことから、アーク電圧の変化によりメ
タルプール表面に対する電極位置を正確に制御すること
は困難であるという問題がある。
【０００７】そこで、電圧制御に代わり溶鋼液滴が電極
先端とメタルプールとの間で短絡する現象（以下「ドリ
ップ・ショート」という）の発生頻度とアークギャップ
との間に図１に示すような一定の関係（ポアソン分布）
が成り立つことが見いだされ、ドリップ・ショートの発
生頻度を一定に保つことにより、アークギャップを制御
する制御方法（ドリップ・ショートコントロール）が採
用されてきている。
先端とメタルプールとの間で短絡する現象（以下「ドリ
ップ・ショート」という）の発生頻度とアークギャップ
との間に図１に示すような一定の関係（ポアソン分布）
が成り立つことが見いだされ、ドリップ・ショートの発
生頻度を一定に保つことにより、アークギャップを制御
する制御方法（ドリップ・ショートコントロール）が採
用されてきている。
【０００８】しかしながら、このドリップ・ショートの
検出は、電極に印加する電源の出力電圧（アーク電圧）
波形が滑らか即ち、交流から直流に変換したときの交流
成分（以下「リップル」という）が除去されて滑らかな
波形である場合には容易であるが、アーク電圧のリップ
ルが大きい場合には困難であるという問題がある。リッ
プルの小さい電源は、高価であり、従って、設備費が高
くなる。しかも、既設の電源の多くはリップルが大き
く、このためドリップ・ショート方法によるアークギャ
ップ制御を適用することは困難であり、有効な対策が要
望されている。
検出は、電極に印加する電源の出力電圧（アーク電圧）
波形が滑らか即ち、交流から直流に変換したときの交流
成分（以下「リップル」という）が除去されて滑らかな
波形である場合には容易であるが、アーク電圧のリップ
ルが大きい場合には困難であるという問題がある。リッ
プルの小さい電源は、高価であり、従って、設備費が高
くなる。しかも、既設の電源の多くはリップルが大き
く、このためドリップ・ショート方法によるアークギャ
ップ制御を適用することは困難であり、有効な対策が要
望されている。
【０００９】本発明は、上述の点に鑑みてなされたもの
で、アーク電圧電源としてリップルが大きい電源を使用
した真空アーク溶解装置に、ドリップショート制御方法
によるアークギャップ制御が可能な真空アーク溶解装置
の電極制御方法を提供することを目的とする。
で、アーク電圧電源としてリップルが大きい電源を使用
した真空アーク溶解装置に、ドリップショート制御方法
によるアークギャップ制御が可能な真空アーク溶解装置
の電極制御方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明によれば、アーク電圧の変化からドリップショ
ート数を検出して電極位置を制御する真空アーク溶解装
置の電極制御方法において、前記アーク電圧に含まれる
交流成分をフィルタにより減衰させるようにしたもので
ある。
に本発明によれば、アーク電圧の変化からドリップショ
ート数を検出して電極位置を制御する真空アーク溶解装
置の電極制御方法において、前記アーク電圧に含まれる
交流成分をフィルタにより減衰させるようにしたもので
ある。
【００１１】請求項２の方法では、減衰周波数がアーク
電圧の交流成分の周波数である帯域消去フィルタを使用
して交流成分を減衰させる。
電圧の交流成分の周波数である帯域消去フィルタを使用
して交流成分を減衰させる。
【００１２】
【作用】アーク電圧は、フィルタにより交流成分が減衰
されて平滑な波形となり、ドリップショートの発生に起
因する電圧変化の検出が容易となる。そして、発生する
ドリップショートの回数を一定に保つように電極位置即
ち、アークギャップを制御する。
されて平滑な波形となり、ドリップショートの発生に起
因する電圧変化の検出が容易となる。そして、発生する
ドリップショートの回数を一定に保つように電極位置即
ち、アークギャップを制御する。
【００１３】請求項２の方法では、減衰周波数がアーク
電圧の交流成分の周波数である帯域消去フィルタにより
アーク電圧の交流成分を減衰させる。これによりアーク
電圧波形が平滑になる。
電圧の交流成分の周波数である帯域消去フィルタにより
アーク電圧の交流成分を減衰させる。これによりアーク
電圧波形が平滑になる。
【００１４】
【実施例】以下本発明の一実施例を添付図面に基づいて
詳述する。図２は、本発明方法を適用した真空アーク溶
解（ＶＡＲ）装置の構成を示し、真空アーク溶解装置１
は、電源２、炉体３、電極４を昇降する直流モータ（以
下「ＤＣモータ」という）５、電極４のアーク電流を検
出するセンサ６、操作盤７、制御盤８、集中制御装置
９、可飽和リアクトル制御装置１０、電極制御装置１１
及びＤＣモータ制御装置１２等により構成されている。
詳述する。図２は、本発明方法を適用した真空アーク溶
解（ＶＡＲ）装置の構成を示し、真空アーク溶解装置１
は、電源２、炉体３、電極４を昇降する直流モータ（以
