JP2014502004A - 真空アーク炉における電極ギャップの閉ループ制御のための方法および装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、真空アーク炉10の設計の概略を示す。アーク炉10は、溶解材料32を受容する水冷炉室22を本質的に備える。高さが可変な電極30が、溶解材料内に垂直に浸され、あるいは電極供給棒20および電極駆動装置12によって上方へ引き上げられる。X−Y配向装置26を用いて、水冷炉室22内において電極30の水平位置を調整することができる。センサ装置28は、電極の垂直位置および水平位置を判定するとともに、駆動速度を記録する。水冷炉室22は、真空生成装置24を用いて真空下または低圧下に置かれ、それによって、周囲雰囲気による雰囲気不純化を伴うことなく、溶解材料32への電極材料の溶落を認識することができる。電極は、電源ライン18を用いて電源装置16によって電力が供給され、電極端において、スパーク生成によって電力が溶解材料へと伝達され、そこから電源装置16へ電力が流れ戻る。できるだけ均一に溶解プロセスが実行されるように、電力ギャップの閉ループ制御用装置は、垂直送り速度および駆動装置12の位置に、閉ループ制御を実行する。液滴短絡に基づく閉ループ制御のための必要条件は、液滴短絡の信頼できる検出である。アーク電圧によって重なり合わされたパルス状短絡は、供給電極電圧から、フィルタおよびトリガの結合を介して分離され得る。
Claims (14)
- 真空アーク炉(10)における電極ギャップの閉ループ制御のための方法であって、溶解材料の表面からの溶解電極の電極ギャップは、液滴短絡速度の関数である閉ループ制御を受け、前記方法において、
検出された液滴短絡(80)のヒストグラム(70)が、少なくとも1つの液滴短絡基準(76)に基づいて生成され、
前記ヒストグラム(70)は、サブエリア(72)に再分割され、
前記ヒストグラム(70)の特性サブエリア(74)が閉ループ制御目的のために選択され、
選択された前記サブエリア(74)に関連し得る前記液滴短絡(80)に基づいて、電極ギャップが閉ループ制御を受けることを特徴とする、方法。 - 特性サブエリア(74)を選択するために、好ましくは再溶解プロセスのフェーズの関数である重み付け関数が、異なるサブエリア(72)に適用され、
最も強く重み付けられた特性サブエリア(74)に対応して、予め定められたコントローラ挙動、特に対応する閉ループ制御増幅および対応するコントローラ挙動が選択され、
前記電極ギャップの閉ループ制御は、前記特性サブエリア(74)に関連し得る前記液滴短絡(80)の関数である選択された前記コントローラ挙動に基づいて実現されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - 前記液滴短絡基準(76)は、少なくとも、振幅低下値、短絡発生頻度、短絡継続期間、液滴間隔、または振幅プロファイルを含み、
基準パラメータは、少なくとも2つのサブエリア(72)にさらに分割されることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。 - 前記ヒストグラム(70)は、サブエリア(72)が二次元または多次元のサブエリア(72)であるように、少なくとも2つの液滴短絡基準(76)を表わすことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
- 再溶解プロセスの開始または予め定められたフェーズにおいて、特性サブエリア(74)が新規に選択され、
好ましくは、サブエリアに基づく閉ループ制御が、再溶解プロセスの特定のフェーズにおいてのみ実行されることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。 - 前記ヒストグラム(70)は、再溶解プロセスの少なくとも1つのフェーズの間繰り返され、特に連続的に新たに生成され、
少なくとも、以前のヒストグラム(70)に対する新規に生成されたヒストグラム(70)の前記サブエリア(72)の偏差の場合において、プリセット可能な特性サブエリア(74)が新規に選択されることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。 - 電圧振幅降下値が、1mVから1Vの範囲で、好ましくは5mVから6Vの範囲で、特に1Vから3Vの範囲において、液滴短絡基準(76)として記録されることを特徴とする、請求項3に記載の方法。
- 短絡期間は、0.3μsから300msまでの範囲、好ましくは3μsから30msまでの範囲、特に10μsから70μsまでの範囲における液滴短絡基準(76)として記録されることを特徴とする、請求項3に記載の方法。
- 振幅プロファイルは、マルチスケールダイアグラムによって、特に液滴短絡信号(82)のウェーブレット変換によって記述され、
前記マルチスケールダイアグラムは、振幅プロファイル基準として用いられることを特徴とする、請求項3に記載の方法。 - 前記液滴短絡(80)が検出されると、電源ネットワークにおける障害が考慮されることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法。
- 液滴短絡を検出するための液滴短絡検出装置(44)と、溶解材料(32)の表面からの溶解電極(30)の電極ギャップの閉ループ制御のための電極ギャップ閉ループ制御装置(46)とを備える真空アーク炉(10)における電極ギャップの閉ループ制御のための装置(40)であって、前記電極ギャップ閉ループ制御装置(46)は、前記電極ギャップに、検出された前記液滴短絡(80)の関数である閉ループ制御を適用し、
ヒストグラム(70)における少なくとも1つの予め定められた液滴短絡基準(76)に応じて前記短絡を分配するための液滴短絡ヒストグラム装置(48)と、液滴短絡ヒストグラム(70)から特性サブエリア(74)を選択するためのサブエリア選択装置(50)とが含まれ、
前記閉ループ制御装置(46)は、前記特性サブエリア(74)に関連し得る液滴短絡(80)に関して閉ループ制御を実行することができることを特徴とする、装置。 - 前記サブエリア選択装置(50)は、前記ヒストグラム(70)の液滴短絡サブエリア(72)を規定するためのサブエリア規定部(52)と、前記ヒストグラム(70)のサブエリア(72)に重み付けするための重み付け関数部(54)とを含み、最も強く重み付けられたサブエリア(72)が、特性サブエリア(74)として選択され得ることを特徴とする、請求項11に記載の装置。
- 前記特性サブエリア(74)に基づいて、一組の閉ループ制御パラメータ、特に閉ループ制御増幅および閉ループ制御挙動を選択するとともに、前記パラメータが前記閉ループ制御装置(46)に割り当てる、閉ループ制御パラメータ選択装置(56)が含まれることを特徴とする、請求項11または12に記載の装置。
- 前記液滴短絡検出装置(44)は、液滴短絡検出の間、電源ネットワーク(42)における障害を抑制することができるネットワーク電圧フィルタ部(58)を含むことを特徴とする、請求項11〜13のいずれか1項に記載の装置。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180048284A (ko) * | 2016-11-01 | 2018-05-10 | 에이.핀클 앤드 선스 컴퍼니 | 파워 입력에 기초하여 진공 아크 재용융 화로를 제어하기 위한 시스템 및 방법 |
US12088413B2 (en) | 2015-05-01 | 2024-09-10 | Sony Group Corporation | Information processing apparatus, communication system, information processing method and program |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102014014407A1 (de) * | 2014-10-02 | 2016-04-07 | Ald Vacuum Technologies Gmbh | Umschmelzofen mit einer Wägezelle |