下「ＤＣモータ」という）５、電極４のアーク電流を検
出するセンサ６、操作盤７、制御盤８、集中制御装置
９、可飽和リアクトル制御装置１０、電極制御装置１１
及びＤＣモータ制御装置１２等により構成されている。
【００１５】電源２は、入力交流電流の通電タイミング
を制御して出力電流を制御する可飽和リアクトル１５、
可飽和リアクトル１５から入力される電圧を降圧する電
源トランス１６、電源トランス１６の出力電流を整流し
て電極４に直流電流（アーク電流）を供給する整流器
（ダイオード）１７により構成されている。この電源２
は、例えば、５０Ｈｚ、２００Ｖの交流電圧を６相半波
整流して２５Ｖの直流（脈流）に変換する。従って、こ
の整流された直流電圧（アーク電圧）のリップル周波数
は、５０（Hz）×６（相）×１（半波整流）＝３００
（Hz）である。尚、リップルは、約６〜１０Ｖ程度あ
り、かなり大きい。
を制御して出力電流を制御する可飽和リアクトル１５、
可飽和リアクトル１５から入力される電圧を降圧する電
源トランス１６、電源トランス１６の出力電流を整流し
て電極４に直流電流（アーク電流）を供給する整流器
（ダイオード）１７により構成されている。この電源２
は、例えば、５０Ｈｚ、２００Ｖの交流電圧を６相半波
整流して２５Ｖの直流（脈流）に変換する。従って、こ
の整流された直流電圧（アーク電圧）のリップル周波数
は、５０（Hz）×６（相）×１（半波整流）＝３００
（Hz）である。尚、リップルは、約６〜１０Ｖ程度あ
り、かなり大きい。
【００１６】操作盤７は、運転選択切換スイッチ１８を
備えており、自動、半自動操作等を選択するようになっ
ている。制御盤８は、リレーシーケンス回路１９を備え
ており、操作盤７からの指令信号により作動して集中制
御装置９に格納されている各種の溶解電流のパターンの
中から指定された運転に応じた電流パターンを設定する
と共に、ＤＣモータ制御装置１２に制御信号を出力す
る。可飽和リアクトル制御装置１０は、集中制御装置９
から入力される電流パターンに応じて可飽和リアクトル
１５を制御すると共に、センサ６から入力される実際の
アーク電流により補正する。
備えており、自動、半自動操作等を選択するようになっ
ている。制御盤８は、リレーシーケンス回路１９を備え
ており、操作盤７からの指令信号により作動して集中制
御装置９に格納されている各種の溶解電流のパターンの
中から指定された運転に応じた電流パターンを設定する
と共に、ＤＣモータ制御装置１２に制御信号を出力す
る。可飽和リアクトル制御装置１０は、集中制御装置９
から入力される電流パターンに応じて可飽和リアクトル
１５を制御すると共に、センサ６から入力される実際の
アーク電流により補正する。
【００１７】電極制御装置１１は、アーク電圧を取り込
みリップルを減衰して平滑にするフィルタ回路２０、こ
の平滑したアーク電圧からドリップショートの発生個数
を検出し、設定個数と検出個数との差に応じた信号を出
力するドリップショート検出回路２１、ドリップショー
ト検出回路２１から出力される信号をＰＩＤ補正して電
極制御信号として出力するＰＩＤ制御回路２２により構
成されている。フィルタ回路２０は、帯域消去フィルタ
で、図３に示すようにアーク電圧のリップル周波数３０
０Ｈｚの交流成分を減衰させる。これにより図４（ａ）
のようなリップルの大きなアーク電圧が、同図（ｂ）の
ように平滑される。ＤＣモータ制御装置１２は、制御盤
８から入力される制御信号によりＤＣモータ５を制御し
て電極４の位置即ち、アークギャップを制御すると共
に、電極制御装置１１から入力される制御信号により補
正される。
みリップルを減衰して平滑にするフィルタ回路２０、こ
の平滑したアーク電圧からドリップショートの発生個数
を検出し、設定個数と検出個数との差に応じた信号を出
力するドリップショート検出回路２１、ドリップショー
ト検出回路２１から出力される信号をＰＩＤ補正して電
極制御信号として出力するＰＩＤ制御回路２２により構
成されている。フィルタ回路２０は、帯域消去フィルタ
で、図３に示すようにアーク電圧のリップル周波数３０
０Ｈｚの交流成分を減衰させる。これにより図４（ａ）
のようなリップルの大きなアーク電圧が、同図（ｂ）の
ように平滑される。ＤＣモータ制御装置１２は、制御盤
８から入力される制御信号によりＤＣモータ５を制御し
て電極４の位置即ち、アークギャップを制御すると共
に、電極制御装置１１から入力される制御信号により補
正される。
【００１８】以下に作用を説明する。操作盤７の運転選
択スイッチ１８が例えば、自動操作に選択されると、制
御盤８のリレーシーケンス回路１９が集中制御装置９の
所定の電流パターンを選択し、当該集中制御装置９から
選択された電流パターンに応じた制御信号が可飽和リア
クトル制御装置１０に出力される。可飽和リアクトル制
御装置１０は、電流パターンに応じて可飽和リアクトル
１５の入力電流の通電タイミングを制御して出力電流を
制御する。整流器１７から出力された直流電流は、アー
ク電流として電極４に供給される。これによりワークが
真空の雰囲気下で溶解と凝固が順次繰り返され、溶解さ
れたワークの液滴即ち、溶鋼液滴が電極４の先端とメタ
ルプールとの間で短絡してドリップショートが発生す
る。アーク電流は、センサ６により検出され可飽和リア
クトル制御装置１０にフィードバックされる。
択スイッチ１８が例えば、自動操作に選択されると、制
御盤８のリレーシーケンス回路１９が集中制御装置９の
所定の電流パターンを選択し、当該集中制御装置９から
選択された電流パターンに応じた制御信号が可飽和リア
クトル制御装置１０に出力される。可飽和リアクトル制
御装置１０は、電流パターンに応じて可飽和リアクトル
１５の入力電流の通電タイミングを制御して出力電流を
制御する。整流器１７から出力された直流電流は、アー
ク電流として電極４に供給される。これによりワークが
真空の雰囲気下で溶解と凝固が順次繰り返され、溶解さ
れたワークの液滴即ち、溶鋼液滴が電極４の先端とメタ
ルプールとの間で短絡してドリップショートが発生す
る。アーク電流は、センサ６により検出され可飽和リア
クトル制御装置１０にフィードバックされる。
【００１９】一方、電極４のアーク電圧（図７（ａ））
は、電極制御装置１１に取り込まれ、フィルタ回路２０
により平滑された後（図７（ｂ）、ドリップショート検
出回路２１に供給される。尚、図７（ａ）においてアー
ク電圧のリップル分は包絡線で示してある。ドリップシ
ョート検出回路２１は、図５のフローチャートに示すよ
うにフィルタ回路２０から入力されたアーク電圧の平均
電圧Ｖmを検出し（ステップＳ１）、この平均電圧Ｖmの
変化分ΔＶが当該平均電圧Ｖmから所定電圧（例えば、
６Ｖ）以下に降下したか否かを確認し（ステップＳ
２）、降下したときには当該降下している時間Ｔを測定
する（ステップＳ３）。そして、この時間Ｔが所定時間
内例えば、0.1 ms≦Ｔ≦200 msの範囲内にあるときには
ドリップショートであると判断する（ステップＳ４）。
図６に、アーク電圧のドリップショート発生時における
変化の一例を示す。
は、電極制御装置１１に取り込まれ、フィルタ回路２０
により平滑された後（図７（ｂ）、ドリップショート検
出回路２１に供給される。尚、図７（ａ）においてアー
ク電圧のリップル分は包絡線で示してある。ドリップシ
ョート検出回路２１は、図５のフローチャートに示すよ
うにフィルタ回路２０から入力されたアーク電圧の平均
電圧Ｖmを検出し（ステップＳ１）、この平均電圧Ｖmの
変化分ΔＶが当該平均電圧Ｖmから所定電圧（例えば、
６Ｖ）以下に降下したか否かを確認し（ステップＳ
２）、降下したときには当該降下している時間Ｔを測定
する（ステップＳ３）。そして、この時間Ｔが所定時間
内例えば、0.1 ms≦Ｔ≦200 msの範囲内にあるときには
ドリップショートであると判断する（ステップＳ４）。
図６に、アーク電圧のドリップショート発生時における
変化の一例を示す。
【００２０】ドリップショート検出回路２１は、検出し
たドリップショートの回数を測定し（図７（ｄ））、設
定されたドリップショートの発生回数と検出されたドリ
ップショートの発生回数との差分に応じた信号を出力す
る。ＰＩＤ制御回路２２は、ドリップショート検出回路
２１から入力される信号に応じたＰＩＤ動作の制御信号
を出力してＤＣモータ制御装置１２に供給する。ＤＣモ
ータ制御装置１２は、ＰＩＤ制御回路２２から入力され
る制御信号に応じてＤＣモータ５を制御して電極４の位
置即ち、アークギャップを制御し、ドリップショートの
発生頻度を一定に保つ。これにより電極４の位置（アー
クギャップ）が正確に制御される。
たドリップショートの回数を測定し（図７（ｄ））、設
定されたドリップショートの発生回数と検出されたドリ
ップショートの発生回数との差分に応じた信号を出力す
る。ＰＩＤ制御回路２２は、ドリップショート検出回路
２１から入力される信号に応じたＰＩＤ動作の制御信号
を出力してＤＣモータ制御装置１２に供給する。ＤＣモ
ータ制御装置１２は、ＰＩＤ制御回路２２から入力され
る制御信号に応じてＤＣモータ５を制御して電極４の位
置即ち、アークギャップを制御し、ドリップショートの
発生頻度を一定に保つ。これにより電極４の位置（アー
クギャップ）が正確に制御される。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ア
ーク電圧の電源に交流成分の大きい電源を使用した真空
アーク溶解装置にドリップショートによる電極位置制御
方法を適用することが可能となり、既存の真空アーク溶
解装置を有効に使用することができ、経済的である。ま
た、アーク電圧源として交流成分の大きい電源を使用す
ることが出来るために設備費を安価にすることができ
る。
ーク電圧の電源に交流成分の大きい電源を使用した真空
アーク溶解装置にドリップショートによる電極位置制御