DE102016124481B4 (de) * | 2016-12-15 | 2021-07-01 | Ald Vacuum Technologies Gmbh | Schmelzanlage und –verfahren |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63502785A (ja) * | 1985-12-13 | 1988-10-13 | レイボルド−ヘレウス ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 真空ア−ク炉内の被溶解材料表面からの溶解電極の距離を制御する装置 |
JPH0254892A (ja) * | 1988-08-19 | 1990-02-23 | Nkk Corp | 直流アーク炉の電圧制御方法 |
JPH0869877A (ja) * | 1994-08-30 | 1996-03-12 | Daido Steel Co Ltd | 真空アーク溶解装置の電極制御方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1169604B (de) * | 1963-05-24 | 1964-05-06 | Heraeus Gmbh W C | Verfahren zur Regelung des Vorschubs einer Abschmelzelektrode in einem Vakuum-Lichtbogenofen |
DE1960936B2 (de) * | 1969-12-04 | 1971-11-04 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Verfahren und anordnung zur regelung der eintauchtiefe von abschmelzelektroden in die schlackenschicht beim elektro schlacke umschmelzen |
US4303797A (en) * | 1980-06-20 | 1981-12-01 | Consarc Corporation | Method and apparatus for controlling electrode drive speed in a consumable electrode furnace |
US4578795A (en) * | 1982-12-28 | 1986-03-25 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Drop short control of electrode gap |
DE3817855A1 (de) * | 1987-07-14 | 1989-01-26 | Leybold Ag | Einrichtung fuer die erfassung und auswertung von prozessgroessen, die waehrend des umschmelzens einer elektrode zu einem metallblock im vakuumlichtbogenofen auftreten |
US4881239A (en) | 1987-07-14 | 1989-11-14 | Leybold Aktiengesellschaft | Fault detection during remelt of electrodes into blocks |
JP2905368B2 (ja) | 1993-08-10 | 1999-06-14 | 富士通株式会社 | 誤り検出・訂正方法 |
US5708677A (en) * | 1995-04-21 | 1998-01-13 | Sandia Corporation | Arc voltage distribution skewness as an indicator of electrode gap during vacuum arc remelting |
US5621751A (en) * | 1995-04-21 | 1997-04-15 | Sandia Corporation | Controlling electrode gap during vacuum arc remelting at low melting current |
US5930284A (en) * | 1997-01-15 | 1999-07-27 | Sandia Corporation | Multiple input electrode gap controller |
US6019811A (en) * | 1997-08-13 | 2000-02-01 | Sandia Corporation | Metals processing control by counting molten metal droplets |
US6115404A (en) * | 1999-02-03 | 2000-09-05 | Sandia Corporation | Dynamic control of remelting processes |
US8077754B1 (en) * | 2006-08-08 | 2011-12-13 | Williamson Rodney L | Pool power control in remelting systems |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63502785A (ja) * | 1985-12-13 | 1988-10-13 | レイボルド−ヘレウス ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 真空ア−ク炉内の被溶解材料表面からの溶解電極の距離を制御する装置 |
JPH0254892A (ja) * | 1988-08-19 | 1990-02-23 | Nkk Corp | 直流アーク炉の電圧制御方法 |
JPH0869877A (ja) * | 1994-08-30 | 1996-03-12 | Daido Steel Co Ltd | 真空アーク溶解装置の電極制御方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US12088413B2 (en) | 2015-05-01 | 2024-09-10 | Sony Group Corporation | Information processing apparatus, communication system, information processing method and program |
KR20180048284A (ko) * | 2016-11-01 | 2018-05-10 | 에이.핀클 앤드 선스 컴퍼니 | 파워 입력에 기초하여 진공 아크 재용융 화로를 제어하기 위한 시스템 및 방법 |
JP2018070993A (ja) * | 2016-11-01 | 2018-05-10 | エイ・フィンクル・アンド・サンズ・カンパニー | 電力入力に基づき真空アーク再溶解炉を制御するためのシステムおよび方法 |
KR102035386B1 (ko) | 2016-11-01 | 2019-10-22 | 에이.핀클 앤드 선스 컴퍼니 | 파워 입력에 기초하여 진공 아크 재용융 화로를 제어하기 위한 시스템 및 방법 |
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