方法を適用することが可能となり、既存の真空アーク溶
解装置を有効に使用することができ、経済的である。ま
た、アーク電圧源として交流成分の大きい電源を使用す
ることが出来るために設備費を安価にすることができ
る。
【００２２】請求項２の方法では、帯域消去フィルタを
使用することにより電極制御装置を安価に構成すること
ができる。
使用することにより電極制御装置を安価に構成すること
ができる。
【図１】真空アーク溶解装置におけるアークギャップと
ドリップショーの発生回数との関係を示すグラフであ
る。
ドリップショーの発生回数との関係を示すグラフであ
る。
【図２】本発明に係る真空アーク溶解装置の電極制御方
法を実施するための真空アーク溶解装置の一実施例を示
す構成図である。
法を実施するための真空アーク溶解装置の一実施例を示
す構成図である。
【図３】図２のフィルタ回路の特性を示すグラフであ
る。
る。
【図４】図２のフィルタ回路の入力側と出力側のアーク
電圧波形を示すグラフである。
電圧波形を示すグラフである。
【図５】図２のドリップショート検出回路の作動を示す
フローチャートである。
フローチャートである。
【図６】アーク電圧のドリップ発生時における変化を示
すグラフである。
すグラフである。
【図７】図２の真空アーク溶解装置におけるアーク電圧
波形、フィルタ回路により平滑されたアーク電圧波形及
び全ドリップ数、ドリップショート数の関係を示すグラ
フである。
波形、フィルタ回路により平滑されたアーク電圧波形及
び全ドリップ数、ドリップショート数の関係を示すグラ
フである。
１ 真空アーク溶解装置 ２ 電源 ３ 炉体 ４ 電極 ５ ＤＣモータ ６ センサ ７ 操作盤 ８ 制御盤 ９ 集中制御装置 １０ 可飽和リアクトル制御装置 １１ 電極制御装置 １２ ＤＣモータ制御装置 １５ 可飽和リアクトル １６ 電源トランス １７ 整流器 １８ 運転選択スイッチ １９ リレーシーケンス回路 ２０ フィルタ回路 ２１ ドリップショート検出回路 ２２ ＰＩＤ制御回路
Claims (2)
- 【請求項１】 アーク電圧の変化からドリップショート
数を検出して電極位置を制御する真空アーク溶解装置の
電極制御方法において、前記アーク電圧に含まれる交流
成分をフィルタにより減衰させることを特徴とする真空
アーク溶解装置の電極制御方法。 - 【請求項２】 減衰周波数がアーク電圧の交流成分の周
波数である帯域消去フィルタを使用する請求項１の真空
アーク溶解装置の電極制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6205370A JPH0869877A (ja) | 1994-08-30 | 1994-08-30 | 真空アーク溶解装置の電極制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6205370A JPH0869877A (ja) | 1994-08-30 | 1994-08-30 | 真空アーク溶解装置の電極制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0869877A true JPH0869877A (ja) | 1996-03-12 |
Family
ID=16505725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6205370A Pending JPH0869877A (ja) | 1994-08-30 | 1994-08-30 | 真空アーク溶解装置の電極制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0869877A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003068445A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-07 | Hitachi Zosen Corp | プラズマ式溶融炉における電極昇降制御装置 |
| JP2010116581A (ja) * | 2008-11-11 | 2010-05-27 | Toho Titanium Co Ltd | 真空アーク溶解炉を用いたチタンインゴットの溶製方法 |
| JP2011088762A (ja) * | 2009-10-20 | 2011-05-06 | Japan Siper Quarts Corp | 石英ガラスルツボ製造装置 |
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1994
- 1994-08-30 JP JP6205370A patent/JPH0869877A/ja active Pending
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